【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種Ⅰ型凹面光柵分度誤差檢驗方法，適用于檢驗凹面光柵的分度精度。現(xiàn)有的檢驗凹面光柵分度誤差的方法是采用波面比較干涉儀，此方法能半定量地測量衍射波面的質(zhì)量，而無法判定影響衍射波面質(zhì)量的Ⅰ型凹面光柵分度誤差的性質(zhì)和大小。并且采用此方法檢驗不同的Ⅰ型凹面光柵時，參考鏡需調(diào)換。本專利技術(shù)的任務(wù)是要提供一種新型的Ⅰ型凹面光柵分度誤差的檢驗方法。它能夠定量地檢驗Ⅰ型凹面光柵的分度誤差。并且由于采用了通過檢查凹面光柵本身正負(fù)級光譜的衍射光束形成的干涉條紋，以確定凹面光柵的分度精度，所以不存在更換參考鏡問題。圖1是本專利技術(shù)的原理圖。本專利技術(shù)的任務(wù)是以如下方式完成的參見圖1從He-Ne激光器(1)射出的光束，經(jīng)凹面反射鏡(4)擴(kuò)束，并經(jīng)凹面反射鏡(5)準(zhǔn)直之后變?yōu)槠叫泄馐?7)和(7′)，光束(7)直接射入凹面光柵(2)，調(diào)節(jié)凹面光柵(2)，使凹面光柵(2)的+M級光譜沿凹面光柵的表面中心處的法線方向衍射;平行光束(7′)經(jīng)由平面反射鏡(3)反射后，進(jìn)入凹面光柵(2)，調(diào)節(jié)平面反射鏡(3)，使凹面光柵(2)的-M級光譜也沿光柵表面中心處的法線方向衍射，+M級與-M級衍射光束在空間相會之后產(chǎn)生干涉條紋，干涉條紋的變形量△N(條紋數(shù))與凹面光柵的分度誤差△之間的關(guān)系如A式所示△N＝ (2△)/(d) ·m (A)d-光柵的刻線間隔m-光譜級數(shù)本專利技術(shù)制作方便，操作容易，測量精度高，成本較低。以下將結(jié)合附圖對專利技術(shù)作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。參照圖1一個有中心孔(8)的凹面反射鏡(5)與另一個凹面反射鏡(4)凹面相對地被固定，兩凹面反射鏡的焦點(diǎn)連線應(yīng)與來自激光器(1)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種Ｉ型凹面光柵分度誤差檢驗方法，其特征在于該方法由凹面反射鏡（４）、（５）和平面反射鏡（３）構(gòu)成。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種I型凹面光柵分度誤差檢驗方法，其特征在于該方法由凹面反射鏡(4)、(5)和平面反射鏡(3)構(gòu)成。2.如權(quán)利要求1所述的Ⅰ型凹面光柵分度誤差檢驗方法，其特征在于凹面反射鏡(4)的焦點(diǎn)與凹面反射鏡(5)的焦點(diǎn)重合。3.如權(quán)利要求1所述的Ⅰ...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：吳振華，
申請(專利權(quán))人：北京光學(xué)儀器廠，
類型：發(fā)明
國別省市：11[中國|北京]
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