噴嘴、輔助安裝工具和干法刻蝕裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術提供了一種噴嘴、輔助安裝工具和干法刻蝕裝置，所述噴嘴用于安裝在干法刻蝕裝置的反應腔的腔口處，所述噴嘴與所述腔口的內壁貼合，所述噴嘴包括噴嘴主體以及至少兩個噴嘴連接孔，所述噴嘴連接孔開設于所述噴嘴主體背離所述反應腔內部的表面上；所述輔助安裝工具包括桿部、手柄部、至少兩個桿部連接孔以及與所述桿部連接孔和所述噴嘴連接孔匹配的連接件，所述手柄部與所述桿部連接，所述桿部連接孔開設于所述桿部上，所述桿部與所述噴嘴通過所述桿部連接孔、噴嘴連接孔和連接件實現可拆卸連接。本實用新型專利技術采用輔助安裝工具安裝噴嘴，安裝過程平穩，不易傾斜卡于反應腔的腔口，提高了安裝效率，也不易掉落摔碎，提高了使用安全性。

【技術實現步驟摘要】
噴嘴、輔助安裝工具和干法刻蝕裝置
本技術涉及半導體
，具體涉及一種噴嘴、輔助安裝工具和干法刻蝕裝置。
技術介紹
在半導體或多種原材料或產品的加工工程中，需要使用刻蝕工藝?？涛g工藝包括干法(dry)刻蝕工藝和濕法(wet)刻蝕工藝，其中，干法刻蝕主要利用等離子體進行刻蝕，濕法刻蝕主要利用化學試劑與被刻蝕材料發生化學反應進行刻蝕。相比于濕法刻蝕，干法刻蝕各向異性好，具有良好的刻蝕選擇性，可控性高，可適用于大批量刻蝕，因此，在半導體技術中，常利用干法刻蝕對基板如晶圓(wafer)進行刻蝕，并將干法刻蝕的設備稱為干法刻蝕裝置。例如一種干法刻蝕裝置，所述干法刻蝕裝置具有一反應腔，所述反應腔具有腔口，所述腔口內設置有噴嘴(nozzle)和用于分配等離子體的分配盤，外界的等離子體從噴嘴進入分配盤，并經分配盤均勻分布于被刻蝕材料上，使得刻蝕均勻。目前，通常是采用手拿噴嘴的方式將噴嘴安裝于分配盤上，沒有任何工具輔助安裝，安裝難度較大，很難一次安裝成功。手動安裝噴嘴時，由于噴嘴的外側與反應腔的腔口的內壁完全貼合，只能手拿噴嘴的內側，無法穩定放置，稍有傾斜就會將噴嘴卡于腔口，且由于等離子體高度激發的不穩定性，噴嘴較多的采用陶瓷材質，重量較大且表面較為光滑，采用手持安裝操作難度高且噴嘴容易滑落摔壞。
技術實現思路
本技術的目的是提供一種噴嘴、輔助安裝工具和干法刻蝕裝置，有利于快速、安全地安裝噴嘴。為了實現上述目的，本技術第一方面提供了一種噴嘴，用于安裝在干法刻蝕裝置的反應腔的腔口處，所述噴嘴與所述腔口的內壁貼合，所述噴嘴包括噴嘴主體以及至少兩個噴嘴連接孔，所述噴嘴連接孔開設于所述噴嘴主體背離所述反應腔內部的表面上，所述噴嘴主體可通過所述噴嘴連接孔與一輔助安裝工具可拆卸連接。可選的，所述噴嘴采用陶瓷材質，所述噴嘴還包括裝設于所述噴嘴連接孔內的螺絲襯套?？蛇x的，所述噴嘴主體為圓環狀結構，所述噴嘴連接孔的數目為兩個，兩個所述噴嘴連接孔沿所述噴嘴主體的中心對稱布置?？蛇x的，所述噴嘴連接孔不穿透所述噴嘴主體。本技術第二方面提供了一種輔助安裝工具，用于安裝本技術任一技術方案所述的噴嘴，所述輔助安裝工具包括桿部、手柄部、至少兩個桿部連接孔以及與所述桿部連接孔和所述噴嘴連接孔匹配的連接件，所述手柄部與所述桿部連接，所述桿部連接孔開設于所述桿部上，所述桿部與所述噴嘴通過所述桿部連接孔、所述噴嘴連接孔和所述連接件實現可拆卸連接?？蛇x的，所述桿部包括上桿、兩個腹桿以及兩個腳桿，所述上桿的兩端各通過一個所述腹桿與一個所述腳桿連接，所述桿部連接孔開設于所述兩個腳桿上?？蛇x的，所述手柄部包括兩個T字形手柄，所述T字形手柄的豎桿與所述桿部的上桿連接?？蛇x的，所述桿部連接孔和所述噴嘴連接孔均設有內螺紋，所述連接件設有與所述內螺紋匹配的外螺紋。本技術第三方面提供了一種干法刻蝕裝置，包括反應腔以及本技術任一技術方案所述的噴嘴?？蛇x的，所述干法刻蝕裝置還包括一分配盤，所述分配盤安裝在所述反應腔內且位于所述噴嘴的下方。在本技術的噴嘴、輔助安裝工具和干法刻蝕裝置中，所述噴嘴開設有至少兩個噴嘴連接孔，所述輔助安裝工具包括桿部、手柄部、至少兩個桿部連接孔以及與所述桿部連接孔和所述噴嘴連接孔匹配的連接件。當安裝所述噴嘴時，將所述桿部連接孔對準所述噴嘴連接孔，插入所述連接件以將所述噴嘴固定于所述桿部，然后手持所述手柄部將所述噴嘴緩慢安裝于干法刻蝕裝置的反應腔的腔口。本技術的設置使得噴嘴安裝過程穩定，不易傾斜而卡于腔口，且由于噴嘴固定于輔助安裝工具上，不易掉落摔壞，安裝過程高效、便捷。附圖說明圖1為本技術一實施例的噴嘴的安裝過程的主視結構示意圖；圖2為圖1所示的噴嘴的安裝過程的俯視結構示意圖。附圖標記說明：1-干法刻蝕裝置；11-反應腔；12-腔口；2-噴嘴；21-噴嘴主體；22-噴嘴連接孔；3-分配盤；4-輔助安裝工具；41-橫桿；42-豎桿；43-上桿；44-腳桿；441-桿部連接孔；45-腹桿；5-連接件；6-定位梢。具體實施方式為使本技術的內容更加清楚易懂，以下結合說明書附圖和實施例對本技術作進一步說明。但可以理解，本技術并不局限于下面所描述的具體實施例，本領域的技術人員所熟知的一般替換也涵蓋在本技術的保護范圍內。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本專利技術實施例的目的。應該理解，在以下的描述中，可以基于附圖進行關于在各部件“上”和“下”的指代。諸如“在…之下”、“在…下面”、“下面的”、“上面的”等空間術語，目的是容易描述附圖中所示的一個部件和另一個部件的位置關系，除圖中所示的方位之外，空間關系術語可以包括使用或操作中的裝置的各種不同的方位。裝置可以以其它方式定位，例如旋轉90度或在其它方位，并且通過在此使用的空間關系描述進行相應的解釋。本技術的核心思想在于提供一種噴嘴、輔助安裝工具和干法刻蝕裝置。其中，所述噴嘴用于安裝在干法刻蝕裝置的反應腔的腔口處，所述噴嘴與所述腔口的內壁貼合，所述噴嘴包括噴嘴主體以及至少兩個噴嘴連接孔，所述噴嘴連接孔開設于所述噴嘴主體背離所述反應腔內部的表面上。所述輔助安裝工具包括桿部、手柄部、至少兩個桿部連接孔以及與所述桿部連接孔和所述噴嘴連接孔匹配的連接件，所述手柄部與所述桿部連接，所述桿部連接孔開設于所述桿部上。在安裝噴嘴時，將連接件依次穿過所述桿部連接孔和所述噴嘴連接孔，以將噴嘴固定于輔助安裝工具上。工作人員操作手柄部，將所述噴嘴緩慢下放至反應腔的腔口內，直至安裝到位，然后將連接件取出，拆下輔助安裝工具。與傳統的手拿噴嘴安裝的方式相比，本技術采用工具輔助安裝，安裝過程平穩，不會由于傾斜而將噴嘴卡于反應腔的腔口，且噴嘴固定于輔助安裝工具上，不易掉落摔碎，安裝過程高效又便捷。以下結合附圖1-2對本技術一實施例的噴嘴、輔助安裝工具和干法刻蝕裝置進行詳細描述。請參考圖1和圖2，其分別是本技術一實施例的噴嘴2的安裝過程的主視結構示意圖和俯視結構示意圖。如圖1和圖2所示，本技術一實施例的干法刻蝕裝置1采用等離子體對待刻蝕材料進行刻蝕。干法刻蝕裝置1內部具有一反應腔11，所述反應腔11用于放置晶圓等待刻蝕材料，所述反應腔11具有一腔口12，所述腔口12內設置有噴嘴2，外界的等離子體從噴嘴2進入反應腔11內部，對待刻蝕材料例如晶圓等進行刻蝕。干法刻蝕裝置1還可包括一分配盤3，分配盤3安裝在反應腔11內且位于噴嘴2的下方。分配盤3上分布有多個氣孔(圖1中未示出)，能夠將由噴嘴2進入反應腔11內部的等離子體均勻分配，使得刻蝕均勻。較佳的，干法刻蝕裝置1還包括一定位梢6，定位梢6豎立于分配盤3的上方，定位梢6與腔口12的內壁之間的距離稍大于噴嘴2的壁厚，用于引導噴嘴2安放于定位梢6與腔口12的內壁之間。本技術一實施例的噴嘴2本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種噴嘴，用于安裝在干法刻蝕裝置的反應腔的腔口處，所述噴嘴與所述腔口的內壁貼合，其特征在于，所述噴嘴包括噴嘴主體以及至少兩個噴嘴連接孔，所述噴嘴連接孔開設于所述噴嘴主體背離所述反應腔內部的表面上，所述噴嘴主體可通過所述噴嘴連接孔與一輔助安裝工具可拆卸連接。/n

【技術特征摘要】
1.一種噴嘴，用于安裝在干法刻蝕裝置的反應腔的腔口處，所述噴嘴與所述腔口的內壁貼合，其特征在于，所述噴嘴包括噴嘴主體以及至少兩個噴嘴連接孔，所述噴嘴連接孔開設于所述噴嘴主體背離所述反應腔內部的表面上，所述噴嘴主體可通過所述噴嘴連接孔與一輔助安裝工具可拆卸連接。


2.如權利要求1所述的噴嘴，其特征在于，所述噴嘴采用陶瓷材質，所述噴嘴還包括裝設于所述噴嘴連接孔內的螺絲襯套。


3.如權利要求1所述的噴嘴，其特征在于，所述噴嘴主體為圓環狀結構，所述噴嘴連接孔的數目為兩個，兩個所述噴嘴連接孔沿所述噴嘴主體的中心對稱布置。


4.如權利要求1所述的噴嘴，其特征在于，所述噴嘴連接孔不穿透所述噴嘴主體。


5.一種輔助安裝工具，用于安裝如權利要求1-4中任一項所述的噴嘴，其特征在于，所述輔助安裝工具包括桿部、手柄部、至少兩個桿部連接孔以及與所述桿部連接孔和所述噴嘴連接孔匹配的連接件，所述手柄部與所述桿部連接，...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王義垚，李強，劉志攀，
申請(專利權)人：廣州粵芯半導體技術有限公司，
類型：新型
國別省市：廣東;44