一種檢測設備及檢測設備的檢測方法技術

一種檢測設備及檢測設備的檢測方法，其中，該檢測設備包括：探測單元，所述探測單元被配置為對待測試樣進行第一檢測和第二檢測，所述第一檢測包括對待測試樣的邊緣進行掃描檢測、以確定所述待測試樣的特征點位置與預定位置的偏離狀態，所述第二檢測包括對所述待測試樣進行檢測，獲取待測試樣的待測目標的物理信息。采用這種結構，該檢測設備具有結構簡單、成本低的優點。

【技術實現步驟摘要】
一種檢測設備及檢測設備的檢測方法
本專利技術涉及晶圓檢測
，具體涉及一種檢測設備及檢測設備的檢測方法。
技術介紹
晶圓可用于加工制作各種電路原件結構、以形成具有特定電性功能的集成電路產品。一般而言，晶圓的加工制作過程是繁瑣且復雜的，如果晶圓上存在缺陷，就將導致制備而成的集成電路產品失效，降低產品的良率，并導致制造成本的提高，故需對晶圓上的缺陷進行實時檢測，以便及時地去除缺陷或停止制備過程。對晶圓缺陷進行檢測時，不僅需要對晶圓表面的缺陷進行檢測，還需要對晶圓的邊緣的缺陷進行檢測，在邊緣檢測的過程中，需保證待測晶圓始終位于預設的中心位置，若發生位置偏移，有可能導致原定位置的探測通道的探測結果的不準確，嚴重時，甚至可能導致原定位置的探測通道刮花待測晶圓。對此，現有的方案普遍是通過增設專用的檢測部件，來檢測待測晶圓是否發生偏心，如此，就會導致整個檢測設備的零部件較多、結構復雜、成本較高。因此，如何提供一種方案，以緩解或克服上述缺陷，仍是本領域技術人員亟待解決的技術問題。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種檢測設備及檢測設備的檢測方法，其中，該檢測設備具有結構簡單、成本低的優點。為解決上述技術問題，本專利技術提供一種檢測設備，包括：探測單元，所述探測單元被配置為對待測試樣進行第一檢測和第二檢測，所述第一檢測包括對待測試樣的邊緣進行掃描檢測、以確定所述待測試樣的特征點位置與預定位置的偏離狀態，所述第二檢測包括對所述待測試樣進行檢測，獲取待測試樣的待測目標的物理信息。上述檢測設備可同時對待測試樣進行第一檢測和第二檢測，判斷待測試樣的特征點位置與預定位置的偏離狀態；以及獲取待測試樣的待測目標的物理信息；該檢測設備具有結構簡單、成本低的有點。可選地，所述物理信息包括待測目標相對于所述預定位置的第一位置信息；所述檢測設備還包括：處理單元，被配置為根據所述偏離狀態和所述第一位置信息獲取第二位置信息，所述第二位置信息為所述待測目標相對于所述特征點位置之間的相對位置關系。可選地，所述處理單元包括：調節單元和補償單元中的一者或兩者組合；所述調節單元被配置為第二檢測之前根據所述偏離狀態對所述待測試樣的位置進行調節，使所述特征點位置處于所述預定位置，所述處理單元將所述調節單元調節之后獲取的所述第一位置信息作為所述第二位置信息；所述補償單元被配置為根據所述偏離狀態對所述第一位置信息進行補償，獲取所述第二位置信息。可選地，所述待測目標在所述待測試樣中具有預設目標位置關系；還包括：處理單元，被配置為根據所述預設目標位置關系及偏離狀態獲取測量位置，所述測量位置為所述待測目標與所述預定位置之間的相對位置關系；對所述待測試樣的待測目標進行所述第二檢測包括：所述探測單元根據所述測量位置對所述待測目標進行定位，并在定位之后對所述待測目標進行檢測，獲取所述待測目標的物理信息。可選地，所述處理單元還包括：調節單元和補償單元中的一者或兩者組合；所述調節單元被配置為所述第二檢測之前根據所述偏離狀態對所述待測試樣的位置進行調節，使所述特征點位置處于所述預定位置；所述補償單元被配置為根據所述偏離狀態對所述預定位置進行補償，獲取所述測量位置。可選地，所述探測單元包括探測裝置和光源裝置，所述光源裝置用于向所述待測試樣提供檢測光，所述檢測光經所述待測試樣形成信號光，所述探測裝置用于收集所述信號光，根據所述信號光確定所述待測試樣的特征點位置與預定位置的偏離狀態及待測目標的物理信息。可選地，所述探測裝置和所述光源裝置均設置在沿所述待測目標的法向方向，或者所述探測裝置和所述光源裝置關于所述待測目標的法線對稱設置，或者所述探測裝置和所述光源裝置關于所述待測目標的法線非對稱設置。可選地，所述探測裝置包括多個探測通道，所述探測通道被配置為接收不同角度的信號光；所述多個探測裝置中一個或多個被配置為對所述待測試樣邊緣進行所述第一檢測。可選地，所述探測裝置均包括探測器和鏡頭，所述探測器為線陣探測器。可選地，根據所述信號光獲取所述待測試樣邊緣上至少三點的位置關系，根據所述位置關系獲取特征點位置與所述預定位置的偏離狀態；或者所述待測試樣的待測目標的物理信息。可選地，所述待測試樣邊緣為圓環形，所述特征點為所述待測試樣邊緣的圓心。可選地，所述待測目標包括：待測試樣邊緣的上表面、待測試樣邊緣的下表面及所述邊緣的側部；所述探測單元包括上表面檢測單元、下表面檢測單元和側部檢測單元，所述上表面檢測單元被配置為對待測試樣邊緣的上表面進行所述第二檢測，所述下表面檢測單元被配置為對所述邊緣的下表面進行所述第二檢測，所述側部檢測單元被配置為對所述邊緣的側部進行所述第二檢測，且所述上表面檢測單元和/或所述下表面檢測單元還被配置為對所述待測試樣邊緣進行所述第一檢測。可選地，所述上表面檢測單元、所述下表面檢測單元、所述側部檢測單元均設有調節部件，所述調節部件用于調節相應檢測單元沿其光軸方向的移動，以對待測目標進行聚焦定位。可選地，所述檢測設備還包括承載裝置，所述待測試樣設置在所述承載裝置上，所述承載裝置用于帶動所述探測單元與待測試樣相對旋轉運動或/和平移運動。本專利技術還提供一種檢測設備的檢測方法，所述檢測設備上述的檢測設備；所述檢測方法包括：使所述檢測設備對所述待測試樣進行第一檢測，確定所述待測試樣的特征點位置與預定位置的偏離狀態；使所述檢測設備對所述待測試樣進行第二檢測，獲取所述待測試樣的待測目標的物理信息。可選地，所述物理信息包括待測目標相對于所述預定位置的第一位置信息，進行所述第二檢測之前還包括：使處理單元根據所述偏離狀態和所述第一位置信息獲取所述第二位置信息，所述第二位置信息為所述待測目標相對于所述特征點位置之間的相對位置關系。可選地，所述處理單元包括：調節單元和補償單元中的一者或兩者組合；進行所述第二檢測之前還包括：使所述調節單元根據所述偏離狀態對所述待測試樣的位置進行調節，使所述特征點位置處于所述預定位置，使所述處理單元將所述調節之后獲取的所述第一位置信息作為所述第二位置信息；或者，使所述補償單元根據所述偏離裝置對所述第一位置信息進行補償，獲取所述第二位置信息。可選地，所述待測目標在所述待測試樣中具有預設目標位置關系，所述進行所述第二檢測之前還包括：使處理單元根據所述預設目標位置關系及偏離狀態獲取測量位置，所述測量位置為所述待測目標與所述預定位置之間的相對位置關系；使所述檢測設備對所述待測試樣進行第二檢測的步驟包括：根據所述測量位置對所述待測目標進行定位，并在所述定位之后對所述待測目標進行檢測，獲取所述待測目標的物理信息。可選地，所述處理單元還包括：調節單元和補償單元中的一者或兩者組合；進行所述第二檢測之前還包括：使所述調節單元根據所述偏離狀態對所述待測試樣的位置進行調節，使所述特征點位置處于所述預定位置；或者，使所述補償單元根據所述偏離狀態對所述預定位置進行補償，獲取所述測量位置。可選地，所述確定所述待測試樣的特征點位置與預定位置的偏離狀態本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種檢測設備，其特征在于，包括：探測單元，所述探測單元被配置為對待測試樣(A)進行第一檢測和第二檢測，所述第一檢測包括對待測試樣(A)的邊緣進行掃描檢測、以確定所述待測試樣(A)的特征點位置與預定位置的偏離狀態，所述第二檢測包括對所述待測試樣(A)進行檢測，獲取待測試樣(A)的待測目標的物理信息。/n

【技術特征摘要】
1.一種檢測設備，其特征在于，包括：探測單元，所述探測單元被配置為對待測試樣(A)進行第一檢測和第二檢測，所述第一檢測包括對待測試樣(A)的邊緣進行掃描檢測、以確定所述待測試樣(A)的特征點位置與預定位置的偏離狀態，所述第二檢測包括對所述待測試樣(A)進行檢測，獲取待測試樣(A)的待測目標的物理信息。


2.根據權利要求1所述檢測設備，其特征在于，所述物理信息包括待測目標相對于所述預定位置的第一位置信息；
所述檢測設備還包括：處理單元，被配置為根據所述偏離狀態和所述第一位置信息獲取第二位置信息，所述第二位置信息為所述待測目標相對于所述特征點位置之間的相對位置關系。


3.根據權利要求2所述檢測設備，其特征在于，所述處理單元包括：調節單元和補償單元中的一者或兩者組合；
所述調節單元被配置為所述第二檢測之前根據所述偏離狀態對所述待測試樣(A)的位置進行調節，使所述特征點位置處于所述預定位置，所述處理單元將所述調節單元調節之后獲取的所述第一位置信息作為所述第二位置信息；
所述補償單元被配置為根據所述偏離狀態對所述第一位置信息進行補償，獲取所述第二位置信息。


4.根據權利要求1所述檢測設備，其特征在于，所述待測目標在所述待測試樣(A)中具有預設目標位置關系；
還包括：處理單元，被配置為根據所述預設目標位置關系及偏離狀態獲取測量位置，所述測量位置為所述待測目標與所述預定位置之間的相對位置關系；
對所述待測試樣(A)的待測目標進行所述第二檢測包括：所述探測單元根據所述測量位置對所述待測目標進行定位，并在定位之后對所述待測目標進行檢測，獲取所述待測目標的物理信息。


5.根據權利要求4所述檢測設備，其特征在于，所述處理單元還包括：調節單元和補償單元中的一者或兩者組合；
所述調節單元被配置為所述第二檢測之前根據所述偏離狀態對所述待測試樣(A)的位置進行調節，使所述特征點位置處于所述預定位置；
所述補償單元被配置為根據所述偏離狀態對所述預定位置進行補償，獲取所述測量位置。


6.根據權利要求1所述檢測設備，其特征在于，所述探測單元包括探測裝置和光源裝置，所述光源裝置用于向所述待測試樣(A)提供檢測光，所述檢測光經所述待測試樣(A)形成信號光，所述探測裝置用于收集所述信號光，根據所述信號光確定所述待測試樣(A)的特征點位置與預定位置的偏離狀態及待測目標的物理信息。


7.根據權利要求6所述檢測設備，其特征在于，所述探測裝置和所述光源裝置均設置在沿所述待測目標的法向方向，或者所述探測裝置和所述光源裝置關于所述待測目標的法線對稱設置，或者所述探測裝置和所述光源裝置關于所述待測目標的法線非對稱設置。


8.根據權利要求6所述檢測設備，其特征在于，所述探測裝置包括多個探測通道，所述探測通道被配置為接收不同角度的信號光；所述多個探測裝置中一個或多個被配置為對所述待測試樣(A)邊緣進行所述第一檢測。


9.根據權利要求6所述檢測設備，其特征在于，所述探測裝置均包括探測器和鏡頭，所述探測器為線陣探測器。


10.根據權利要求6所述檢測設備，其特征在于，根據所述信號光獲取所述待測試樣(A)邊緣上至少三點的位置關系，根據所述位置關系獲取特征點位置與所述預定位置的偏離狀態；或者所述待測試樣(A)的待測目標的物理信息。


11.根據權利要求1所述檢測設備，其特征在于，所述待測試樣(A)的邊緣為圓環形，所述特征點為所述待測試樣(A)邊緣的圓心。


12.根據權利...

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳魯，范鐸，方一，張鵬斌，
申請(專利權)人：深圳中科飛測科技有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44