一種用于基板處理的噴淋裝置以及一種基板處理設備制造方法及圖紙

一種用于基板處理的噴淋裝置以及一種基板處理設備，其中噴淋裝置包括：溶液分配單元，各所述溶液分配單元分別對應于所述基板的不同位置，所述溶液分配單元向待處理基板上噴淋處理溶液，不同位置的所述溶液分配單元之間互不連通；流量控制單元，設于所述溶液分配單元上控制所述溶液分配單元的噴液流量；沿所述基板高度降低方向各所述溶液分配單元的預設噴液流量減小。通過調節與基板不同位置處的噴液流量，彌補由于基板表面刻蝕液流速不一致導致的刻蝕速率差異，克服積水效應，使得基板的刻蝕效果均勻。

A spray device for substrate treatment and a substrate treatment device

【技術實現步驟摘要】
一種用于基板處理的噴淋裝置以及一種基板處理設備
本技術涉及基板加工
，具體涉及一種用于基板處理的噴淋裝置以及一種基板處理設備。
技術介紹
濕法刻蝕是利用刻蝕液或藥液對玻璃表面光刻膠未覆蓋區域的金屬層進行刻蝕，從而形成所需要的金屬線路。刻蝕對金屬線路的線寬、線路坡度角、線路均勻性等要求高，因此濕法刻蝕工藝能力直接影響產品的良率。但現有技術中采用上述濕法刻蝕的刻蝕方式進行基板刻蝕時，由于藥液噴灑在基板后從基板四周流出，造成基板四周的藥液置換速率快而基板中間的藥液置換速率慢，導致基板四周部分刻蝕的快而基板中間部分刻蝕的慢(簡稱積水效應)，最終導致藥液對整個基板刻蝕時，出現線寬大小分布不均勻、坡度角波動大等不良，而這些不良會影響到產品良率。更需要指出的是，隨著玻璃基板尺寸的大型化發展，和金屬膜層厚度增加，刻蝕過程中由于積水效應導致刻蝕能力不均勻的現象就越明顯。
技術實現思路
因此，本技術要解決的技術問題在于克服現有技術中的刻蝕過程中由于積水效應導致的刻蝕不均勻的缺陷，從而提供一種用于基板處理的噴淋裝置以及一種基板處理設備。為此，本技術的技術方案如下：一種用于基板處理的噴淋裝置，其包括：溶液分配單元，各所述溶液分配單元分別對應于所述基板的不同位置，所述溶液分配單元向待處理基板上噴淋處理溶液，不同位置的所述溶液分配單元之間互不連通；流量控制單元，設于所述溶液分配單元上控制所述溶液分配單元的噴液流量；沿所述基板高度降低方向各所述溶液分配單元的預設噴液流量減小。<br>進一步地，所述溶液分配單元包括水平設置的若干溶液管以及設于所述溶液管上的若干噴嘴，各所述溶液管平行設置。進一步地，所述溶液管為蛇形彎折管，其具均勻布置的上彎折點和下彎折點，所述上彎折點和下彎折點交叉分布。進一步地，所述蛇形彎折管所在平面平行于所述基板。進一步地，所述噴嘴設于所述蛇形彎折管的彎折處。進一步地，所述流量控制單元包括流量控制閥，所述流量控制閥設于與所述溶液管連通的溶液供應管上。一種基板處理設備，其包括：基板傳輸裝置，支撐并運輸所述基板；以及如上述任意一項所述的用于基板處理的噴淋裝置，所述噴淋裝置向待處理基板噴淋處理溶液。進一步地，所述基板垂直于地面運輸，所述噴淋裝置的溶液管沿所述基板的高度方向分布。進一步地，所述基板的水平兩側分別設置有所述噴淋裝置。進一步地，所述基板相對于地面傾斜設置，所述噴淋裝置設于所述基板的上方，所述溶液管分布在平行于所述基板的平面內。本技術技術方案，具有如下優點：1.本技術提供的噴淋裝置，其包括：溶液分配單元，各所述溶液分配單元分別對應于所述基板的不同位置，所述溶液分配單元向待處理基板上噴淋處理溶液，不同位置的所述溶液分配單元之間互不連通；流量控制單元，設于所述溶液分配單元上控制所述溶液分配單元的噴液流量；沿所述基板高度降低方向各所述溶液分配單元的預設噴液流量減小。通過將與基板對應的不同高度的溶液分配單元的噴液流量設置為不同，使低處的溶液分配單元的噴液流量小于高處的溶液分配單元的噴液流量；通過調節與基板不同位置處的噴液流量，由于基板下方噴嘴的噴射流量更小，減輕了基板下方的溶液積聚，從而使基板的噴淋更均勻；減小積水效應的影響，使得基板的刻蝕效果均勻。2.本技術提供的噴淋裝置，所述溶液管為蛇形彎折管，其具均勻布置的上彎折點和下彎折點，所述上彎折點和下彎折點交叉分布；所述蛇形彎折管所在平面平行于所述基板；所述噴嘴設于所述蛇形彎折管的彎折處。通過將溶液管設置為蛇形彎折管，可減少噴淋溶液管的布置數量，且提高了單個溶液管噴淋到基板上的噴淋溶液的噴淋面積；將噴嘴設于所述蛇形彎折管的彎折處，使噴嘴錯開布置，使得噴淋更加均勻，且分別設置于彎折管的上彎折點和下彎折點，提高了噴淋溶液在基板表面豎直方向的噴淋面積和均勻性。3.本技術提供的基板處理設備，由于包括上述噴淋裝置，因此具備該噴淋裝置所帶來的一切優點。附圖說明為了更清楚地說明本技術具體實施方式或現有技術中的技術方案，下面將對具體實施方式或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本技術的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為現有技術中的噴淋裝置結構示意圖；圖2為本技術的噴淋裝置結構示意圖。附圖標記說明：1－基板；2－溶液分配單元；3－流量控制單元；4－溶液管；41－上彎折點；42－下彎折點；5－噴嘴；6－流量控制閥；7－顯示器；8－刻蝕腔室；9－溶液供應管。具體實施方式下面將結合附圖對本技術的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。在本技術的描述中，需要說明的是，術語“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本技術和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本技術的限制。此外，術語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。在本技術的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本技術中的具體含義。實施例1如圖1所示為現有技術中的噴淋裝置的結構示意圖，其中基板1’豎直運輸，基板1’前后兩側均設置有溶液管4’，溶液管4’為沿豎向設置的，溶液管4’上設置有若干噴嘴5’，由于溶液管4’豎直設置且同一根容液管4’上的各個噴嘴5’噴淋到基板1’上的流量大致相同，即造成了噴淋到基板1’表面的不同高度的噴液流量相同，導致基板1’表面的流速不均勻，位于基板1’下部由于存在積水效應，導致基板1’的刻蝕效果不均勻。如圖2所示，本技術記載了一種基板處理設備，尤其指一種基板刻蝕設備，其包括設于刻蝕腔室8內的基板傳輸裝置(未在圖中示出)以及用于基板處理的噴淋裝置，其中基板傳輸裝置用于支撐并運輸基板1，基板1沿圖2中左右方向移動；噴淋裝置向待處理基板1噴淋處理溶液，本實施例中的基板刻蝕設備為立式刻蝕設備，具體指基板1為豎向放置，在基板1的水平兩側分別設置有噴淋裝置。其中噴淋裝置包括溶液分配單元和流量控制單元，各溶液分配單元分別對應于基板的不同位置本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種用于基板處理的噴淋裝置，其特征在于包括：/n溶液分配單元，各所述溶液分配單元分別對應于所述基板的不同位置，所述溶液分配單元向待處理基板上噴淋處理溶液，不同位置的所述溶液分配單元之間互不連通；/n流量控制單元，設于所述溶液分配單元上控制所述溶液分配單元的噴液流量；/n沿所述基板高度降低方向各所述溶液分配單元的預設噴液流量減小。/n

【技術特征摘要】
1.一種用于基板處理的噴淋裝置，其特征在于包括：
溶液分配單元，各所述溶液分配單元分別對應于所述基板的不同位置，所述溶液分配單元向待處理基板上噴淋處理溶液，不同位置的所述溶液分配單元之間互不連通；
流量控制單元，設于所述溶液分配單元上控制所述溶液分配單元的噴液流量；
沿所述基板高度降低方向各所述溶液分配單元的預設噴液流量減小。


2.根據權利要求1所述的用于基板處理的噴淋裝置，其特征在于：所述溶液分配單元包括水平設置的若干溶液管以及設于所述溶液管上的若干噴嘴，各所述溶液管平行設置。


3.根據權利要求2所述的用于基板處理的噴淋裝置，其特征在于：所述溶液管為蛇形彎折管，其具均勻布置的上彎折點和下彎折點，所述上彎折點和下彎折點交叉分布。


4.根據權利要求3所述的用于基板處理的噴淋裝置，其特征在于：所述蛇形彎折管所在平面平行于所述基板。


5.根據權利要求3或4所述的用于基板處...

【專利技術屬性】
技術研發人員：嚴志峰，高裕弟，孫劍，葛亮，孫紅帥，
申請(專利權)人：九江維信諾科技有限公司，
類型：新型
國別省市：江西;36