光敏組合物及其使用的新型化合物制造技術(shù)

一種光敏組合物，其包含：由此處定義的式（１）表示的敏化染料；可以生成自由基、酸或堿的引發(fā)劑化合物；和其物理或化學(xué)性能被自由基、酸和堿中的至少一種不可逆地改變的化合物。（*該技術(shù)在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及一種通過曝光在高敏感性下固化的光敏組合物且涉及一種其使用的新型化合物。詳細地，本專利技術(shù)涉及一種用作通過基于數(shù)字信號的掃描曝光而形成圖像的平版印刷版前體的光敏層的光敏組合物，并且涉及一種具有優(yōu)異光熱轉(zhuǎn)換性能的新型染料化合物。
技術(shù)介紹
這里，具有其中在親水載體上提供親脂性光敏樹脂層的結(jié)構(gòu)的PS版被廣泛地用作平版印刷版。至于其生產(chǎn)方法，一般而言，通過由平版印刷膠片的掩模曝光(表面曝光)之后，溶解和除去非圖像區(qū)域，來得到所需要的印刷版。近年來，電子處理的數(shù)字技術(shù)，使用計算機的圖像信息的存儲和輸出成為普遍，并且與此對應(yīng)的各種新圖像輸出系統(tǒng)已經(jīng)投入實際應(yīng)用。作為結(jié)果，需要計算機印刷板(CTP)技術(shù)，其中具有高定向性的光線，如激光根據(jù)數(shù)字化的圖像信息掃描，由此在沒有平版印刷膠片的幫助下直接制備印刷版，并且一個重要的問題是得到適宜于其中的印刷版前體。作為得到這種可掃描曝光的平版印刷版的系統(tǒng)之一，采用的是一種在含有親水表面的載體上形成油墨吸收樹脂層區(qū)域的系統(tǒng)。這是這樣一種材料，其中在載體上提供通過掃描曝光形成油墨吸收區(qū)域的陰圖型光敏層，并且建議了一種使用具有優(yōu)異光敏速度的光聚合系統(tǒng)組合物的結(jié)構(gòu)，并且已經(jīng)將其投入實際應(yīng)用。具有這種結(jié)構(gòu)的平版印刷版前體在顯影處理方面是簡單的，并且具有所需要的印刷性能，如其具有優(yōu)異的清晰度、油墨接受性能，耐印刷性和玷污性能。上面所述的可光聚合組合物基本上包含一種含烯式不飽和鍵的可聚合化合物和光聚合引發(fā)系統(tǒng)，及粘合劑樹脂，如果需要的話。在可光聚合組合物中，光引發(fā)系統(tǒng)通過掃描曝光吸收光線以產(chǎn)生活性源，如活性自由基，由此導(dǎo)致并且促進可聚合化合物的光聚合反應(yīng)，并且固化曝光區(qū)域以形成圖像。在這種可掃描曝光的光聚合組合物中，公開了各種具有優(yōu)異光敏性的光引發(fā)系統(tǒng)(例如，參見Bruce M.Monroe等，Chemical Revue Vol.93(1993)，第435-448頁，和R.S.Davidson，Journal of Photochemistry andBiology，AChemistry，Vol.73(1993)，第81-96頁)。在將這些文件中所述的光引發(fā)系統(tǒng)用于常規(guī)CTP系統(tǒng)作為曝光光源的情況下，具有長波長的可見光源如Ar激光器(488nm)和FD-YAG激光器(532nm)，在現(xiàn)在這種情形下，不能得到足夠的敏感度，原因在于光源的輸出是不足夠高或其它的原因。因此，需要適宜于在更高速度下曝光的高敏感度的引發(fā)系統(tǒng)。另一方面，近年來，例如，使用InGaN基材料并且可以連續(xù)地導(dǎo)致在350nm至450nm區(qū)域振動的半導(dǎo)體激光器處于實際應(yīng)用階段。這種使用短波光源的掃描曝光系統(tǒng)具有這樣的優(yōu)點，即可以構(gòu)成經(jīng)濟的系統(tǒng)，同時保持足夠的輸出，因為從結(jié)構(gòu)方面考慮，可以在低成本下制備半導(dǎo)體激光器。此外，該系統(tǒng)可以使用這樣的光敏材料，其在短波區(qū)域具有光敏感性，并且與現(xiàn)有的使用FD-YAG或Ar激光器的系統(tǒng)相比，可以在更明亮安全的光下工作。但是，現(xiàn)在還未知悉對在350nm至450nm的短波區(qū)域掃描曝光具有足夠敏感性的光引發(fā)系統(tǒng)?？紤]到上述，雖然本申請人建議了一種含有在短波區(qū)域高度敏感的敏化染料的光敏組合物(參考JP-A-2000-258910)，需要對含有這種敏化染料的光引發(fā)系統(tǒng)的敏感度進一步改善。此外，例如，如在J.P.Faussier，Photoinitiated Polymerization-Theory andApplicationsRapra Review，Vol.9，Report，Rapra Technology(1998)和M.Tsunooka等，Prog Polym.Sci.，21，1(1996)中所述，它在圖像領(lǐng)域是一種強烈需求的技術(shù)，以得到高敏感性的光引發(fā)系統(tǒng)。通過選擇引發(fā)劑化合物，由敏化染料和引發(fā)劑化合物組成的光引發(fā)系統(tǒng)除了生成前面所述的活性自由基外，還可以生成酸和堿，并且可以用于例如圖像形成，如光定形，全息攝影，和彩色硬拷貝，并且用于制備電子材料如光刻膠領(lǐng)域，和用于可光固化樹脂材料如油墨、油漆和粘合劑。在這些工業(yè)領(lǐng)域中，為了引起引發(fā)劑化合物在高效率下分解，需要找出具有優(yōu)異吸光率和敏化性能的敏化染料。
技術(shù)實現(xiàn)思路
專利技術(shù)概述考慮到前面所述的問題，本專利技術(shù)的一個目的在于提供一種光敏組合物，其可以用作適宜于CTP系統(tǒng)掃描曝光的平版印刷版前體的光敏層，所述的光敏組合物具有優(yōu)異的可使用性和經(jīng)濟性，并且其使用一種新型的光引發(fā)系統(tǒng)，所述的光引發(fā)系統(tǒng)對便宜的短波半導(dǎo)體激光器的振動波長具有高敏感性，并且對350nm至450nm的寬波具有高的敏感性。此外，本專利技術(shù)的第二個目的在于提供一種新型的能夠用于光敏組合物的染料化合物，其對前面所述的短波半導(dǎo)體激光器的振動波長具有高敏感性。為了達到前述目的，本專利技術(shù)人進行了深入細致的研究。作為結(jié)果，發(fā)現(xiàn)了一種新型的包含一種具有特殊結(jié)構(gòu)的敏化染料的光引發(fā)系統(tǒng)和引發(fā)劑化合物提供高的光敏感度，尤其是在約350nm至450nm的區(qū)域具有高敏感度，導(dǎo)致本專利技術(shù)的完成。具體而言，本專利技術(shù)的光敏組合物的特征在于，含有(A)一種由下式(1)表示的敏化染料，(B)一種可以生成自由基、酸或堿的引發(fā)劑化合物，和(C)一種其物理或化學(xué)特性被自由基、酸和堿中的至少一種不可逆地改變的化合物 在前面所述的式(1)中，A表示一種任選取代的芳環(huán)或雜環(huán)；X表示氧原子、硫原子或-N(R1)-；Y表示氧原子或-N(R1)-；R1、R2和R3各自獨立地表示氫原子或一價非金屬原子的基團；并且A和R1、R2或R3可以相互連接形成脂族環(huán)或芳環(huán)。此外，在前面所述的光敏組合物中，在(A)一種由下式(1)表示的敏化染料和(B)一種可以生成自由基、酸或堿的引發(fā)劑化合物的混合物中，這兩種物質(zhì)構(gòu)成高敏感性的光引發(fā)系統(tǒng)，舉出了根據(jù)本專利技術(shù)的第二實施方案的由下式(2)表示的亞氨基噁唑烷酮衍生物作為由式(1)表示的敏化染料(A)的優(yōu)選實施方案，并且此化合物是一種新型的化合物 在前面所述的式(2)中，A表示一種任選取代的芳環(huán)或雜環(huán)；X表示氧原子、硫原子或-N(R1)-；Y表示氧原子或-N(R1)-；R1、R4、R5和R6各自獨立地表示氫原子或一價非金屬原子的基團；并且A和R1、R4、R5或R6可以相互連接形成脂族環(huán)或芳環(huán)。順便提及，本專利技術(shù)所稱的引發(fā)劑化合物是指一種在給予能量時產(chǎn)生自由基、酸或堿的化合物，其每一種是用于引發(fā)和促進一種共存的可加聚化合物的聚合(交聯(lián))反應(yīng)的引發(fā)源。根據(jù)本專利技術(shù)第三實施方案的光敏組合物含有(A-1)一種由下式(3)表示的敏化染料，(B-1)一種二茂鈦化合物，和(C-1)一種可以與自由基、酸和堿中的至少一種反應(yīng)的可加聚化合物 其中A表示一種任選取代的芳環(huán)或雜環(huán)；X表示氧原子、硫原子或-N(R1)-；R1、R4和R5各自獨立地表示氫原子或一價非金屬原子的基團；并且A和R1、R4和R5可以相互連接形成脂族環(huán)或芳環(huán)，前提條件是在Ar骨架上存在哈米特(Hamet’)值的總和大于0的取代基。本專利技術(shù)的作用機理還不很清楚。由前面所述的式(1)表示的敏化染料對350nm至450nm的波長具有高的敏感度；它在電子激發(fā)態(tài)對便宜的短波半導(dǎo)體激光器的振動波長照射(曝光)具有高敏感度；并且根據(jù)由光吸收導(dǎo)致的電子激發(fā)態(tài)，電子傳遞，能本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種光敏組合物，其含有：（Ａ）由下式（１）表示的敏化染料：＊＊＊（１）其中Ａ表示一種任選取代的芳環(huán)或雜環(huán)；Ｘ表示氧原子、硫原子或－Ｎ（Ｒ↑［１］）－；Ｙ表示氧原子或－Ｎ（Ｒ↑［１］）－；Ｒ↑［１］、Ｒ↑［ ２］和Ｒ↑［３］各自獨立地表示氫原子或一價非金屬原子的基團；并且Ａ和Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］或Ｒ↑［３］可以相互連接形成脂族環(huán)或芳環(huán)；（Ｂ）可以生成自由基、酸或堿的引發(fā)劑化合物；和（Ｃ）其物理或化學(xué)特性被自由基、酸和堿中的至少 一種不可逆地改變的化合物。

【技術(shù)特征摘要】
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【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：涉谷明規(guī)，
申請(專利權(quán))人：富士膠片株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：JP[日本]