【技術實現步驟摘要】
一種用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒的清洗裝置
本專利技術涉及LCD顯示屏CF制造輔助器械
,具體涉及一種用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒的清洗裝置。
技術介紹
在LCD顯示屏的CF制造過程中,在腔體內用于放置玻璃基板的框架(Carrier、Tray等),其各種材料在玻璃基板上沉積過程中,框架表面也會沉積材料,隨著沉積物厚度的增加,沉積膜與擋板的附著力會降低,沉積膜可能會脫落污染腔體,影響LCD顯示屏的顯示質量,所以需要對腔體內裸露于工藝環境中的部件進行精密再生,延長部件的使用壽命,確保制程環境滿足顯示屏制程工藝要求,提升產品質量,降低客戶端制程成本。而框架上有些特殊部件(規則的不銹鋼圓柱形部件)只能使用物理方式(使用酒精、丙酮、藍威寶、聚丙烯酸銨鹽等有機試劑進行擦拭)進行手動清潔,但部件體積過大、過重,人員進行不易搬運、清潔效率低下,人員直接接觸化學藥品也存在安全隱患。因此,LCD顯示屏CF制造輔助器械
亟需一種能夠用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒自動化、連續化清洗作業的裝置。
技術實現思路
本專利技術克服了現有技術的缺陷,提供一種能夠用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒自動化、連續化清洗作業的裝置。本專利技術通過下述技術方案實現:一種用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒的清洗裝置,包括設置在機架上的清洗池,所述清洗池側邊設有工作臺,所述清洗池的池底低于工作臺的臺面;所述清洗池長度方向的一端側壁設有卡盤,所述清洗池與卡盤相對的側壁設有承托機 ...
【技術保護點】
1.一種用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒的清洗裝置,其特征在于,包括設置在機架(1)上的清洗池(11),所述清洗池(11)側邊設有工作臺(12),所述清洗池(11)的池底低于工作臺(12)的臺面;所述清洗池(11)長度方向的一端側壁設有卡盤(2),所述清洗池(11)與卡盤(2)相對的側壁設有承托機構(3),所述工作臺(12)上設有導向機構(5),所述導向機構(5)上設有可與工件(9)相互作用的清洗機構(6),所述導向機構(5)可驅動清洗機構(6)在卡盤(2)和承托機構(3)之間往復運動;所述卡盤(2)遠離承托機構(3)的一端設有驅動機構(7)。/n
【技術特征摘要】
1.一種用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒的清洗裝置,其特征在于,包括設置在機架(1)上的清洗池(11),所述清洗池(11)側邊設有工作臺(12),所述清洗池(11)的池底低于工作臺(12)的臺面;所述清洗池(11)長度方向的一端側壁設有卡盤(2),所述清洗池(11)與卡盤(2)相對的側壁設有承托機構(3),所述工作臺(12)上設有導向機構(5),所述導向機構(5)上設有可與工件(9)相互作用的清洗機構(6),所述導向機構(5)可驅動清洗機構(6)在卡盤(2)和承托機構(3)之間往復運動;所述卡盤(2)遠離承托機構(3)的一端設有驅動機構(7)。
2.根據權利要求1所述的一種用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒的清洗裝置,其特征在于,所述承托機構(3)包括托塊(31),所述托塊(31)中部設有用于放置工件(9)的V形讓位槽,所述讓位槽的兩側壁上端設有承托輪對(33),所述托塊(31)的一端鉸接壓塊(32),所述壓塊(32)可以扣合在托塊(31)上,所述壓塊(32)的中部對應讓位槽的位置設有壓輪(34),所述托塊(31)和壓塊(32)遠離鉸接點的一端設有卡位組件。
3.根據權利要求2所述的一種用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒的清洗裝置,其特征在于,所述卡位組件包括設置在壓塊(32)遠離鉸接點一端的卡腔(35),所述卡腔(35)可以容納托塊(31)遠離鉸接點的一端,所述卡腔(35)側壁設有若干卡孔(36),所述卡孔(36)與壓塊(32)垂直,所述托塊(31)對應卡孔(36)的位置設有一個與卡孔(36)適配的通孔。
4.根據權利要求1~3任意一項所述的一種用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒的清洗裝置,其特征在于,所述承托機構(3)設置在調節機構(4)上,所述調節機構(4)可以帶動承托機構(3)靠近或遠離卡盤(2)和/或靠近或遠離清洗池(11)的池底。
5.根據權利要求4所述的一種用于LCD玻璃基板沉積作業框架導向棒的清洗裝置,其特征在于,所述調節機構(4)包括沿清洗池(11)寬度方向延伸的支承臺(42),所述支承臺(42)頂面與承托機構(3)底面固接,所述支承臺(42)的兩端設有豎直延伸的滑動臺(43),所述滑動臺(43)上設有沿清洗池(11)長度方向延伸的滑孔(44),所述調節機構(4)還包括一對在清洗池(11)長度方向相對側壁之間并列設置的滑桿(41),所述滑...
【專利技術屬性】
技術研發人員:萬長明,王宏宇,羅雪春,萬其凱,胡家銘,
申請(專利權)人:成都拓維高科光電科技有限公司,
類型:發明
國別省市:四川;51
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