本發(fā)明專利技術(shù)公開了感光體外涂層掩蔽劑，以及一種具有聚合物樹脂組合物的涂料組合物，該聚合物樹脂組合物含有至少一種酸催化劑和掩蔽劑，其中掩蔽劑選自化合物Ａ、化合物Ｂ和化合物Ａ的?；苌铮渲谢衔铮劣山Y(jié)構(gòu)式（Ⅰ）給出，其中Ｘ代表選自－ＯＲ和－ＮＲ′Ｒ″的取代基，其中Ｒ、Ｒ′和Ｒ″各自獨立地表示氫原子或烴基；和化合物Ｂ由結(jié)構(gòu)式（Ⅱ）給出，其中Ｙ和Ｚ獨立地代表－ＯＨ或－ＮＨ↓［２］。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本公開內(nèi)容一般性涉及電子照相成像元件，并且更具體地涉及具有改進的外涂層的多層感光體結(jié)構(gòu)。特別地，本公開內(nèi)容涉及具 有包括新掩蔽劑的改進外涂層的電子照相成像元件。本公開內(nèi)容還涉及 制造和使用該成像元件的方法。
技術(shù)介紹
現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)建議使用醇可溶性聚酰胺的各種外涂層。 最早的外涂層之一為包括沒有任何甲基甲氧基的醇可溶性聚酰胺 (Elvamide)的外涂層，所述醇可溶性聚酰胺含有N，N'-二苯基-N，N'-雙(3-羥苯基)--4，4'-二胺。這種外涂層記栽在US 5,368,967中。雖然 該外涂層在使用電暈器帶電的設(shè)備中具有極低磨損速率，但是磨損速率 在使用偏壓帶電輥(BCR)的設(shè)備中較高。交聯(lián)的聚酰胺外涂層克服了這 一缺點。這種外涂層包括含有N，N'-二苯基-N，N'-雙(3-羥苯基Hl,l'-聯(lián) 苯]-4，4'-二胺的交聯(lián)的聚酰胺(例如Luckamide)。為了得到交聯(lián)聚酰胺聚 合物，具有甲基甲氧基的Luckamide與例如乙二酸的催化劑一起使用。 這種強韌的外涂層記栽在US 5,702，854中。由于這種外涂層，在使用偏 壓帶電輥(BCR)和偏壓轉(zhuǎn)印輥(BTR)的設(shè)備中得到極低磨損速率。已經(jīng)使 用乙二酸和三嗜烷制備含有交聯(lián)聚酰胺(例如Luckamide)的耐用感光體 外涂層，以改善感光體壽命至少3到4倍，該交聯(lián)聚酰胺含有N，N'-二苯 基-N,N'-雙(3-羥苯基)--4，4'-二胺)的某些 感光體電荷傳輸層的粘合性在這種干燥條件下極大地降低。另一方面， 在低于約ll(TC的干燥條件下，外涂層對電荷傳輸層的粘合性良好，但 是外涂層具有高磨損速率。因此，對于要達(dá)到粘合性和磨損速率指標(biāo)的 外涂層存在不可接受的窄的干燥條件窗口。電子照相成像元件或感光體通常包括在導(dǎo)電性基材上形成的光電導(dǎo)層。光電導(dǎo)層在黑暗中為絕緣體，使得電荷保持在其表面上。 當(dāng)暴露于光線時，電荷被消耗。許多先期的成像系統(tǒng)基于使用小直徑感光體轉(zhuǎn)鼓。使用小 直徑轉(zhuǎn)鼓對感光體壽命提供保險。限制復(fù)印機和打印機中感光體壽命的 主要因素為磨損。使用小直徑轉(zhuǎn)鼓感光體使磨損問題加劇，因為成像單 字母尺寸(letter-size)頁需要例如三到十個循環(huán)。為復(fù)制單字母尺寸頁， 可能需要小直徑轉(zhuǎn)鼓感光體的多次循環(huán)，對于商業(yè)體系的理想目標(biāo)，為 得到100,000次印制，可能需要來自感光體轉(zhuǎn)鼓的高達(dá)一百萬次循環(huán)。對于小體積復(fù)印機和打印機，因為在成像周期過程中幾乎 沒有或沒有臭氧產(chǎn)生，所以偏壓帶電輥(BCR)是理想的。但是，充電過 程中由BCR產(chǎn)生的微量電暈損害感光體，導(dǎo)致成像表面，例如電荷傳 輸層的暴露表面快速磨損。例如，磨損速率可以高達(dá)每100,000個成像 周期約16微米。采用偏壓轉(zhuǎn)印輥(BTR)系統(tǒng)遇到類似問題。得到更長感 光體轉(zhuǎn)鼓壽命的一種方法是在成像表面，例如感光體的電荷傳輸層上形 成保護外涂層。這種外涂層必須滿足許多要求，包括傳輸空穴、抗圖像 刪除、抗磨損和避免涂布過程中底層的擾動。穩(wěn)固的外涂層被設(shè)計用于長壽命感光體應(yīng)用，其滿足所需 的電性能，顯示改善的抗開裂和抗劃性、抗刪除并提供優(yōu)異的打印質(zhì)量。 這些外涂層設(shè)計的穩(wěn)固性質(zhì)主要歸因于由強酸催化的大規(guī)模交聯(lián)。雖然 強酸能夠縮短固化期，但是其降低溶液存放期并因此限制涂層產(chǎn)生。先化功能。這種配方已經(jīng)顯示改善的溶液存放期和合適的電特性。但是， 吡啶是一種高毒性化合物。對于能延長溶液存放期并顯示優(yōu)異電特性， 同時滿足環(huán)境健康和安全標(biāo)準(zhǔn)的掩蔽劑仍然存在需求。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本公開內(nèi)容通過提供改善的感光體外涂層而解決 一些或所 有上述問題等，所述外涂層包括用新的掩蔽劑掩蔽的酸催化劑。在一個 實施方案中，掩蔽劑為通常用于飼料添加劑和藥物的維生素B3的衍生 物。包括掩蔽劑的外涂層溶液具有改善的存放期，同時引入改善的外涂 層的感光體顯示優(yōu)異的電特性。在一個實施方案中，本公開內(nèi)容提供一種涂料組合物，包 括含有至少 一種酸催化劑和掩蔽刑的聚合物樹脂組合物，其中掩蔽劑選 自化合物A和化合物B。〖0009]化合物A由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complex formula see original document page 7</formula>(I)其中X表示選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、 R'和R"各自獨立地表示氫原子或烴基?；衔顱由結(jié)構(gòu)式(II)給出<formula>complex formula see original document page 7</formula>(II)其中Y和Z獨立地表示-OH或-NH2。本公開內(nèi)容還提供成像元件，其具有包括由這種涂料組合 物形成的膜的層。另外，本公開內(nèi)容還提供包括這種電子照相成像元件的電 圖像法圖像顯影設(shè)備。還提供使用這種電子照相成像元件的成像方法。在另一個實施方案中，本公開內(nèi)容提供一種形成電子照相 成像元件的方法，包括提供包括基材、電荷產(chǎn)生層和電荷傳輸層的電子 照相成像元件；在其上形成包括聚合物樹脂組合物的外涂層，所述聚合 物樹脂組合物包括電荷傳輸組分、固化劑、聚合物基料、酸催化劑和掩 蔽劑，其中掩蔽劑選自化合物A和化合物B;和通過加熱固化該外涂層?；衔顰由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complex formula see original document page 7</formula>其中X表示選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、 R'和R"各自獨立地表示氫原子或烴基?；衔顱由結(jié)構(gòu)式(II)給出<formula>complex formula see original document page 8</formula>(II)其中Y和Z獨立地表示-OH或-NH2。具體實施例方式在此7〉開如下實施方案。方案i. 一種涂料組合物，包括含有至少酸催化劑和掩蔽劑的聚合物樹脂組合物，其中掩蔽劑選自 化合物A、化合物B和化合物A的?；苌?； 其中化合物A由結(jié)構(gòu)式(I)給出<formula>complex formula see original document page 8</formula>(I)其中X表示選自-OR和-NR'R"的取代基，其中R、 R'和R"各自 獨立地表示氫原子或烴基；和 化合物B由結(jié)構(gòu)式(II)給出<formula>complex formula see original document page 8</formula>(II)其中Y和Z獨立地表示-OH或-NH2。方案2.根椐方案l的涂料組合物，其中掩蔽劑為化合物A。方案3.根據(jù)方案2的涂料組合物，其中烴基為具有1到約20個碳原子的取代或未取代、直鏈或支化烷基、鏈烯基或炔基。方案4,根據(jù)方案2的涂料組合物，其中X表示-OR基團，其中R表示具有1到約6個碳原子的烷基。方案5.根據(jù)方案1的涂料組合物，其中掩蔽劑為化合物B。方案6.根椐方案5的涂料組合物，其中Y和Z各自表示-OH。方案7.根椐方案1的涂料組合物，其中掩蔽劑選自吡，胺、 吡噴素、煙酸及吡。多胺和吡噴素的?；苌铩７桨?.根據(jù)方案1的涂料組合物，其本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
一種涂料組合物，包括： 含有至少酸催化劑和掩蔽劑的聚合物樹脂組合物，其中掩蔽劑選自化合物Ａ、化合物Ｂ和化合物Ａ的?；苌铮弧 ∑渲校骸 』衔铮劣山Y(jié)構(gòu)式（Ⅰ）給出： ＊＊＊ （Ⅰ） 其中Ｘ代表選自－ＯＲ和－ＮＲ′Ｒ″的取代基，其中Ｒ、Ｒ′和Ｒ″各自獨立地表示氫原子或烴基；和 化合物Ｂ由結(jié)構(gòu)式（Ⅱ）給出： ?。 。á颍 ∑渲校俸停讵毩⒌卮恚希然颍危取郏玻?。
【技術(shù)特征摘要】
...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：KL德永，H阿茲茲，NX胡，
申請(專利權(quán))人：施樂公司，
類型：發(fā)明
國別省市：US[美國]
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