本實用新型專利技術公開了消除氫氣發生器輸氫管路沖液的氣路結構，包括電解池，所述電解池的內部中間位置固定連接有電解池隔膜及鎳絲網，所述電解池內部的一側設置有電解池陽極，且其另一側設置有電解池陰極，所述電解池內部靠近電解池陽極的位置設置有O2排空口，且電解池的內部靠近電解池陰極的位置設置有氫氣輸出口，所述氫氣輸出口遠離電解池的一端設置有氣水分離器，所述氣水分離器的遠離電解池的一側設置有液體單向閥。該輸氫管路沖液的氣路結構在實際使用過程中能夠解決沖液時氫氣輸出不正常，污染管道，損壞色譜儀的檢測器，造成損失，該結構使氫氣輸出管路不沖出電解液，純度高，含水蒸氣少，使用壽命長。使用壽命長。使用壽命長。
【技術實現步驟摘要】
消除氫氣發生器輸氫管路沖液的氣路結構
[0001]本技術涉及氣相色譜儀分析中氫氣發生器
，尤其是涉及消除氫氣發生器輸氫管路沖液的氣路結構。
技術介紹
[0002]氣源是氣相色譜使用中不可缺少的消耗品，比如，熱導檢測器(FID)氣相色譜載氣是用氫氣(H2)或氦氣(He)有時用氬氣(Ar)和氮氣(N2)。氫火焰離子化檢測器(FID)要用氮氣(N2)作載氣，用(H2)作燃氣，用空氣(Air)作助燃氣，火焰光度檢測器用氣與FID相同，電子捕獲檢測器(ECD)用高純N2作載氣等通常是用高壓氣瓶氣作為氣源使用。從上述的氣源中很明顯對氫氣源的使用是最為重要的是最危險的氣體。因為氫氣是分子量最小的，滲透強力最強，最容易燃燒最容易爆炸的氣體，所以，國家安全部門對使用高壓氫氣瓶供氣的規定特別嚴格，明確規定高壓氫氣瓶不能入實驗室，必須在室外建造專用氣瓶室，使用時必須按嚴格規定進行操作安全部門會定期進行檢查。這都是在總結以往曾發生過的氫氣爆炸造成過嚴重損害的悲痛教訓的基礎上作出的。在這種情況下，就出現了采用電解法電解用純水制氫氣作為氫氣源供氫氣的安全方法。這樣就出現了氫發生器。由于它是要用時開啟電源才有氫氣輸出的，不用就停止了，而且它的產氫量小(通常300ml/min)，壓力低(通常0.25MPa至0.3MPa)又是自動控制的就消除了實驗室里會出現燃燒或爆炸的危險。本技術是對氣相色譜儀必須配套使用的氫氣發生器如何消除輸氫管道沖電解液的高危害現象。
[0003]為此，提出消除氫氣發生器輸氫管路沖液的氣路結構。
技術實現思路
<br/>[0004]本技術的目的在于提供消除氫氣發生器輸氫管路沖液的氣路結構，該輸氫管路沖液的氣路結構在實際使用過程中能夠解決沖液時氫氣輸出不正常，污染管道，損壞色譜儀的檢測器，造成損失，該結構使氫氣輸出管路不沖出電解液，純度高，含水蒸氣少，使用壽命長，以解決上述
技術介紹
中提出的問題。
[0005]為實現上述目的，本技術提供如下技術方案：消除氫氣發生器輸氫管路沖液的氣路結構，包括電解池，所述電解池的內部中間位置固定連接有電解池隔膜及鎳絲網，所述電解池內部的一側設置有電解池陽極，且其另一側設置有電解池陰極，所述電解池內部靠近電解池陽極的位置設置有O2排空口，且電解池的內部靠近電解池陰極的位置設置有氫氣輸出口，所述氫氣輸出口遠離電解池的一端設置有氣水分離器，所述氣水分離器的遠離電解池的一側設置有液體單向閥，所述液體單向閥遠離氣水分離器的一側設置有二位三通電磁閥，所述二位三通電磁閥遠離液體單向閥的一側設置有干燥過濾器，所述電解池的內部設置有飽和KOH水液。
[0006]優選的，所述干燥過濾器的上端固定連接有氫氣輸出管道，氫氣輸出管道的一端固定連接有H2輸出壓力表。
[0007]優選的，所述干燥過濾器、二位三通電磁閥、液體單向閥、氣水分離器以及氫氣輸
出口五者之間均通過氣體管道固定連接。
[0008]優選的，所述電解池隔膜及鎳絲網為中間電解池隔膜兩側固定鎳絲網結構形式分布。
[0009]與現有技術相比，本技術的有益效果是：
[0010]本技術的目的在于提供消除氫氣發生器輸氫管路沖液的氣路結構，該輸氫管路沖液的氣路結構在實際使用過程中能夠解決沖液時氫氣輸出不正常，污染管道，損壞色譜儀的檢測器，造成損失，該結構使氫氣輸出管路不沖出電解液，純度高，含水蒸氣少，使用壽命長。
附圖說明
[0011]為了更清楚地說明本技術具體實施方式或現有技術中的技術方案，下面將對具體實施方式或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本技術的一些實施方式，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0012]圖1為本技術的輸氫管路沖液的氣路結構示意圖。
[0013]附圖標記說明：
[0014]圖中：1、電解池；2、飽和KOH水液；3、O2排空口；4、電解池陽極；5、電解池隔膜及鎳絲網；6、電解池陰極；7、氫氣輸出口；8、氣水分離器；9、液體單向閥；10、二位三通電磁閥；11、干燥過濾器；12、H2輸出壓力表。
具體實施方式
[0015]下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。
[0016]請參閱圖1，本技術提供的一種技術方案：
[0017]如圖1所示，消除氫氣發生器輸氫管路沖液的氣路結構，包括電解池1，所述電解池1的內部中間位置固定連接有電解池隔膜及鎳絲網5，所述電解池1內部的一側設置有電解池陽極4，且其另一側設置有電解池陰極6，所述電解池1內部靠近電解池陽極4的位置設置有O2排空口3，且電解池1的內部靠近電解池陰極6的位置設置有氫氣輸出口7，所述氫氣輸出口7遠離電解池1的一端設置有氣水分離器8，所述氣水分離器8的遠離電解池1的一側設置有液體單向閥9，所述液體單向閥9遠離氣水分離器8的一側設置有二位三通電磁閥10，所述二位三通電磁閥10遠離液體單向閥9的一側設置有干燥過濾器11，所述電解池1的內部設置有KOH水液2。
[0018]具體的，如圖1所示，所述干燥過濾器11的上端固定連接有氫氣輸出管道，氫氣輸出管道的一端固定連接有H2輸出壓力表12。
[0019]具體的，如圖1所示，所述干燥過濾器11、二位三通電磁閥10、液體單向閥9、氣水分離器8以及氫氣輸出口7五者之間均通過氣體管道固定連接。
[0020]具體的，如圖1所示，所述電解池隔膜及鎳絲網5為中間電解池隔膜兩側固定鎳絲
網結構形式分布。
[0021]剖析沖液成因：如附圖1所示，電解水產氫是有一個電解池1，有正負兩個電極，純水用KOH試劑溶解后灌入電解池1中(有水位指示)，KOH液在H2O變成K+和OH-離子以便于兩極加直流電壓時形成離子流遷移的導電回路，電解池中間的隔膜加鎳的催化下發生化學反應變成H+和OH-離子讓隔膜分開，H+在負極上接受電子變成H2，OH-在正極上去掉電子變成O2，很顯然輸出的H2中會有大量水蒸氣和H2O分子需要進行氣水分離，H2再經過干燥器吸掉水蒸氣就是高純度的H2氣了，沖液往往發生在色譜儀停機氫氣發生器關機以后出現，經過分析主要是正極O2氣是排空與大氣壓相通負極H2管路是密閉的，停機后H2會繼續溢出，因H2分子量小擴散快，比空氣輕很多，當負極空間壓力低于正極空間(大氣壓)低(處于相對負壓)時，電解液就會進入H2輸出管道內甚至將其全部灌滿，這樣就形成沖液，消除方法是加裝一個液體單向閥9，使液體不能沖入管道，或者讓電解池兩極空間壓力停機后很快平衡都是大氣壓閥件，輸出端口處再加一個干燥過濾器11，除去殘余的水蒸氣及水的霧狀微珠，輸出的H2氣就是高純度了。
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【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.消除氫氣發生器輸氫管路沖液的氣路結構，包括電解池(1)，其特征在于：所述電解池(1)的內部中間位置固定連接有電解池隔膜及鎳絲網(5)，所述電解池(1)內部的一側設置有電解池陽極(4)，且其另一側設置有電解池陰極(6)，所述電解池(1)內部靠近電解池陽極(4)的位置設置有O2排空口(3)，且電解池(1)的內部靠近電解池陰極(6)的位置設置有氫氣輸出口(7)，所述氫氣輸出口(7)遠離電解池(1)的一端設置有氣水分離器(8)，所述氣水分離器(8)的遠離電解池(1)的一側設置有液體單向閥(9)，所述液體單向閥(9)遠離氣水分離器(8)的一側設置有二位三通電磁閥(10)，所述二位三通電磁閥(10)遠離液體單向閥(9)的一...
【專利技術屬性】
技術研發人員：李洪盛，
申請(專利權)人：北京北分天普儀器技術有限公司，
類型：新型
國別省市：
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