本發(fā)明專利技術(shù)涉及晶體制膜技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種化學(xué)氣相沉積法制備薄膜裝置，包括殼體，殼體的內(nèi)底壁固定連接有第一彈簧，第一彈簧的另一端固定連接有載物臺，載物臺上設(shè)有基體本體，第一彈簧的左右兩側(cè)且位于殼體的內(nèi)底壁均固定連接有兩個套筒，實現(xiàn)兩個套筒的內(nèi)部固定連接有第二彈簧。本發(fā)明專利技術(shù)通過兩側(cè)所需氣體進(jìn)入艙內(nèi)使得帶動載物臺升降使得艙內(nèi)壓強得到控制，解決了現(xiàn)有技術(shù)單側(cè)進(jìn)氣導(dǎo)致薄膜厚度不一的問題，同時通過第一彈簧、第二彈簧、限位桿、磁鐵之間的配合設(shè)置實現(xiàn)裝置內(nèi)通過自動沉積，自動化程度高無需手動控制沉積時間，增加基體側(cè)壁的空氣流通，解決了現(xiàn)有技術(shù)的臺階覆蓋能力差的問題。力差的問題。力差的問題。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
一種化學(xué)氣相沉積法制備薄膜裝置
[0001]本專利技術(shù)涉及晶體制膜
，具體為一種化學(xué)氣相沉積法制備薄膜裝置。
技術(shù)介紹
[0002]化學(xué)氣相沉積法指的是把構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物、單質(zhì)氣體供給基體，借助氣相作用在基體表面的化學(xué)反應(yīng)制得金屬或化合物薄膜的方法。現(xiàn)有技術(shù)存在如下技術(shù)缺陷：第一、現(xiàn)有技術(shù)使用單側(cè)進(jìn)氣法，但這種方法由于氣流流過截面下降導(dǎo)致流速降低在基體表面聚集的薄膜厚度不一，影響了器件的正常使用；第二、封管法需要控制沉積時間，需工作人員對沉積過程中進(jìn)行監(jiān)控，效率低下；第三、在沉積過程中器件表面和側(cè)壁的沉積速率不一導(dǎo)致臺階覆蓋能力差，極大地影響了制膜的精度，造成大量原料浪費。
技術(shù)實現(xiàn)思路
[0003]針對
技術(shù)介紹
中提出的現(xiàn)有裝置在使用過程中存在的不足，本專利技術(shù)提供了一種化學(xué)氣相沉積法制備薄膜裝置，具備雙側(cè)進(jìn)氣同時緩沖反應(yīng)室內(nèi)氣壓、自動化程度高無需手動控制沉積時間、且臺階覆蓋能力好的優(yōu)點，解決了上述
技術(shù)介紹
中提出的技術(shù)問題。
[0004]本專利技術(shù)提供如下技術(shù)方案：一種化學(xué)氣相沉積法制備薄膜裝置，包括殼體，所述殼體的內(nèi)底壁固定連接有第一彈簧，所述第一彈簧的另一端固定連接有載物臺，所述載物臺上設(shè)有基體本體，所述第一彈簧的左右兩側(cè)且位于殼體的內(nèi)底壁均固定連接有兩個套筒，兩個所述套筒的內(nèi)部固定連接有第二彈簧，所述第二彈簧的下端固定連接在殼體的內(nèi)底壁上，所述第二彈簧的另一端固定連接有第一磁鐵，所述載物臺的下端左右兩側(cè)表面開設(shè)有兩個通道，兩個所述通道內(nèi)部滑動連接有限位塊，兩個所述限位塊的下端均固定連接有第二磁鐵，兩個所述第二磁鐵延伸至套筒的內(nèi)部，兩個所述第二磁鐵的下端通過套筒貫穿連接有限位桿，所述限位桿的另一端延伸至殼體的外部，所述殼體左右兩側(cè)側(cè)壁的上端貫穿連接有兩個進(jìn)氣口，所述載物臺的上端表面且位于基體本體的兩側(cè)開設(shè)有兩個通孔，所述通道的左側(cè)且位于載物臺的內(nèi)部開設(shè)有排氣管道，所述排氣管道的另一端通過殼體的底部側(cè)壁延伸至殼體的外側(cè)，所述載物臺的左右兩側(cè)下端側(cè)壁設(shè)有兩個密封塊，所述殼體的底壁外側(cè)固定連接有真空泵。
[0005]優(yōu)選的，所述第二磁鐵的寬度值小于套筒的寬度值，且所述第二磁鐵的斜面一側(cè)寬度值等于限位桿右側(cè)的斜面處寬度值。
[0006]優(yōu)選的，所述排氣管道的寬度值小于真空泵兩側(cè)的套筒的寬度值。
[0007]優(yōu)選的，所述通道的寬度值等于限位塊的寬度值。
[0008]優(yōu)選的，所述密封塊設(shè)置為耐磨光滑材質(zhì)。
[0009]本專利技術(shù)具備以下有益效果：
[0010]1、本專利技術(shù)通過兩側(cè)所需氣體進(jìn)入艙內(nèi)使得帶動載物臺升降使得艙內(nèi)壓強得到控制，同時通過第一彈簧、第二彈簧、載物臺之間的配合設(shè)置實現(xiàn)雙側(cè)進(jìn)氣的艙內(nèi)氣壓得到有效緩沖的效果，解決了現(xiàn)有技術(shù)單側(cè)進(jìn)氣導(dǎo)致薄膜厚度不一的問題。
[0011]2、本專利技術(shù)通過載物臺的下移將雙側(cè)進(jìn)氣的使得艙內(nèi)壓強得到有效緩沖，同時通過第一彈簧、第二彈簧、限位桿、磁鐵之間的配合設(shè)置實現(xiàn)裝置內(nèi)通過自動沉積，滿足封管法給與充足反應(yīng)時長，自動化程度高無需手動控制沉積時間，解決了現(xiàn)有技術(shù)封管法需要控制沉積時間的問題。
[0012]3、本專利技術(shù)通過限位桿的限位作用使得載物臺通道開啟，同時通過第二彈簧、磁鐵、限位塊、出氣管、真空泵之間的配合設(shè)置實現(xiàn)將艙內(nèi)氣體通過通道導(dǎo)出，增加基體側(cè)壁的空氣流通，解決了現(xiàn)有技術(shù)的臺階覆蓋能力差的問題。
附圖說明
[0013]圖1為本專利技術(shù)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2為本專利技術(shù)載物臺壓縮狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖3為本專利技術(shù)載物臺排氣狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖4為本專利技術(shù)圖3中A處結(jié)構(gòu)局部放大示意圖。
[0017]圖中：1、殼體；2、套筒；3、第一彈簧；4、載物臺；41、通道；5、基體本體；6、第二彈簧；7、第一磁鐵；8、第二磁鐵；9、限位塊；10、限位桿；11、進(jìn)氣口；12、排氣管道；13、通孔；14、密封塊；15、真空泵。
具體實施方式
[0018]下面將結(jié)合本專利技術(shù)實施例中的附圖，對本專利技術(shù)實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本專利技術(shù)一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本專利技術(shù)中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本專利技術(shù)保護(hù)的范圍。
[0019]請參閱圖1-4，一種化學(xué)氣相沉積法制備薄膜裝置，包括殼體1，殼體1的內(nèi)底壁固定連接有第一彈簧3，第一彈簧3的另一端固定連接有載物臺4，載物臺4上設(shè)有基體本體5，第一彈簧3的左右兩側(cè)且位于殼體1的內(nèi)底壁均固定連接有兩個套筒2，實現(xiàn)兩個套筒2的內(nèi)部固定連接有第二彈簧6，第二彈簧6的下端固定連接在殼體1的內(nèi)底壁上，第二彈簧6的另一端固定連接有第一磁鐵7，載物臺4的下端左右兩側(cè)表面開設(shè)有兩個通道41，兩個通道41內(nèi)部滑動連接有限位塊9，兩個限位塊9的下端均固定連接有第二磁鐵8，兩個第二磁鐵8延伸至套筒2的內(nèi)部，兩個第二磁鐵8的下端通過套筒2貫穿連接有限位桿10，限位桿10的另一端延伸至殼體1的外部，隨著反應(yīng)氣體的持續(xù)輸入反應(yīng)室內(nèi)的壓強逐漸增大，在壓力作用下載物臺4向下運動，與此同時載物臺4擠壓第一彈簧3，兩個限位塊9也隨之運動，當(dāng)上方的壓力大于第一磁鐵7和第二磁鐵8之間的斥力時，與限位塊9固定連接的第二磁鐵8會向下運動推動限位桿10，擠壓第二彈簧6，在限位桿10的限位作用下第二磁鐵8會卡在套筒2內(nèi)部，殼體1左右兩側(cè)側(cè)壁的上端貫穿連接有兩個進(jìn)氣口11，載物臺4的上端表面且位于基體本體5的兩側(cè)開設(shè)有兩個通孔13，通道41的左側(cè)且位于載物臺4的內(nèi)部開設(shè)有排氣管道12，氣體與基體本體5的側(cè)壁充分接觸，增加基體本體5側(cè)向的氣體流速，排氣管道12的另一端通過殼體1的底部側(cè)壁延伸至殼體1的外側(cè)，載物臺4的左右兩側(cè)下端側(cè)壁設(shè)有兩個密封塊14，殼體1的底壁外側(cè)固定連接有真空泵15，第二磁鐵8的寬度值小于套筒2的寬度值，且第二磁鐵8的斜面一側(cè)寬度值等于限位桿10右側(cè)的斜面處寬度值，使得第二磁鐵8可在套筒2內(nèi)沿豎直
方向滑動，且擠壓限位桿10時確保限位桿10恢復(fù)初始位置時可對第二磁鐵8進(jìn)行限位，排氣管道12的寬度值小于真空泵15兩側(cè)的套筒的寬度值，當(dāng)載物臺4下移過程中，排氣管道12下移過程中在真空泵15兩側(cè)的套筒內(nèi)沿下方滑動，通道41的寬度值等于限位塊9的寬度值，確保限位塊9沿通道41滑動過程中裝置的氣密性完好，密封塊14設(shè)置為耐磨光滑材質(zhì)，由于載物臺4沿豎直方向滑動過程中艙內(nèi)始終保持密封狀態(tài)，密封塊14的設(shè)置減少滑動過程的損耗。
[0020]本專利技術(shù)的使用方法(工作原理)如下：
[0021]首先將反應(yīng)氣體通過兩側(cè)的進(jìn)氣口11輸送至裝置內(nèi)部，隨著反應(yīng)氣體的持續(xù)輸入反應(yīng)室內(nèi)的壓強逐漸增大，在壓力作用下載物臺4向下運動，與此同時載物臺4擠壓第一彈簧3，兩個限位塊9也隨之運動，當(dāng)上方的壓力大于第一磁鐵7和第二磁鐵8之間的斥力時，與限位塊9固定連接的第二磁鐵8會向下運動推動限位桿10，擠壓第二彈簧6，在限位桿10的限位作用下第二磁鐵8會卡在套筒2內(nèi)部，此時關(guān)本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點】
【技術(shù)特征摘要】
1.一種化學(xué)氣相沉積法制備薄膜裝置，包括殼體(1)，其特征在于：所述殼體(1)的內(nèi)底壁固定連接有第一彈簧(3)，所述第一彈簧(3)的另一端固定連接有載物臺(4)，所述載物臺(4)上設(shè)有基體本體(5)，所述第一彈簧(3)的左右兩側(cè)且位于殼體(1)的內(nèi)底壁均固定連接有兩個套筒(2)，兩個所述套筒(2)的內(nèi)部固定連接有第二彈簧(6)，所述第二彈簧(6)的下端固定連接在殼體(1)的內(nèi)底壁上，所述第二彈簧(6)的另一端固定連接有第一磁鐵(7)，所述載物臺(4)的下端左右兩側(cè)表面開設(shè)有兩個通道(41)，兩個所述通道(41)內(nèi)部滑動連接有限位塊(9)，兩個所述限位塊(9)的下端均固定連接有第二磁鐵(8)，兩個所述第二磁鐵(8)延伸至套筒(2)的內(nèi)部，兩個所述第二磁鐵(8)的下端通過套筒(2)貫穿連接有限位桿(10)，所述限位桿(10)的另一端延伸至殼體(1)的外部，所述殼體(1)左右兩側(cè)側(cè)壁的上端貫穿連接有兩個進(jìn)氣口(11)，所述載物臺(4)的上端表面且位于基...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：?七四專利代理機構(gòu)，
申請(專利權(quán))人：張亞，
類型：發(fā)明
國別省市：
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