本實(shí)用新型專(zhuān)利技術(shù)公開(kāi)了一種鉚腳定位RSC編碼開(kāi)關(guān),包括底蓋、透光盤(pán)、電路板、封蓋,所述容置腔的底面上設(shè)有發(fā)光二極管,所述電路板與透光盤(pán)相對(duì)的端面上設(shè)有光敏二極管,該光敏二極管與所述發(fā)光二極管位相對(duì);所述透光盤(pán)包括上盤(pán)、下盤(pán),所述上盤(pán)和下盤(pán)之間設(shè)有透光層,所述上盤(pán)、透光層、下盤(pán)復(fù)合為透光盤(pán)主體,所述上盤(pán)、下盤(pán)上設(shè)有鏤空的透光環(huán),透光層通過(guò)透光環(huán)裸露出來(lái)的環(huán)形區(qū)域上噴涂有遮光粉層,該遮光粉層的厚度遞增;本實(shí)用新型專(zhuān)利技術(shù)提出的這種鉚腳定位RSC編碼開(kāi)關(guān),通過(guò)對(duì)光電編碼開(kāi)關(guān)中透光盤(pán)的改進(jìn),實(shí)現(xiàn)光電信號(hào)的連續(xù)性調(diào)控。
RSC code switch for rivet positioning
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
鉚腳定位RSC編碼開(kāi)關(guān)
本技術(shù)屬于電子控制器
,具體來(lái)說(shuō),是一種用于工業(yè)參數(shù)調(diào)控的編碼開(kāi)關(guān)。
技術(shù)介紹
旋轉(zhuǎn)編碼開(kāi)關(guān),又稱(chēng)為旋轉(zhuǎn)編碼器;其功用主要在于對(duì)工業(yè)設(shè)備或者其他電器設(shè)備進(jìn)行調(diào)節(jié)或者對(duì)一些轉(zhuǎn)速類(lèi)設(shè)備進(jìn)行轉(zhuǎn)速檢測(cè)。中國(guó)專(zhuān)利文件201420216282.4公開(kāi)了一種編碼開(kāi)關(guān),這種類(lèi)型的編碼開(kāi)關(guān)被稱(chēng)之為“機(jī)械式”編碼開(kāi)關(guān);其工作原理在于通過(guò)不同的接觸片與不同的識(shí)別端子進(jìn)行機(jī)械接觸,由此來(lái)接通不同的信號(hào)電路,也由此發(fā)出不同的電信號(hào)指令;這種機(jī)械式編碼開(kāi)關(guān)的缺點(diǎn)主要在于精度不高、故障率高、止檔元件易損壞等缺點(diǎn)。中國(guó)專(zhuān)利文件201820992826.4公開(kāi)了一種光電編碼開(kāi)關(guān)的光柵盤(pán)結(jié)構(gòu),該專(zhuān)利文件中通過(guò)增加光柵盤(pán)上的透光槽的數(shù)量以及改變透光槽的分布位置,以此來(lái)到達(dá)增加編碼開(kāi)關(guān)調(diào)節(jié)范圍的目的;但是其缺點(diǎn)是,常見(jiàn)的光電編碼開(kāi)關(guān)中,發(fā)光二極管以及光敏二極管的位置,是相對(duì)固定的,在操作過(guò)程中,若是透光槽的位置不在同一個(gè)徑向陣列范圍內(nèi),則無(wú)法實(shí)現(xiàn)光束傳遞。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷,本技術(shù)提出了一種鉚腳定位RSC編碼開(kāi)關(guān),通過(guò)對(duì)光電編碼開(kāi)關(guān)中透光盤(pán)的改進(jìn),實(shí)現(xiàn)光電信號(hào)的連續(xù)性調(diào)控。本技術(shù)的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種鉚腳定位RSC編碼開(kāi)關(guān),包括底蓋、透光盤(pán)、電路板、封蓋,所述底蓋上設(shè)有定位鉚腳,所述底蓋內(nèi)部設(shè)有容置腔,所述透光盤(pán)的中心處插接有旋轉(zhuǎn)軸,所述容置腔的底面設(shè)有沉孔,所述旋轉(zhuǎn)軸的底端可轉(zhuǎn)動(dòng)的伸入所述沉孔內(nèi),所述封蓋設(shè)有通孔,所述旋轉(zhuǎn)軸的頂端穿出所述通孔,所述電路板上設(shè)有中心通孔并通過(guò)該中心通孔套設(shè)在所述旋轉(zhuǎn)軸上,所述電路板位于透光盤(pán)與封蓋之間。所述容置腔的底面上設(shè)有發(fā)光二極管,所述電路板與透光盤(pán)相對(duì)的端面上設(shè)有光敏二極管,該光敏二極管與所述發(fā)光二極管相對(duì)。所述容置腔的側(cè)壁面上設(shè)有凸起條,所述電路板的邊端,抵靠在所述凸起條上,所述凸起條上設(shè)有通電孔,所述電路板上設(shè)有接電柱,該接電柱與所述通電孔相配合,所述通電孔電連接至發(fā)光二極管。所述透光盤(pán)包括上盤(pán)、下盤(pán),所述上盤(pán)和下盤(pán)之間設(shè)有透光層,所述上盤(pán)、透光層、下盤(pán)復(fù)合為透光盤(pán)主體,所述上盤(pán)、下盤(pán)上設(shè)有鏤空的透光環(huán),透光層通過(guò)透光環(huán)裸露出來(lái)的環(huán)形區(qū)域上噴涂有遮光粉層,該遮光粉層的厚度遞增。發(fā)光二極管發(fā)出的光線(xiàn)穿過(guò)透光層裸露出來(lái)的環(huán)形區(qū)域,投射到光敏二極管,由于環(huán)形區(qū)域上噴涂的遮光粉層厚度是逐漸增加的,因此當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)透光盤(pán)時(shí),光敏二極管接收到的光線(xiàn)強(qiáng)度亦不斷變化,最終輸送給光電轉(zhuǎn)換電路的電流強(qiáng)度也逐漸改變。在本技術(shù)中,所述容置腔內(nèi)設(shè)有一用以籠罩發(fā)光二極管的集光柱,該集光柱內(nèi)設(shè)有集光鏡。在本技術(shù)中,所述定位鉚腳設(shè)有六個(gè)。在本技術(shù)中,所述封蓋上設(shè)有間隔分布的數(shù)字檔位標(biāo)識(shí)以及360°連續(xù)分布的刻度檔位標(biāo)識(shí)。與傳統(tǒng)的光電編碼開(kāi)關(guān)相比,本技術(shù)中的這種編碼開(kāi)關(guān),能夠?qū)崿F(xiàn)逐漸遞增或者逐漸減小的參數(shù)控制,具有調(diào)控精度高,范圍廣的優(yōu)點(diǎn)。附圖說(shuō)明圖1為本技術(shù)的結(jié)構(gòu)拆分圖;圖2為本技術(shù)的裝配關(guān)系示意圖;圖3為圖1中透光盤(pán)的分解結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為圖1中集光柱的結(jié)構(gòu)示意圖;圖5為圖1中封蓋的優(yōu)選結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記:底蓋1、容置腔11、沉孔12、發(fā)光二極管13、凸起條14、通電孔15、集光柱16、透光盤(pán)2、旋轉(zhuǎn)軸21、上盤(pán)22、下盤(pán)23、透光層24、透光環(huán)25、電路板3、光敏二極管31、接電柱32、封蓋4。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本技術(shù)實(shí)施例中的附圖,對(duì)本技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。如圖1-5所示的這種鉚腳定位RSC編碼開(kāi)關(guān),包括底蓋1、透光盤(pán)2、電路板3、封蓋4,所述底蓋1上設(shè)有定位鉚腳,所述底蓋1內(nèi)部設(shè)有容置腔11,所述透光盤(pán)2的中心處插接有旋轉(zhuǎn)軸21,所述容置腔11的底面設(shè)有沉孔12,所述旋轉(zhuǎn)軸21的底端可轉(zhuǎn)動(dòng)的伸入所述沉孔12內(nèi),所述封蓋4設(shè)有通孔,所述旋轉(zhuǎn)軸21的頂端穿出所述通孔,所述電路板3上設(shè)有中心通孔并通過(guò)該中心通孔套設(shè)在所述旋轉(zhuǎn)軸21上,所述電路板3位于透光盤(pán)2與封蓋4之間。所述容置腔11的底面上設(shè)有發(fā)光二極管13,所述電路板3與透光盤(pán)2相對(duì)的端面上設(shè)有光敏二極管31,該光敏二極管31與所述發(fā)光二極管13位于同一豎直方向。所述容置腔11的側(cè)壁面上設(shè)有凸起條14,所述電路板3的邊端,抵靠在所呼凸起條14上,所述凸起條14上設(shè)有通電孔15,所述電路板3上設(shè)有接電柱32,該接電柱32與所述通電孔15相配合,所述通電孔15電連接至發(fā)光二極管13。所述透光盤(pán)2包括上盤(pán)22、下盤(pán)23,所述上盤(pán)22和下盤(pán)23之間設(shè)有透光層24,所述上盤(pán)22、透光層24、下盤(pán)23復(fù)合為透光盤(pán)2主體,所述上盤(pán)22、下盤(pán)23上設(shè)有同心鏤空的透光環(huán)25,透光層24通過(guò)透光環(huán)25裸露出來(lái)的環(huán)形區(qū)域上噴涂有遮光粉層,該遮光粉層的厚度遞增。在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中,除了噴涂遮光粉層這一方法,也可以采用濾光片等其他材料,達(dá)到改變光線(xiàn)強(qiáng)度的目的,只是與之對(duì)應(yīng)的,濾光片上也需要設(shè)置一個(gè)環(huán)形的濾光區(qū)來(lái)于上盤(pán)22、和下盤(pán)23上面的鏤空區(qū)域相對(duì)應(yīng)。發(fā)光二極管13發(fā)出的光線(xiàn)穿過(guò)透光層24裸露出來(lái)的環(huán)形區(qū)域,投射到光敏二極管31,由于環(huán)形區(qū)域上噴涂的遮光粉層厚度是逐漸增加的,因此當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)透光盤(pán)2時(shí),光敏二極管31接收到的光線(xiàn)強(qiáng)度亦不斷變化,最終輸送給光電轉(zhuǎn)換電路的電流強(qiáng)度也逐漸改變。在本技術(shù)中,所述容置腔11內(nèi)設(shè)有一用以籠罩發(fā)光二極管13的集光柱16,該集光柱16內(nèi)設(shè)有集光鏡。在本技術(shù)中,所述定位鉚腳設(shè)有六個(gè)。在本技術(shù)中,所述封蓋4上設(shè)有間隔分布的數(shù)字檔位標(biāo)識(shí)以及360°連續(xù)分布的刻度檔位標(biāo)識(shí)。與傳統(tǒng)的光電編碼開(kāi)關(guān)相比,本技術(shù)中的這種編碼開(kāi)關(guān),能夠?qū)崿F(xiàn)逐漸遞增或者逐漸減小的連續(xù)性參數(shù)控制,具有調(diào)控精度高、范圍廣的優(yōu)點(diǎn)。以上所述僅為本技術(shù)的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本技術(shù),凡在本技術(shù)的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改,等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本技術(shù)的保護(hù)范圍之內(nèi)。本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種鉚腳定位RSC編碼開(kāi)關(guān),其特征在于;/n包括底蓋、透光盤(pán)、電路板、封蓋,所述底蓋上設(shè)有定位鉚腳,所述底蓋內(nèi)部設(shè)有容置腔,所述透光盤(pán)的中心處插接有旋轉(zhuǎn)軸,所述容置腔的底面設(shè)有沉孔,所述旋轉(zhuǎn)軸的底端可轉(zhuǎn)動(dòng)的伸入所述沉孔內(nèi),所述封蓋設(shè)有通孔,所述旋轉(zhuǎn)軸的頂端穿出所述通孔,所述電路板上設(shè)有中心通孔并通過(guò)該中心通孔套設(shè)在所述旋轉(zhuǎn)軸上,所述電路板位于透光盤(pán)與封蓋之間;/n所述容置腔的底面上設(shè)有發(fā)光二極管,所述電路板與透光盤(pán)相對(duì)的端面上設(shè)有光敏二極管,該光敏二極管與所述發(fā)光二極管位相對(duì);/n所述容置腔的側(cè)壁面上設(shè)有凸起條,所述電路板的邊端,抵靠在所述凸起條上,所述凸起條上設(shè)有通電孔,所述電路板上設(shè)有接電柱,該接電柱與所述通電孔相配合,所述通電孔電連接至發(fā)光二極管;/n所述透光盤(pán)包括上盤(pán)、下盤(pán),所述上盤(pán)和下盤(pán)之間設(shè)有透光層,所述上盤(pán)、透光層、下盤(pán)復(fù)合為透光盤(pán)主體,所述上盤(pán)、下盤(pán)上設(shè)有鏤空的透光環(huán),透光層通過(guò)透光環(huán)裸露出來(lái)的環(huán)形區(qū)域上噴涂有遮光粉層,該遮光粉層的厚度遞增。/n
【技術(shù)特征摘要】
1.一種鉚腳定位RSC編碼開(kāi)關(guān),其特征在于;
包括底蓋、透光盤(pán)、電路板、封蓋,所述底蓋上設(shè)有定位鉚腳,所述底蓋內(nèi)部設(shè)有容置腔,所述透光盤(pán)的中心處插接有旋轉(zhuǎn)軸,所述容置腔的底面設(shè)有沉孔,所述旋轉(zhuǎn)軸的底端可轉(zhuǎn)動(dòng)的伸入所述沉孔內(nèi),所述封蓋設(shè)有通孔,所述旋轉(zhuǎn)軸的頂端穿出所述通孔,所述電路板上設(shè)有中心通孔并通過(guò)該中心通孔套設(shè)在所述旋轉(zhuǎn)軸上,所述電路板位于透光盤(pán)與封蓋之間;
所述容置腔的底面上設(shè)有發(fā)光二極管,所述電路板與透光盤(pán)相對(duì)的端面上設(shè)有光敏二極管,該光敏二極管與所述發(fā)光二極管位相對(duì);
所述容置腔的側(cè)壁面上設(shè)有凸起條,所述電路板的邊端,抵靠在所述凸起條上,所述凸起條上設(shè)有通電孔,所述電路板上設(shè)有接電柱,該接電柱與所述通電孔相配合,所述...
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:葉小華,
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人:樂(lè)清市中然電子科技有限公司,
類(lèi)型:新型
國(guó)別省市:浙江;33
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