描述了液體浸沒(méi)冷卻式系統(tǒng)，其使用冷卻液例如介電冷卻液來(lái)浸沒(méi)冷卻電子設(shè)備的陣列。在本公開(kāi)所述的一些實(shí)施例中，不使用泵壓力將冷卻液返回到冷卻液貯存器，而是可以使用重力通過(guò)冷卻液重力返回歧管將冷卻液返回到貯存器，并且可以只在液體供應(yīng)側(cè)上使用泵將冷卻液輸送到每個(gè)電子設(shè)備。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專(zhuān)利技術(shù)】液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)和設(shè)備
本公開(kāi)涉及液體浸沒(méi)冷卻式電子陣列系統(tǒng)和設(shè)備。
技術(shù)介紹
液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)和設(shè)備是已知的。液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備陣列的一個(gè)示例是在機(jī)架系統(tǒng)中的液體浸沒(méi)式服務(wù)器(LSS)陣列。在美國(guó)專(zhuān)利號(hào)7,905,106、7,911,793和8,089,764中公開(kāi)了機(jī)架系統(tǒng)中的LSS陣列的示例。在美國(guó)專(zhuān)利9,451,726中公開(kāi)了液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備陣列的另一示例。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
描述了液體浸沒(méi)冷卻式系統(tǒng)，其使用冷卻液，例如介電冷卻液，來(lái)浸沒(méi)冷卻陣列的電子設(shè)備。在本公開(kāi)所描述的一些實(shí)施例中，與使用泵壓力將冷卻液返回到冷卻液貯存器不同，可以利用重力，通過(guò)冷卻液重力返回歧管將冷卻液返回到貯存器，并且只能在液體供應(yīng)側(cè)上使用泵將冷卻液輸送到每個(gè)電子設(shè)備。在本公開(kāi)描述的一個(gè)示例中，電子設(shè)備可以各自包括由托盤(pán)形成的設(shè)備殼體，該托盤(pán)可以具有完全或部分敞開(kāi)的頂部。多個(gè)發(fā)熱電子部件設(shè)置在設(shè)備殼體的內(nèi)部空間中，其中至少一些發(fā)熱電子部件在設(shè)備殼體中的冷卻液中被浸沒(méi)。除了浸沒(méi)在冷卻液中之外，冷卻液的返回供應(yīng)流也可引導(dǎo)到一個(gè)或多個(gè)發(fā)熱電子部件上，這種回流可稱(chēng)為導(dǎo)向流動(dòng)。在一個(gè)實(shí)施例中，液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備包括限定了內(nèi)部空間和最大介電冷卻液液位的設(shè)備殼體。發(fā)熱電子部件設(shè)置在設(shè)備殼體的內(nèi)部空間中，并且介電冷卻液在內(nèi)部空間中，介電冷卻液浸沒(méi)發(fā)熱電子部件并與之直接接觸。介電冷卻液入口位于設(shè)備殼體中，介電冷卻液通過(guò)該介電冷卻液入口進(jìn)入內(nèi)部空間。另外，在設(shè)備殼體中形成介電冷卻液出口堰，介電冷卻液從該介電冷卻液出口堰流出內(nèi)部空間，而無(wú)需在返回側(cè)使用泵壓力。介電冷卻液出口堰設(shè)置在設(shè)備殼體的最大介電冷卻液液位，其中，冷卻液出口堰創(chuàng)建內(nèi)部空間內(nèi)介電冷卻液的液位，并創(chuàng)建內(nèi)部空間用于冷卻發(fā)熱電子部件所需的介電冷卻液的體積流量。液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)可以包括多個(gè)液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備，以及介電冷卻液輸送歧管、介電冷卻液貯存器、泵和介電冷卻液重力返回歧管。介電冷卻液輸送歧管包括至少一個(gè)入口和多個(gè)輸送出口，并且每個(gè)輸送出口流體連接到介電冷卻液入口的相應(yīng)一個(gè)介電冷卻液入口以輸送介電冷卻液進(jìn)入相應(yīng)設(shè)備殼體的內(nèi)部空間。介電冷卻液貯存器構(gòu)造成供應(yīng)介電冷卻液。該泵具有與流體冷卻介質(zhì)貯存器流體連接的泵入口和與介質(zhì)冷卻流體輸送歧管的至少一個(gè)入口流體連接的泵出口。另外，每個(gè)介電冷卻液出口堰都流體連接至介電冷卻液重力返回歧管，并且介電冷卻液重力返回歧管流體連接至介電冷卻液貯存器，由此從介電冷卻液出口堰流出的介電冷卻液通過(guò)介電冷卻液重力返回歧管在重力作用下返回到介電冷卻液貯存器。本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式設(shè)備和系統(tǒng)的一個(gè)示例應(yīng)用是與布置在機(jī)架系統(tǒng)中的一系列LSS一起使用。但是，本公開(kāi)描述的概念可用于電子設(shè)備陣列經(jīng)過(guò)液體浸沒(méi)式冷卻的其他應(yīng)用，包括但不限于刀片服務(wù)器、磁盤(pán)陣列/存儲(chǔ)系統(tǒng)、固態(tài)存儲(chǔ)設(shè)備、存儲(chǔ)區(qū)域網(wǎng)絡(luò)、網(wǎng)絡(luò)連接存儲(chǔ)，存儲(chǔ)通信系統(tǒng)、路由器、電信基礎(chǔ)設(shè)施/交換機(jī)、有線(xiàn)、光學(xué)和無(wú)線(xiàn)通信設(shè)備、單元處理器設(shè)備、打印機(jī)、電源等。本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式設(shè)備和系統(tǒng)可用于可受益于液體浸沒(méi)冷卻式優(yōu)點(diǎn)的任何領(lǐng)域。在一個(gè)示例中，液體浸沒(méi)冷卻式設(shè)備和系統(tǒng)可以用在區(qū)塊鏈計(jì)算(加密貨幣)應(yīng)用中，例如以ASIC或GPU計(jì)算機(jī)挖掘配置。液體浸沒(méi)式冷卻設(shè)備和系統(tǒng)還可以用于深度學(xué)習(xí)應(yīng)用程序，例如在支持最大帶寬和高性能GPU的直接內(nèi)存訪(fǎng)問(wèn)(DMA)的多GPU配置中。液體浸沒(méi)式冷卻設(shè)備和系統(tǒng)還可用于具有多個(gè)協(xié)處理器配置(例如，支持GPU協(xié)處理器的DMA功能的多GPU配置)的人工智能和高性能計(jì)算(HPC)集群。本公開(kāi)描述的液體浸沒(méi)冷卻式設(shè)備和系統(tǒng)的許多其他應(yīng)用和用途是可能的并且可以預(yù)期的。本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式設(shè)備和系統(tǒng)不需要完全密封的電子設(shè)備殼體。相反，與使用完全密封的電子設(shè)備殼體的系統(tǒng)相比，包含電子設(shè)備的托盤(pán)可以在其頂部完全或部分敞開(kāi)，從而有助于降低成本，并簡(jiǎn)化服務(wù)和維修電子設(shè)備的過(guò)程。與空氣冷卻相比，液體浸沒(méi)冷卻式還具有出色的冷卻效率。附圖簡(jiǎn)要說(shuō)明圖1是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)的示例示意性側(cè)視圖。圖2是本公開(kāi)所述的一個(gè)液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備的示意性側(cè)視圖。圖3是本公開(kāi)所述的一個(gè)電子設(shè)備的示意性俯視圖。圖4是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備的另一實(shí)施例的立體圖。圖5是圖4所示電子設(shè)備的另一立體圖。圖6是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備的又一實(shí)施例的立體圖。圖7是圖6所示的電子設(shè)備的另一立體圖。圖8是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)的另一實(shí)施例的立體圖。圖9是圖8所示的系統(tǒng)的立體圖，其中電子設(shè)備被移除，示例示出了如何將離開(kāi)電子設(shè)備的冷卻液引入重力返回歧管。圖10是圖9的部分詳細(xì)視圖。圖11示出了在圖8所示的系統(tǒng)中使用的貯存器。圖12示出了圖8所示的系統(tǒng)中的重力返回歧管的內(nèi)部細(xì)節(jié)。圖13是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式系統(tǒng)的另一實(shí)施例的部分立體圖，其中電子設(shè)備被移除，并且其中在貯存器的底部中形成有集水井。圖14是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)的另一示例的前視立體圖。圖15是圖14所示的系統(tǒng)的后視圖。圖16是圖14和15所示的系統(tǒng)的示意圖。圖17是圖14-16所示的系統(tǒng)的一個(gè)液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備的立體圖。圖18是圖17所示的電子設(shè)備的側(cè)視圖。圖19是圖17和18所示的電子設(shè)備及其與水平返回歧管的相互作用的側(cè)視圖。圖20是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)的又一示例的前視立體圖。圖21是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)的又一示例的前視立體圖。圖22是圖21所示的系統(tǒng)的側(cè)視圖。圖23示出了圖21和22所示的系統(tǒng)的單層架子上的組件。圖24是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)的又一示例的前視立體圖。圖25是圖24所示的系統(tǒng)的殼體之一的前視圖。圖26是圖25所示的殼體的俯視圖，其中頂蓋被移除。圖27是圖26所示的殼體的前視圖。圖28是類(lèi)似于圖26示出了替代系統(tǒng)的俯視圖。圖29是本公開(kāi)所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)的又一示例的側(cè)視圖。圖30是圖29所示的系統(tǒng)中的電子設(shè)備殼體之一的立體圖。圖31是圖30所示的設(shè)備殼體中的電子組件之一的側(cè)視圖。具體實(shí)施方式參考圖1，示例示出了液體浸沒(méi)冷卻式電子系統(tǒng)10。該系統(tǒng)10包括殼體12和設(shè)置在殼體12內(nèi)的至少一列電子設(shè)備14。流體輸送系統(tǒng)用于輸送冷卻液通過(guò)系統(tǒng)10。流體輸送系統(tǒng)包括冷卻液輸送歧管16，其將冷卻液從冷卻液貯存器18輸送進(jìn)入電子設(shè)備14，以對(duì)電子設(shè)備14的發(fā)熱電子部件進(jìn)行液體浸沒(méi)冷卻式，冷卻液重力返回歧管20利用重力作用使冷卻液從電子設(shè)備14返回到冷卻液貯存器18。泵22將冷卻液從貯存器18泵送到輸送歧管16。流體輸送系統(tǒng)通過(guò)系統(tǒng)10輸送冷卻液。例如，泵22將冷卻液從貯存器18泵送到輸送歧管16。然后，冷卻液從輸送歧管本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備，包括：/n設(shè)備殼體，所述設(shè)備殼體限定內(nèi)部空間和最大介電冷卻液液位；/n設(shè)置在所述設(shè)備殼體的所述內(nèi)部空間內(nèi)的發(fā)熱電子部件；/n在所述內(nèi)部空間中的介電冷卻液，所述介電冷卻液浸沒(méi)所述發(fā)熱電子部件并與入直接接觸；/n在所述設(shè)備殼體中的介電冷卻液入口，所述介電冷卻液通過(guò)所述介電冷卻液入口進(jìn)入所述內(nèi)部空間；以及/n在所述設(shè)備殼體中的介電冷卻液出口堰，所述介電冷卻液從所述介電冷卻液出口堰流出所述內(nèi)部空間，所述介電冷卻液出口堰設(shè)置在所述設(shè)備殼體的最大介電冷卻液液位處，其中，所述冷卻液出口堰創(chuàng)建所述內(nèi)部空間中的所述介電冷卻液的液位，并且創(chuàng)建所述內(nèi)部空間中用于冷卻所述發(fā)熱電子部件所需的所述介電冷卻液的體積流量。/n
【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專(zhuān)利技術(shù)】20170920 US 62/560,9371.一種液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備，包括：
設(shè)備殼體，所述設(shè)備殼體限定內(nèi)部空間和最大介電冷卻液液位；
設(shè)置在所述設(shè)備殼體的所述內(nèi)部空間內(nèi)的發(fā)熱電子部件；
在所述內(nèi)部空間中的介電冷卻液，所述介電冷卻液浸沒(méi)所述發(fā)熱電子部件并與入直接接觸；
在所述設(shè)備殼體中的介電冷卻液入口，所述介電冷卻液通過(guò)所述介電冷卻液入口進(jìn)入所述內(nèi)部空間；以及
在所述設(shè)備殼體中的介電冷卻液出口堰，所述介電冷卻液從所述介電冷卻液出口堰流出所述內(nèi)部空間，所述介電冷卻液出口堰設(shè)置在所述設(shè)備殼體的最大介電冷卻液液位處，其中，所述冷卻液出口堰創(chuàng)建所述內(nèi)部空間中的所述介電冷卻液的液位，并且創(chuàng)建所述內(nèi)部空間中用于冷卻所述發(fā)熱電子部件所需的所述介電冷卻液的體積流量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備，其中，所述設(shè)備殼體包括第一側(cè)和與所述第一側(cè)相對(duì)的第二側(cè)；所述介電冷卻液入口處于所述第一側(cè)，所述介電冷卻液出口堰處于所述第二側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備，進(jìn)一步包括在所述內(nèi)部空間內(nèi)的歧管，所述歧管流體連接至所述介電冷卻液入口，以及從所述歧管延伸并將所述介電冷卻液的回流直接引導(dǎo)到發(fā)熱電子部件之一上的管。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備，其中，所述介電冷卻液出口堰位于所述設(shè)備殼體的高于所述介電冷卻液入口位置的垂直高度上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體浸沒(méi)冷卻式電子設(shè)備，其中，所述發(fā)熱電子部件包括比特幣挖掘...
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：萊爾·里克·塔夫蒂，加里·艾倫·里德，肖恩·邁克爾·阿切爾，拉斐爾·阿爾巴，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：液體冷卻解決方案公司，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：美國(guó);US
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