一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術提供一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置，所述處理裝置包括外殼組件和電極組件，所述電極組件設置于外殼組件內；其中，所述外殼組件用于獲得等離子體處理的真空環境；所述電極組件用于制造等離子體，以實現等離子體處理；所述電極組件包括側板、電極接頭、電極板和轉盤模組，電極板通過電極接頭可拆卸的連接于外殼組件上，所述轉盤模組設置于外殼組件內的底部。本實用新型專利技術在腔體內同時設置了兩套等離子體處理裝置，并通過電極接頭方便電極板的拆卸和安裝，進而實現了平板等離子處理和轉盤等離子處理兩種模式的轉換。

【技術實現步驟摘要】
一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置
本技術涉及等離子體處理設備領域，具體涉及一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置。
技術介紹
隨著高科技產業的快速發展，各種工藝對使用產品的技術要求越來越高，等離子體處理技術的出現，不僅改進了產品性能、提高了生產效率，更實現了安全環保效應。等離子體處理技術能夠在材料科學、高分子科學、生物醫藥材料學、微流體研究、微電子機械系統研究、光學、顯微術和牙科醫療等領域得到應用。等離子體，即物質的第四態，是由部分電子被剝奪后的原子以及原子被電離后產生的正負電子組成的離子化氣狀物質。這種電離氣體是由原子，分子，原子團，離子，電子組成。其作用在物體表面可以實現物體的超潔凈清洗、物體表面活化、蝕刻、精整以及等離子表面涂覆。等離子表面處理技術是干式處理法，替代了傳統的濕法處理技術具有以下優勢：(1)環保技術：等離子體作用過程是氣固相干式反應，不消耗水資源、無須添加化學藥劑；(2)效率高：整個工藝能在較短的時間內完成；(3)成本低：裝置簡單，容易操作維修，少量氣體代替了昂貴的清洗液，同時也無處理廢液成本；(4)處理更精細：能夠深入微細孔眼和凹陷的內部并完成清洗任務；(5)適用性廣：等離子表面處理技術能夠實現對大多數固態物質的處理，因此應用的領域非常廣泛。現有技術中，根據不同的處理技術要求、待處理工件的形狀和性質，本領域技術人員需要選擇不同的等離子體處理方法。例如：對由于待測工件腔體內不同位置等離子體密度不均一、工件的形狀、等離子體鞘層等因素影響到表面涂層的均勻性產生的等離子體處理不均勻的情況，本領域技術人員通常通過可旋轉靶臺，通過靶臺能夠360度單向或往復旋轉，實現對待測工件的等離子體處理，但是旋轉等離子體處理工藝耗時長，因此，針對等離子體處理均勻度要求不高的工件，本領域技術人員通常直接選擇平板處理的方式對工件進行等離子體處理，以提高處理效率。因此，對于處理工件類型多且復雜的用戶來說，往往需要準備至少兩種類型的等離子體處理設備，非常不方便。中國專利(CN208857360U)公開了一種等離子體表面處理全方位旋轉工件靶臺，包括固定底座和設置在固定底座上的旋轉靶臺，所述旋轉靶臺沿圓周方向間隔排列設有插接通孔，各所述插接通孔內活動連接有旋轉支架，在所述固定底座內設有分別驅動旋轉靶臺、旋轉支架同步旋轉的驅動機構，待處理工件夾持處于各旋轉支架上，進行等離子體表面處理時，旋轉靶臺旋轉使得各旋轉支架繞旋轉靶臺的軸線旋轉，形成“公轉”，同時，各旋轉支架繞自身軸線旋轉，形成“自轉”，通過公轉和自轉組合。但是，該專利僅能夠實現轉盤處理，不能實現平板處理，且所述靶臺結構復雜，工作效率低。由于這些問題的存在，使得現有的等離子體處理裝置功能性單一，不能適應多樣的等離子體處理需求。因此，如何提供一種使用便捷、功能多樣的等離子體處理設備是目前本領域技術人員亟待解決的技術問題。
技術實現思路
本技術的目的在于提供一種使用便捷、功能多樣的等離子體處理設備，以解決現有技術中的問題。所述技術方案具體如下：一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置，所述處理裝置包括外殼組件和電極組件，所述電極組件設置于外殼組件內；其中所述外殼組件用于獲得等離子體處理的真空環境；所述電極組件用于制造等離子體，以實現等離子體處理；所述電極組件包括側板、電極接頭、電極板和轉盤模組。優選的，所述外殼組件包括腔體和前蓋；所述腔體為一面開口的腔體結構；所述前蓋設置于腔體上，用于對腔體的開口端進行密封和開啟。優選的，所述腔體和前蓋之間設置有O型圈，用于加強腔體和前蓋之間的密封性。優選的，所述前蓋上設置有視窗，用于工作人員對腔體的待處理工件進行觀察。優選的，所述腔體上設置有電機固定架、支撐腳、抽氣孔、電極接口；所述電機固定架，設置于腔體的底部，用于安裝電機，為腔體內的轉盤模組提供動力；所述支撐腳，設置于腔體的底部，用于對腔體進行調平；所述抽氣孔，用于外接真空泵，營造腔體內的真空環境；所述電極接口，用于外接電源，實現腔體內電極的接電。優選的，所述側板為兩個，兩側板分別固定設置于腔體左右兩側壁的內側，兩側板的相同位置處間隔設置有三個導向固定槽，以用來固定電極板；所述三個導向固定槽自下而上依次為下固定槽、中固定槽和上固定槽。優選的，所述電極接頭包括兩個負電極接頭和一個正電極接頭，三個電極接頭自下而上依次固定于腔體前側板的內側；其中，兩個負電極接頭分別對應于下固定槽和上固定槽，一個正電極接頭對應于中固定槽；所述正電極接頭連接于電極接口，實現對正電極接頭的通電。優選的，所述電極接頭包括電極背板、卡簧座、轉接片和卡柱；其中，所述電極背板，用于將電極接頭固定于腔體前側板的內側；所述卡簧座，設置于電極背板的外側；所述轉接片，設置于卡簧座的中間，所述轉接片通過卡簧座的彈性實現上下位移和復位；所述卡柱，設置于轉接片末端的底面上，用于固定電極板。優選的，所述電極板包括三個，三個電極板分別沿導向固定槽安裝于兩側板之間，且電極板的末端分別固定于電極接頭，與負電極接頭連接的電極板成為負電極板，與正電極接頭連接的電極板成為正電極板；所述電極板末端設置有與卡柱相對應的孔，以實現電極板與電極接頭的固定。優選的，所述轉盤模組設置于腔體底部，連接于電機固定架上的電機，用于對待處理工件進行旋轉。本技術所獲得的有益技術效果：(1)在腔體內同時設置了兩套等離子體處理裝置，并通過電極接頭方便電極板的拆卸和安裝，進而實現了平板等離子處理和轉盤等離子處理兩種模式的轉換。(2)轉接片通過卡簧座連接于電極背板，使得轉接片能夠彈性移動，方便了電極板的拆卸和安裝。上述說明僅是本申請技術方案的概述，為了能夠更清楚了解本申請的技術手段，從而可依照說明書的內容予以實施，并且為了讓本申請的上述和其他目的、特征和優點能夠更明顯易懂，以下以本申請的較佳實施例并配合附圖詳細說明如后。根據下文結合附圖對本申請具體實施例的詳細描述，本領域技術人員將會更加明了本申請的上述及其他目的、優點和特征。附圖說明為了更清楚地說明本申請實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本申請的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。在所有附圖中，類似的元件或部分一般由類似的附圖標記標識。附圖中，各元件或部分并不一定按照實際的比例繪制。圖1為本技術等離子體處理裝置的前視圖；圖2為本技術等離子體處理裝置的后視圖；圖3為本技術等離子體處理裝置一使用狀態內視圖；圖4為本技術等離子體處理裝置另一使用狀態內視圖；圖5為本技術等離子體處理裝置本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括外殼組件和電極組件，所述電極組件設置于外殼組件內；其中/n所述外殼組件用于獲得等離子體處理的真空環境；/n所述電極組件用于制造等離子體，以實現等離子體處理；所述電極組件包括側板(18)、電極接頭、電極板(24)和轉盤模組(21)；所述電極板(24)通過電極接頭實現在外殼組件內的可拆卸連接。/n

【技術特征摘要】
1.一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括外殼組件和電極組件，所述電極組件設置于外殼組件內；其中
所述外殼組件用于獲得等離子體處理的真空環境；
所述電極組件用于制造等離子體，以實現等離子體處理；所述電極組件包括側板(18)、電極接頭、電極板(24)和轉盤模組(21)；所述電極板(24)通過電極接頭實現在外殼組件內的可拆卸連接。


2.根據權利要求1所述的一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置，其特征在于，所述外殼組件包括腔體(11)和前蓋(12)；
所述腔體(11)為一面開口的腔體結構；所述前蓋(12)設置于腔體(11)上，用于對腔體(11)的開口端進行密封和開啟。


3.根據權利要求2所述的一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置，其特征在于，所述腔體(11)和前蓋(12)之間設置有O型圈(17)，用于加強腔體(11)和前蓋(12)之間的密封性。


4.根據權利要求2所述的一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置，其特征在于，所述前蓋(12)上設置有視窗，用于工作人員對腔體(11)的待處理工件進行觀察。


5.根據權利要求2所述的一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置，其特征在于，所述腔體(11)上設置有電機固定架(13)、支撐腳(14)、抽氣孔(15)、電極接口(16)；
所述電機固定架(13)，設置于腔體(11)的底部，用于安裝電機，為腔體(11)內的轉盤模組提供動力；
所述支撐腳(14)，設置于腔體(11)的底部，用于對腔體進行調平；
所述抽氣孔(15)，用于外接真空泵，營造腔體(11)內的真空環境；
所述電極接口(16)，用于外接電源，實現腔體(11)內電極的接電。


6.根據權利要求1所述的一種實現平板和轉盤處理的等離子體處理裝置，其特征在于，所述側板(18)為兩個，兩側板(18)分別固定設置于腔體(11)左右兩側壁的內側，兩側板(18)的相...

【專利技術屬性】
技術研發人員：沈文凱，劉鑫培，王紅衛，
申請(專利權)人：蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司，
類型：新型
國別省市：江蘇;32