光可脫色的記錄材料制造技術

＊＊＊ （Ⅰ） 一種光可脫色的記錄材料，包括一種在可見光區域具有吸收的著染料和一種以通式（１）代表的硼化合物。 其中Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］各自獨立地代表烷基、芳基、烯丙基、芳烷基、鏈烯基、炔基、甲硅烷基、雜環基、取代的烷基、取代的芳基、取代的烯丙基、取代的芳烷基、取代的鏈烯基、取代的炔基或取代的甲硅烷基，Ｚ↑［＋］代表季銨、季吡啶＊，季喹啉＊和＊陽離子。（*該技術在2013年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及對熒光燈等光有優異的穩定性的光可脫色的記錄材料，當其上施以可見光輻照時，該材料脫色，和含該光可脫色性材料作為色料的色調劑或油墨。在諸如印刷和復印
，記錄材料的耐環境性即擱置穩定性如耐光性，耐潮濕性，耐溶劑性和耐熱性已引起工業界的注意并廣泛地進行了記錄材料的物理性能改進。例如有光電印刷記錄和靜電記錄領域，進行了廣泛的開發。例如在光電印刷記錄中，許多方法是已知的，如公開在U.S.Pat.No.2297691說明書，JapaneseE-laminedPatentPublicationNo.43-22910，JapaneseExaminedPatentPublicationNo.43-24748等中，以及按照這些方法，電潛像通過各種方法，一般使用光電導性物質在光敏材料上形成，隨后形成的潛像用色調劑顯像，以便轉化成可見影像，其后將調色影像轉印到轉印材料如紙上，如果需要，然后通過加熱或加壓固像，以獲得復印影像。另外，用色調劑顯現靜電潛像的各種顯影方法是已知的(例如U.S.Pat.No.2874063說明書，U.S.Pat.No.26188552說明書和U.S.Pat.No.2221776說明書)。用于上述熱固像方法的色調劑通常通過將色料如炭黑和添加劑如電荷調節劑熔混到熱塑性樹脂如苯乙烯-丙烯酸丁酯共聚物中，以使之均勻分散，在混合物冷卻后用粉磨機或分散機粉磨所得混合物到所需粒徑。另外，在諸如印刷和復印領域，材料的著色已開始流行且廣泛地進行色料、電荷調節劑等的物理改性(例如JapaneseUnex-aminedPatentPublicationNo.57-130046，JapaneseUn-examinedPatentPublicationNo.57-191650)。另外，在印刷領域，有各種印刷方法，如膠版印刷，凸版印刷，照相凹板印刷，空穴印刷(holeprintprinting)，或特種印刷如曲面印刷，金屬印刷，塑料印刷，玻璃印刷，轉印等和通過使用印刷器如沖擊印刷器和非沖擊印刷器的電印刷，用于這些印刷方法中的油墨主要由載色劑如粘合劑和色料如染料或顏料組成。此外，最近為防止環境污染而在油墨中不使用溶劑，通過快速固化改進生產率或改進固化涂料的物理性能，對紫外線固化油墨進行了廣泛的開發(例如JapaneseUnex-aminedPatentPublicationNo.1-229084，JapaneseUnexaminedPatentPublicationNo.2-22370)。然而。用于光電印刷的記錄和印刷油墨的色調劑仍有缺點即在印刷后，印刷圖像部分不能完全脫色。因此，當在圖像部分再一次進行印刷時，印刷部分交疊而難以閱讀，因而已印刷過的記錄低不能再次使用。本專利技術的目的是提供一種記錄材料，它能用可見光在固定和印刷記錄部分脫色，能在相同部分進行再固定和再印刷并對熒光燈的光有優異的穩定性。為解決上述問題對吸收從400到780nm可見光部分的著色染料和硼化合物進行了大量的研究，結果發現了一種光可脫色記錄材料，它對室內光如熒光燈的光有足夠的穩定性且可用可見光輻照來脫色，這樣便完成了本專利技術。也就是說，按照本專利技術，通過混合使用下式(Ⅰ)的硼化合物和能吸收可見光部分的著色染料而獲得一種光可脫色的記錄材料，其著色染料不消失直到含可見光的光輻照在其上面，因而著色后的著色內容消失 其中R1，R2，R3和R4各自表示烷基，芳基，烯丙基，芳烷基，鏈烯基，炔基，甲硅烷基，雜環基，取代的烷基，取代的芳基，取代的烯丙基，取代的芳烷基，取代的鏈烯基，取代的炔基或取代的甲硅烷基和Z+表示季銨陽離子，季吡啶鎓陽離子，季喹啉鎓陽離子或鏻陽離子。另外本專利技術的光可脫色材料甚至在暴露在熒光燈等光的環境下也是特別穩定的。按照本專利技術的光可脫色記錄材料可提供光可脫色組合物，它通過波長在可見光范圍的光的輻照而脫色但在熒光燈等光下是穩定的。按照本專利技術的光可脫色記錄材料可提供光可脫色組合物，它通過波長在可見光范圍和光的輻照而脫色但在熒光燈等光下是穩定的。用于本專利技術中的硼化合物用式(1)表示，作為R1，R2，R3和R4可列舉烷基，芳基，烯丙基，芳烷基，鏈烯基，炔基，甲硅烷基，雜環基，取代的烷基，取代的芳基，取代的烯丙基，取代的芳烷基，取代的鏈烯基，取代的炔基和取代的甲硅烷基等等，且上述基團中優選的基團的例子是苯基，茴香基，乙氧苯基，甲苯甲酰，叔丁基苯基，氟代苯基，氧代苯基，二乙氨苯基，二甲苯基，正丁基，正戊基，正己基，正庚基，正辛基，正十二烷基，環己基，環己烯基，甲氧甲基，甲氧乙基，乙烯基，烯丙基，三苯基甲硅烷基，二甲基苯基甲硅烷基，二丁基苯基甲硅烷基，三甲基甲硅烷基，哌啶基，噻吩基，呋喃基等。作為陰離子的具體例子，可列舉正甲基三苯基硼酸根，正乙基三苯基硼酸根，正丁基三苯基硼酸根，正辛基三-對甲苯基硼酸根，正十二烷基三-對甲苯基硼酸根，正甲基三-茴香基硼酸根，正乙基三-茴香基硼酸根，正丁基三-茴香基硼酸根，正辛基三-茴香基硼酸根，正十二烷基三-茴香基硼酸根，二甲基二苯基硼酸根，二乙基二苯基硼酸根，二-正丁基二苯基硼酸根，二-正辛基二苯基硼酸根，二-正十二烷基二苯基硼酸根，二甲基二-對甲苯基硼酸根，二乙基-對甲苯基硼酸根，二-正丁基二-對甲苯基硼酸根，二-正辛基二-對甲苯基硼酸根，二-正十二烷基二-對甲苯基硼酸根，二甲基二茴香基硼酸根，二乙基二茴香基硼酸根，二-正丁基二茴香基硼酸根，二-正辛基二茴香基硼酸根，二-正十二烷基二茴香基硼酸根，四苯基硼酸根，四茴香基硼酸根，四-對甲苯基硼酸根，三苯基萘基硼酸根，三-對甲苯基萘基硼酸根，四丁基硼酸根，三-正丁基(二苯基甲硅烷基)硼酸根，三-正丁基(二甲基苯基甲硅烷基)硼酸根，正-辛基二苯基(二-正丁基苯基甲硅烷基)硼酸根，二甲基苯基(三甲基甲硅烷基)硼酸根等。另外，作為陽離子(Z+)，可列舉季銨陽離子，季吡啶鎓陽離子，季喹啉鎓陽離子和鏻陽離子。這類硼化合物的具體例子是甲基三苯基硼酸四甲銨，正丁基三苯基硼酸四甲銨，正辛基三苯基硼酸四甲銨，正十二烷基三苯基硼酸四甲銨，甲基三-對甲苯基硼酸四甲銨，正丁基三-對甲苯基硼酸四甲銨，正辛基三-對甲苯基硼酸四甲銨，正十二烷基三-對甲苯基硼酸四甲銨，甲基三茴香基硼酸四甲銨，正丁基三茴香基硼酸四甲銨，正辛基二茴香基硼酸四甲銨，正十二烷基二茴香基硼酸四甲銨，甲基三苯基硼酸四乙銨，正丁基三苯基硼酸四乙銨，正辛基三苯基硼酸四乙銨，正十二烷基三苯基硼酸四乙銨，甲基三-對甲苯基硼酸四乙銨，正丁基三-對甲苯基硼酸四乙銨，正辛基三-對甲苯基硼酸四乙銨，正十二烷基三-對甲苯基硼酸四乙銨，甲基三茴香基硼酸四乙銨，正丁基三茴香基硼酸四乙銨，正辛基三茴香基硼酸四乙銨，正十二烷基三茴香基硼酸四乙銨，甲基三苯基硼酸四丁銨，正丁基三苯基硼酸四丁銨，正辛基三苯基硼酸四丁銨，正十二烷基三苯基硼酸四丁銨，甲基三-對甲苯基硼酸四丁銨，正丁基三-對甲苯基硼酸四丁銨，正辛基三-對甲苯基硼酸四丁銨，正十二烷基三-對甲苯基硼酸四丁銨，甲基三茴香基硼酸四丁銨，正丁基三茴香基硼酸四丁銨，正辛基三茴香基硼酸四丁銨，正十二烷茴香基硼酸四丁銨，甲基三苯基硼酸四辛銨，正丁基三苯基硼酸四辛銨，正辛基三苯基硼酸四辛銨，正十二烷基本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種光可脫色的記錄材料，該材料包括一種在可見光區域具有吸收的著色染料和一種以通式（１）表示的硼化合物，＊＊＊ （１）其中Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］和Ｒ↓［４］各自獨立地代表烷基、芳基、烯丙基、芳烷基、鏈烯基、炔基、甲硅烷基、 雜環基、取代的烷基、取代的芳基、取代的烯丙基、取代的芳烷基、取代的鏈烯基、取代的炔基或取代的甲硅烷基，Ｚ↑［＋］代表季銨、季吡啶＊、季喹啉＊或＊陽離子。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：室伏克己，細田喜一，
申請(專利權)人：昭和電工株式會社，
類型：發明
國別省市：JP[日本]