【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
涂抹清理劑的半導(dǎo)體晶粒線切割裝置
本技術(shù)涉及半導(dǎo)體致冷件生產(chǎn)設(shè)備
，特別是涉及半導(dǎo)體晶粒線切割裝置。
技術(shù)介紹
半導(dǎo)體晶粒線切割裝置是將半導(dǎo)體晶棒切割成為晶粒的設(shè)備，所述的半導(dǎo)體晶粒線切割裝置包括機(jī)架，在機(jī)架上安裝有儲(chǔ)絲輥、導(dǎo)向輪、工作臺(tái)和電解液箱，所述的工作臺(tái)上還有切割工位，還有電極絲纏繞在儲(chǔ)絲輥和導(dǎo)向輪并經(jīng)過工作臺(tái)的切割工位。現(xiàn)有技術(shù)中，半導(dǎo)體晶粒線切割裝置沒有對(duì)電極絲切割工位后進(jìn)行涂抹清理劑的設(shè)置，這樣電極絲使用后直接盤繞在儲(chǔ)絲輥上，再次使用時(shí)，電極絲攜帶較多的污染物，影響晶粒的切割精度，具有實(shí)驗(yàn)不便的缺點(diǎn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)的目的就是針對(duì)上述缺點(diǎn)，提供一種及時(shí)清理電極絲上的污染物、保證再次使用時(shí)提高切割質(zhì)量的半導(dǎo)體晶粒線切割裝置——涂抹清理劑的半導(dǎo)體晶粒線切割裝置。本技術(shù)的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的：涂抹清理劑的半導(dǎo)體晶粒線切割裝置，包括機(jī)架，在機(jī)架上安裝有儲(chǔ)絲輥、導(dǎo)向輪、工作臺(tái)和電解液箱，所述的工作臺(tái)上還有切割工位，還有電極絲纏繞在儲(chǔ)絲輥和導(dǎo)向輪并經(jīng)過工作臺(tái)的切割工位；其特征是：所述的切割工位下面還安裝有清理劑槽，所述的清理劑槽里面具有清理劑槽導(dǎo)向輪，所述的儲(chǔ)絲輥經(jīng)過清理劑槽導(dǎo)向輪。進(jìn)一步地講，所述的清理劑槽里面安裝有電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)的輥刷，所述的輥刷可以清潔電極絲。進(jìn)一步地講，所述的清理劑槽里面還安裝有電加熱絲。進(jìn)一步地講，所述的清理劑槽下面還用管道連通有一個(gè)沉淀槽，所述的管道中間安裝有閥門。本技術(shù)的有益效果是：這樣的半導(dǎo)體晶粒線切割裝置具有可以及時(shí)清理電...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.涂抹清理劑的半導(dǎo)體晶粒線切割裝置，包括機(jī)架，在機(jī)架上安裝有儲(chǔ)絲輥、導(dǎo)向輪、工作臺(tái)和電解液箱，所述的工作臺(tái)上還有切割工位，還有電極絲纏繞在儲(chǔ)絲輥和導(dǎo)向輪并經(jīng)過工作臺(tái)的切割工位；其特征是：所述的切割工位下面還安裝有清理劑槽，所述的清理劑槽里面具有清理劑槽導(dǎo)向輪，所述的儲(chǔ)絲輥經(jīng)過清理劑槽導(dǎo)向輪。/n
【技術(shù)特征摘要】
1.涂抹清理劑的半導(dǎo)體晶粒線切割裝置，包括機(jī)架，在機(jī)架上安裝有儲(chǔ)絲輥、導(dǎo)向輪、工作臺(tái)和電解液箱，所述的工作臺(tái)上還有切割工位，還有電極絲纏繞在儲(chǔ)絲輥和導(dǎo)向輪并經(jīng)過工作臺(tái)的切割工位；其特征是：所述的切割工位下面還安裝有清理劑槽，所述的清理劑槽里面具有清理劑槽導(dǎo)向輪，所述的儲(chǔ)絲輥經(jīng)過清理劑槽導(dǎo)向輪。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂抹清理劑的半導(dǎo)體晶粒線切割裝置，其特征是：所述的清理劑槽里面安裝有電動(dòng)機(jī)帶動(dòng)的輥刷，所述的輥刷可以清潔電極絲。<...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：陳建民，趙麗萍，董銥斐，張文濤，李永校，錢俊有，惠小青，蔡水占，王丹，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：河南鴻昌電子有限公司，
類型：新型
國別省市：河南;41
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