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    晶柱綜合檢測設備制造技術

    技術編號:23397473 閱讀:33 留言:0更新日期:2020-02-22 10:10
    本發明專利技術公開一種晶柱綜合檢測設備,包括有機架、存放料架、上下料裝置、前升降裝置、后升降裝置、第一檢測裝置、第二檢測裝置、第三檢測裝置以及第四檢測裝置;該機架上由前往后依次具有第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,且機架上設置有上輸送槽和下輸送槽,該上輸送槽中設置有上輸送機構,該下輸送槽位于上輸送槽的正下方,下輸送槽中設置有下輸送機構;通過配合利用各個裝置,使得本設備可對晶柱進行高度、內部瑕疵、平行度、垂直度和寬度、重量進行自動檢測,并根據檢測結果進行打標和分離,取代了傳統之依靠人工完成的方式,有效提高了檢測效率,并可保證檢測質量,為生產作業帶來了便利。

    Crystal column comprehensive testing equipment

    【技術實現步驟摘要】
    晶柱綜合檢測設備
    本專利技術涉及半導體檢測領域技術,尤其是指一種晶柱綜合檢測設備。
    技術介紹
    目前硅材料是電子工業中重要的半導體材料。硅是地球上最豐富的元素之一,占地殼的四分之一,以硅酸鹽和氧化物的形式存在,常見的砂和砂石都是二氧化硅,只是純度不同,以石英純度最高。制造半導體芯片的硅片首先要經過還原制成高純度的單質硅。作為半導體芯片材料,除了純度高以外,還需要長成均勻、完整、無缺陷的晶體。目前普遍采用以一小顆單晶硅生長出晶體。這一顆單晶硅就像一顆“種子”,周圍的硅原子會以和它一樣的排列順序在其周圍生長,生成純度高、均勻的晶體。生長出來的晶體通常為圓柱形,也稱為晶柱。晶柱生長出來后,需要把它切割成片狀并拋光,以制成硅晶片。然而,晶柱在生成的過程中,由于各種因素,如參數的控制等,會使得各個晶柱的高度、重量、平行度和寬度等不一致,并且有些晶柱內部還會形成有瑕疵,因此,晶柱在生成后和出貨前均需要對其進行各項指標的檢測,以保證出貨產品的質量;目前,對晶柱各項指標的檢測主要依靠人工完成,效率低,并且檢測質量難以保證。因此,有必要研究一種方案以解決上述問題。
    技術實現思路
    有鑒于此,本專利技術針對現有技術存在之缺失,其主要目的是提供一種晶柱綜合檢測設備,其可對晶柱的各項指標進行綜合檢測,并可保證檢測質量。為實現上述目的,本專利技術采用如下之技術方案:一種晶柱綜合檢測設備,包括有機架、存放料架、上下料裝置、前升降裝置、后升降裝置、第一檢測裝置、第二檢測裝置、第三檢測裝置以及第四檢測裝置;該機架上由前往后依次具有第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,且機架上設置有上輸送槽和下輸送槽,該上輸送槽和下輸送槽均貫穿第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,該上輸送槽中設置有上輸送機構,該下輸送槽位于上輸送槽的正下方,下輸送槽中設置有下輸送機構;該存放料架設置于機架的前側;該上下料裝置設置于機架上并位于存放料架的側旁;該前升降裝置設置于上輸送槽的輸入端和下輸送槽的輸出端之間;該后升降裝置設置于上輸出槽的輸出端和下輸送槽的輸入端之間;該第一檢測裝置設置于第一檢測工站內,第一檢測裝置包括有測距傳感器,該測距傳感器位于上輸送槽的正上方;該第二檢測裝置設置于第二檢測工站內,該第二檢測裝置包括有第一升降旋轉模塊、IR光源和取像模塊,該第一升降旋轉模塊位于上輸送槽的正下方,該IR光源和取像模塊分別位于上輸送槽的上方兩側;該第三檢測裝置設置于第三檢測工站內,該第三檢測裝置包括有第二升降旋轉模塊和兩組光電傳感器,該第二升降旋轉模塊位于上輸送槽的正下方,該兩組光電傳感器位于上輸送槽的上方兩側并彼此正對;該第四檢測裝置設置于第四檢測工站內,該第四檢測裝置包括有升降模塊、稱重傳感器和打標機構,該升降模塊位于上輸送槽的正下方,該稱重傳感器設置于升降模塊上,該打標機構位于上輸送槽的上方一側。作為一種優選方案,所述存放料架為多層式存放料架,每一層上均設置有輸送裝置,且存放料架上具有升降機構,該升降機構位于上下料裝置的側旁。作為一種優選方案,所述上下料裝置為多軸式機械手。作為一種優選方案,所述上輸送槽的兩側內壁均設置有便于托盤輸送的滑輪,該上輸送機構為皮帶式輸送機構,且上輸送機構為沿上輸送槽延伸方向并排設置的多個。作為一種優選方案,所述下輸送槽的兩側內壁均設置有便于托盤輸送的滑輪,該下輸送機構為皮帶式輸送機構,且下輸送機構為沿下輸送槽延伸方向并排設置的多個。作為一種優選方案,所述前升降裝置包括有第一升降架和第一驅動機構,該第一升降架可上下活動地設置于上輸送槽的輸入端和下輸送槽的輸出端之間,第一升降架具有第一料槽,第一料槽中設置有第一輸送機構;該第一驅動機構設置于機架上并帶動第一升降架上下活動。作為一種優選方案,所述后升降裝置包括有第二升降架和第二驅動機構,該第二升降架可上下活動地設置于上輸送槽的輸出端和下輸送槽的輸入端之間,第二升降架具有第二料槽,第二料槽中設置有第二輸送機構;該第二驅動機構設置于機架上并帶動第二升降架上下活動。作為一種優選方案,所述第一升降旋轉模塊包括有第一升降臺、第一對接臺、第一升降驅動機構和第一旋轉驅動機構;該第一升降臺可上下活動地設置于機架上,該第一對接臺可旋轉地設置于第一升降臺上并隨第一升降臺上下活動,該第一升降驅動機構設置于機架上并帶動第一升降臺上下活動,該第一旋轉驅動機構設置于第一升降臺上并帶動第一對接臺旋轉。作為一種優選方案,所述第二升降旋轉模塊包括有第二升降臺、第二對接臺、第二升降驅動機構和第二旋轉驅動機構;該第二升降臺可上下活動地設置于機架上,該第二對接臺可旋轉地設置于第二升降臺上并隨第二升降臺上下活動,該第二升降驅動機構設置于機架上并帶動第二升降臺上下活動,該第二旋轉驅動機構設置于第二升降臺上并帶動第二對接臺旋轉。作為一種優選方案,所述升降模塊包括有第三升降臺、第三對接臺和第三升降驅動機構;該第三升降臺可上下活動地設置于機架上,該第三對接臺可上下活動設置于第三升降臺上并隨第三升降臺上下活動,該稱重傳感器夾設于第三對接臺和第三升降臺之間,該第三升降驅動機構設置于機架上并帶動第三升降臺上下活動。本專利技術與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果,具體而言,由上述技術方案可知:通過配合利用各個裝置,使得本設備可對晶柱進行高度、內部瑕疵、平行度、垂直度和寬度、重量進行自動檢測,并根據檢測結果進行打標和分離,取代了傳統之依靠人工完成的方式,有效提高了檢測效率,并可保證檢測質量,為生產作業帶來了便利。為更清楚地闡述本專利技術的結構特征和功效,下面結合附圖與具體實施例來對本專利技術進行詳細說明。附圖說明圖1是本專利技術之較佳實施例的立體示意圖;圖2是本專利技術之較佳實施例另一角度的立體示意圖;圖3是本專利技術之較佳實施例的截面圖;圖4是本專利技術之較佳實施例另一方向的截面圖;圖5是本專利技術之較佳實施例的局部放大示意圖;圖6是圖5的另一角度示意圖;圖7是圖5的截面圖;圖8是圖5另一方向的截面圖;圖9是本專利技術之較佳實施例中第一檢測工站的放大示意圖;圖10是本專利技術之較佳實施例中第二檢測工站的放大示意圖;圖11是本專利技術之較佳實施例中第三檢測工站的放大示意圖;圖12是本專利技術之較佳實施例中第四檢測工站的放大示意圖;圖13是本專利技術之較佳實施例中晶柱平面檢測的立體圖;圖14是本專利技術之較佳實施例中晶柱平面檢測的主視圖;圖15是本專利技術之較佳實施例中晶柱平面檢測的點陣說明圖。附圖標識說明:10、機架11、第一檢測工站12、第二檢測工站13、第三檢測工站14、第四檢測工站15、上輸送機構16、下輸送機構101、上輸送槽102、下輸送槽103、滑輪104、滑輪20、存放料架21、輸送裝置22、升降機構30、上下料裝置40、前升降裝置41、第一升降架42、第一驅動機構<本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    1.一種晶柱綜合檢測設備,其特征在于:包括有機架、存放料架、上下料裝置、前升降裝置、后升降裝置、第一檢測裝置、第二檢測裝置、第三檢測裝置以及第四檢測裝置;該機架上由前往后依次具有第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,且機架上設置有上輸送槽和下輸送槽,該上輸送槽和下輸送槽均貫穿第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,該上輸送槽中設置有上輸送機構,該下輸送槽位于上輸送槽的正下方,下輸送槽中設置有下輸送機構;該存放料架設置于機架的前側;該上下料裝置設置于機架上并位于存放料架的側旁;該前升降裝置設置于上輸送槽的輸入端和下輸送槽的輸出端之間;該后升降裝置設置于上輸出槽的輸出端和下輸送槽的輸入端之間;該第一檢測裝置設置于第一檢測工站內,第一檢測裝置包括有測距傳感器,該測距傳感器位于上輸送槽的正上方;該第二檢測裝置設置于第二檢測工站內,該第二檢測裝置包括有第一升降旋轉模塊、IR光源和取像模塊,該第一升降旋轉模塊位于上輸送槽的正下方,該IR光源和取像模塊分別位于上輸送槽的上方兩側;該第三檢測裝置設置于第三檢測工站內,該第三檢測裝置包括有第二升降旋轉模塊和兩組光電傳感器,該第二升降旋轉模塊位于上輸送槽的正下方,該兩組光電傳感器位于上輸送槽的上方兩側并彼此正對;該第四檢測裝置設置于第四檢測工站內,該第四檢測裝置包括有升降模塊、稱重傳感器和打標機構,該升降模塊位于上輸送槽的正下方,該稱重傳感器設置于升降模塊上,該打標機構位于上輸送槽的上方一側。/n...

    【技術特征摘要】
    1.一種晶柱綜合檢測設備,其特征在于:包括有機架、存放料架、上下料裝置、前升降裝置、后升降裝置、第一檢測裝置、第二檢測裝置、第三檢測裝置以及第四檢測裝置;該機架上由前往后依次具有第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,且機架上設置有上輸送槽和下輸送槽,該上輸送槽和下輸送槽均貫穿第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,該上輸送槽中設置有上輸送機構,該下輸送槽位于上輸送槽的正下方,下輸送槽中設置有下輸送機構;該存放料架設置于機架的前側;該上下料裝置設置于機架上并位于存放料架的側旁;該前升降裝置設置于上輸送槽的輸入端和下輸送槽的輸出端之間;該后升降裝置設置于上輸出槽的輸出端和下輸送槽的輸入端之間;該第一檢測裝置設置于第一檢測工站內,第一檢測裝置包括有測距傳感器,該測距傳感器位于上輸送槽的正上方;該第二檢測裝置設置于第二檢測工站內,該第二檢測裝置包括有第一升降旋轉模塊、IR光源和取像模塊,該第一升降旋轉模塊位于上輸送槽的正下方,該IR光源和取像模塊分別位于上輸送槽的上方兩側;該第三檢測裝置設置于第三檢測工站內,該第三檢測裝置包括有第二升降旋轉模塊和兩組光電傳感器,該第二升降旋轉模塊位于上輸送槽的正下方,該兩組光電傳感器位于上輸送槽的上方兩側并彼此正對;該第四檢測裝置設置于第四檢測工站內,該第四檢測裝置包括有升降模塊、稱重傳感器和打標機構,該升降模塊位于上輸送槽的正下方,該稱重傳感器設置于升降模塊上,該打標機構位于上輸送槽的上方一側。


    2.根據權利要求1所述的晶柱綜合檢測設備,其特征在于:所述存放料架為多層式存放料架,每一層上均設置有輸送裝置,且存放料架上具有升降機構,該升降機構位于上下料裝置的側旁。


    3.根據權利要求1所述的晶柱綜合檢測設備,其特征在于:所述上下料裝置為多軸式機械手。


    4.根據權利要求1所述的晶柱綜合檢測設備,其特征在于:所述上輸送槽的兩側內壁均設置有便于托盤輸送的滑輪,該上輸送機構為皮帶式輸送機構,且上輸送機構為沿上輸送槽延伸方向并排設置的多個。


    5.根據權利要求1所述的晶柱綜合檢測設...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:林火旺劉立清廖文民
    申請(專利權)人:東莞市慶穎智能自動化科技有限公司
    類型:發明
    國別省市:廣東;44

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