一種口罩的消毒處理設備制造技術

本發明專利技術公開了一種口罩的消毒處理設備，涉及一種口罩處理的設備，包括立柱支架，所述的立柱支架上設有平板底座，所述的平板底座上依次設有第一清洗室、第二清洗室和干燥室，所述的立柱支架上還設有絲桿，絲桿上套放有沉降裝置，所述的沉降裝置由沉降機構、旋轉機構和U型網籃組成。本發明專利技術設備能夠自動的完成對口罩的消毒滅菌及烘干處理，增強了口罩的再利用性能，適合大批量的處理。

A kind of equipment for disinfection and treatment of masks

【技術實現步驟摘要】
一種口罩的消毒處理設備
本專利技術涉及一種口罩處理的設備，具體涉及一種口罩的消毒處理設備。
技術介紹
口罩是現在人們生活中必不可少的防護設備，口罩的用途較為廣泛，可以遮擋霧霾、水汽、沙塵等，還可以用于隔絕病毒、病菌等。現有的口罩多為一次性的，用完丟棄不僅浪費了物料資源，而且還會影響環境衛生。對此人們研發了類型多樣的可重復利用口罩，而對于口罩的重復利用多為使用者人為自行處理，如再次清洗等操作。而目前還無有效的適用于工廠可以批量清潔消毒口罩的設備存在。
技術實現思路
本專利技術的目的是針對現有的問題，提供了一種口罩的消毒處理設備。本專利技術是通過以下技術方案實現的：一種口罩的消毒處理設備，包括立柱支架，所述的立柱支架上設有平板底座，所述的平板底座上依次設有第一清洗室、第二清洗室和干燥室，所述的立柱支架上還設有絲桿，絲桿上套放有沉降裝置，所述的沉降裝置由沉降機構、旋轉機構和U型網籃組成。進一步的，所述的平板底座位于兩立柱支架間的底部，呈水平放置。進一步的，所述的第一清洗室、第二清洗室和干燥室在平板底座上由左向右依次設置。進一步的，所述的第一清洗室的左側底部設有第一排污管，第一排污管上設有第一電磁閥，在第一清洗室的內部底面中央設有第一超聲發射器；所述的第二清洗室的左側底部設有第二排污管，第二排污管上設有第二電磁閥，在第二清洗室的內部底面中央設有第二超聲發射器；所述的干燥室內部的內側壁和底面中央均設有熱風干燥機。進一步的，所述的絲桿位于兩立柱支架間的頂部，在平板底座的正上方，呈水平放置。進一步的，所述的沉降機構由絲桿套、氣缸和氣缸桿組成，氣缸固定設于絲桿套的正下方，氣缸桿的底部連接固定有橫板；所述的旋轉機構通過橫板固定于沉降機構的正下方，旋轉機構由旋轉電機和轉軸組成；所述的U型網籃設于旋轉機構的正下方，所述的轉軸固定焊接于U型網籃的內部底面中央。進一步的，所述的氣缸帶氣缸桿的一端朝下，其頂部通過螺釘固定在絲桿套的正下方；所述的氣缸桿的底部焊接固定于橫板的上表面；所述的旋轉電機頂部通過螺釘固定在橫板的正下方；所述的轉軸與旋轉電機相連，旋轉電機能夠通過轉軸帶動U型網籃旋轉運動。進一步的，所述的左側立柱支架上還固定有絲桿電機，所述絲桿電機的輸出端與絲桿相連，能夠帶動絲桿進行旋轉運動。進一步的，所述的第一清洗室內盛放有第一清洗液，所述的第一清洗液由如下對應重量份的物質組成：4~7份納米二氧化鈦、3~6份壬基酚聚氧乙烯醚、1~3份六偏磷酸鈉、2~5份砭石粉、150~160份去離子水。進一步的，所述的第二清洗室內盛放有第二清洗液，所述的第二清洗液由如下對應重量份的物質組成：4~8份茶樹精油、5~10份十二烷基苯磺酸鈉、200~220份去離子水。本專利技術相比現有技術具有以下優點：本專利技術提供了一種口罩的消毒處理設備，其中設置了第一清洗室、第二清洗室和干燥室，用于對口罩進行兩次清洗消毒殺菌處理和一次自動干燥處理，保證了口罩的潔凈和干燥，設置的絲桿和沉降裝置保證了對口罩的自動轉換工序及旋轉清洗操作，在第一清洗室和第二清洗室內放置的第一清洗液和第二清洗液能夠有效的保證口罩的消毒滅菌目的，其中第一清潔液能夠在超聲的配合作用下大幅提升對有害病菌等成分的滅活，處理的效果好。本專利技術設備能夠自動的完成對口罩的消毒滅菌及烘干處理，增強了口罩的再利用性能，適合大批量的處理，極具推廣應用價值。附圖說明圖1是本專利技術設備的整體結構示意圖。具體實施方式為了對本專利技術做更進一步的解釋說明，請參閱附圖。一種口罩的消毒處理設備，包括立柱支架1，所述的立柱支架1上設有平板底座2，所述的平板底座2上依次設有第一清洗室3、第二清洗室4和干燥室5，所述的立柱支架1上還設有絲桿6，絲桿6上套放有沉降裝置，所述的沉降裝置由沉降機構、旋轉機構和U型網籃組成。所述的平板底座2位于兩立柱支架1間的底部，呈水平放置。所述的第一清洗室3、第二清洗室4和干燥室5在平板底座2上由左向右依次設置。所述的第一清洗室3的左側底部設有第一排污管16，第一排污管16上設有第一電磁閥17，在第一清洗室3的內部底面中央設有第一超聲發射器15；所述的第二清洗室4的左側底部設有第二排污管18，第二排污管18上設有第二電磁閥19，在第二清洗室4的內部底面中央設有第二超聲發射器21；所述的干燥室5內部的內側壁和底面中央均設有熱風干燥機20。所述的絲桿6位于兩立柱支架1間的頂部，在平板底座2的正上方，呈水平放置。所述的沉降機構由絲桿套8、氣缸9和氣缸桿10組成，氣缸固定9設于絲桿套8的正下方，氣缸桿10的底部連接固定有橫板11；所述的旋轉機構通過橫板11固定于沉降機構的正下方，旋轉機構由旋轉電機12和轉軸13組成；所述的U型網籃14設于旋轉機構的正下方，所述的轉軸13固定焊接于U型網籃14的內部底面中央。所述的氣缸6帶氣缸桿10的一端朝下，其頂部通過螺釘固定在絲桿套8的正下方；所述的氣缸桿10的底部焊接固定于橫板11的上表面；所述的旋轉電機12頂部通過螺釘固定在橫板11的正下方；所述的轉軸13與旋轉電機12相連，旋轉電機12能夠通過轉軸13帶動U型網籃14旋轉運動。所述的左側立柱支架1上還固定有絲桿電機7，所述絲桿電機7的輸出端與絲桿6相連，能夠帶動絲桿6進行旋轉運動。所述的第一清洗室3內盛放有第一清洗液，所述的第一清洗液由如下對應重量份的物質組成：4~7份納米二氧化鈦、3~6份壬基酚聚氧乙烯醚、1~3份六偏磷酸鈉、2~5份砭石粉、150~160份去離子水。所述的第二清洗室4內盛放有第二清洗液，所述的第二清洗液由如下對應重量份的物質組成：4~8份茶樹精油、5~10份十二烷基苯磺酸鈉、200~220份去離子水。實施例1所述的第一清洗室3內盛放有第一清洗液，所述的第一清洗液由如下對應重量份的物質組成：4份納米二氧化鈦、3份壬基酚聚氧乙烯醚、1份六偏磷酸鈉、2份砭石粉、150份去離子水。所述的第二清洗室4內盛放有第二清洗液，所述的第二清洗液由如下對應重量份的物質組成：4份茶樹精油、5份十二烷基苯磺酸鈉、200份去離子水。實施例2所述的第一清洗室3內盛放有第一清洗液，所述的第一清洗液由如下對應重量份的物質組成：6份納米二氧化鈦、5份壬基酚聚氧乙烯醚、2份六偏磷酸鈉、4份砭石粉、155份去離子水。所述的第二清洗室4內盛放有第二清洗液，所述的第二清洗液由如下對應重量份的物質組成：6份茶樹精油、8份十二烷基苯磺酸鈉、210份去離子水。實施例3所述的第一清洗室3內盛放有第一清洗液，所述的第一清洗液由如下對應重量份的物質組成：7份納米二氧化鈦、6份壬基酚聚氧乙烯醚、3份六偏磷酸鈉、5份砭石粉、160份去離子水。所述的第二清洗室4內盛放有第二清洗液，所述的第二清洗液由如下對應重量份的物質組成：8份茶樹精油、10份十二烷基苯磺酸鈉、220份去離子水。<本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種口罩的消毒處理設備，包括立柱支架，其特征在于，所述的立柱支架上設有平板底座，所述的平板底座上依次設有第一清洗室、第二清洗室和干燥室，所述的立柱支架上還設有絲桿，絲桿上套放有沉降裝置，所述的沉降裝置由沉降機構、旋轉機構和U型網籃組成。/n

【技術特征摘要】
1.一種口罩的消毒處理設備，包括立柱支架，其特征在于，所述的立柱支架上設有平板底座，所述的平板底座上依次設有第一清洗室、第二清洗室和干燥室，所述的立柱支架上還設有絲桿，絲桿上套放有沉降裝置，所述的沉降裝置由沉降機構、旋轉機構和U型網籃組成。


2.根據權利要求1所述的一種口罩的消毒處理設備，其特征在于，所述的平板底座位于兩立柱支架間的底部，呈水平放置。


3.根據權利要求1所述的一種口罩的消毒處理設備，其特征在于，所述的第一清洗室、第二清洗室和干燥室在平板底座上由左向右依次設置。


4.根據權利要求1所述的一種口罩的消毒處理設備，其特征在于，所述的第一清洗室的左側底部設有第一排污管，第一排污管上設有第一電磁閥，在第一清洗室的內部底面中央設有第一超聲發射器；所述的第二清洗室的左側底部設有第二排污管，第二排污管上設有第二電磁閥，在第二清洗室的內部底面中央設有第二超聲發射器；所述的干燥室內部的內側壁和底面中央均設有熱風干燥機。


5.根據權利要求1所述的一種口罩的消毒處理設備，其特征在于，所述的絲桿位于兩立柱支架間的頂部，在平板底座的正上方，呈水平放置。


6.根據權利要求1所述的一種口罩的消毒處理設備，其特征在于，所述的沉降機構由絲桿套、氣缸和氣缸桿組成，氣缸固定設于絲桿套的...

【專利技術屬性】
技術研發人員：郭平，
申請(專利權)人：界首尚嘉工業設計有限公司，
類型：發明
國別省市：安徽;34