電磁閥制造技術

本發(fā)明專利技術涉及一種工藝組件，具有第一接口(2)和第二接口(3)以及調(diào)節(jié)體(4)，所述調(diào)節(jié)體布置在工藝組件的將第一接口(2)與第二接口(3)流體連接的空腔(6)中并且能夠在空腔(6)內(nèi)部沿軸向方向引入第一位置和第二位置中，并且所述工藝組件具有永磁體(8)、第一電線圈(7)和第二電線圈(9)。為了提供簡單且良好地在尺寸上可擴展的工藝組件，規(guī)定，第一線圈(7)、永磁體(8)和第二線圈(9)以該順序沿軸向方向(L)依次地布置，并且設有磁軛，并且永磁體(8)、調(diào)節(jié)體(4)和磁軛在第一位置中形成閉合的第一磁路并且在第二位置中形成閉合的第二磁路，所述第一電線圈(7)設置用于補償?shù)谝淮怕?，并且所述第二電線圈(9)設置用于補償?shù)诙怕罚⑶宜隹涨?6)和調(diào)節(jié)體(4)成形為，使得所述工藝組件能被可構成在第一接口(2)與第二接口(3)之間的流體流穿過。

【技術實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術】電磁閥
本專利技術涉及一種根據(jù)權利要求1的前序部分的工藝組件。
技術介紹
在食品工業(yè)、生物技術和制藥業(yè)中，對生產(chǎn)設備及其工藝組件的清潔度、可清潔性和封閉性提出了最高的要求。在一種類型的工藝組件中，調(diào)節(jié)體在其內(nèi)部中在兩個端部位置之間運動，例如在閥中關閉元件在打開位置和關閉位置之間運動?，F(xiàn)在挑戰(zhàn)在于，為了建立衛(wèi)生和無菌的條件，使工藝組件的內(nèi)部相對于外部空間保持密封并且同時實現(xiàn)從外部空間引起調(diào)節(jié)體在內(nèi)部的運動。為此，在閥技術中已知，利用波紋管(EP945658B1)或膜片(WO2013/170931A1)密封切換桿到閥殼體中的通道，所述切換桿將驅動裝置和關閉元件彼此連接。然而，這些密封元件的機械負載構成薄弱點。有利的是，關閉元件的運動無接觸地并且無切換桿地設計。這在所謂的灌裝閥領域是已知的，利用灌裝閥灌裝例如瓶和罐。DE1600717提出，關閉元件實施為磁芯，該磁芯布置在電磁線圈中并且運動通過該電磁線圈。在打開位置中，關閉元件在其整個外表面上被流動介質(zhì)沖刷。DE60021062提出一種具有針狀關閉元件的閥。在打開位置和在閉合位置中，關閉元件由各一個永磁體組件的力保持。每個永磁體組件配屬于所述位置中的一個。此外，為每個位置設置一個電線圈，利用該線圈可以使關閉元件克服永磁體組件的保持力運動到相應另一位置。該解決方案部分地自數(shù)十年來已知并且用于相對較小的流體流和流體壓力。然而，迄今為止，它們還未被用于更大的管道橫截面，例如在50mm至200mm的直徑范圍內(nèi)的管道橫截面。r>
技術實現(xiàn)思路
因此，本專利技術的目的是，提供一種具有磁體組件的工藝組件，該工藝組件對于大的管道橫截面是可擴展的。該目的通過具有權利要求1的特征的工藝組件實現(xiàn)。從屬權利要求2至9給出了有利的改進方案。所述工藝組件具有第一接口和第二接口以及調(diào)節(jié)體，該調(diào)節(jié)體布置在工藝組件的將第一接口與第二接口流體連接的空腔中，并且能夠在空腔內(nèi)沿軸向方向被引入第一位置和第二位置中。該工藝組件還包括永磁體、第一電線圈和第二電線圈?，F(xiàn)在規(guī)定，第一線圈、永磁體和第二線圈以該順序沿軸向方向依次布置并且設有磁軛，并且永磁體、調(diào)節(jié)體和磁軛在第一位置中形成閉合的第一磁路并且在第二位置中形成閉合的第二磁路，第一電線圈設置用于補償?shù)谝淮怕凡⑶业诙娋€圈設置用于補償?shù)诙怕?，并且空腔和調(diào)節(jié)體成型為，使得工藝組件能夠被在第一和第二接口之間可形成的流體流穿過?！把a償”在本文中意味著，對于具有第一極性的第一磁場產(chǎn)生具有與第一磁場相反的極性的第二磁場，并且將其疊加在第一磁場上，從而使得磁場總和抵消。永磁體和線圈的這種布置允許用永磁力將調(diào)節(jié)體保持在位置中。線圈必須僅為了調(diào)節(jié)體的運動而被通電，或者為了短時地產(chǎn)生高的保持力。因為用于第一和第二位置的磁路由永磁體磁性地饋給，所以僅需要少量的磁體材料。在各特征的共同作用下實現(xiàn)了，工藝組件可以具有大的管道橫截面。通過這些特征，在閥中引起磁力以關閉和移動調(diào)節(jié)體，所述磁力抵抗二次方地隨著管道直徑增加的流體力。電功率消耗與流動有效的管道橫截面的比例首次允許將使用范圍在填充閥之外擴展到如下工藝組件，例如在釀造行業(yè)、乳制品行業(yè)和精細化學中的工藝組件。因此提供了非常好的可擴展性。另一個優(yōu)點是，可以棄用在調(diào)節(jié)體中的磁體材料，由此在損壞情況下從一開始就排除了產(chǎn)品被磁體材料污染。附圖說明借助實施例解釋本專利技術并且解釋優(yōu)點。圖中：圖1示出處于調(diào)節(jié)體的第一位置的工藝組件的縱剖視圖；圖2示出處于調(diào)節(jié)體的第二位置的工藝組件的縱剖視圖；圖3示出沿著線A-A的第一改進方案的工藝組件的橫截面。具體實施方式圖1示出沿著縱軸線L穿過實施為閥1的工藝組件的剖面。閥1具有用于接納流體的第一接口2和第二接口3。這些接口2和3可與例如食品工業(yè)、生物技術和制藥領域的過程設備的管路系統(tǒng)連接。閥1包括調(diào)節(jié)體4，該調(diào)節(jié)體設置在閥1的內(nèi)殼體5中，該內(nèi)殼體設置有空腔6。所述空腔6在接口2與接口3之間建立流體連接。調(diào)節(jié)體4可以在空腔6中沿著縱軸線L移動并且可以占據(jù)內(nèi)殼體5內(nèi)部的不同位置。第一位置在圖1中示出，第二位置在圖2中示出。第一電線圈7包圍內(nèi)殼體5，使得其繞組完全地圍繞內(nèi)殼體5環(huán)繞。在第一電線圈7的背離第一接口2的一側上設置永磁體8。在永磁體8的背離第一電線圈7的一側上布置有第二電線圈9。該第二電線圈9包括完全圍繞內(nèi)殼體5環(huán)繞的繞組。因此，第一電線圈7、永磁體8和第二電線圈9以該順序沿著縱軸線L并且因此沿著軸向方向依次設置。為了引導由永磁體8以及由第一電線圈7和第二電線圈9形成和可產(chǎn)生的磁場，設置由導磁材料制成的磁軛。磁軛包括第一終端體10，該第一終端體布置在第一電線圈7的朝向第一接口2的一側上并且接觸內(nèi)殼體5。在第二電線圈9的朝向第二接口3的一側上布置有第二終端體11，該第二終端體同樣接觸內(nèi)殼體5。外部體12與第一和第二終端體10和11以及永磁體8接觸。永磁體8可以直接安裝在內(nèi)殼體5上。替代地，如圖1所示，可以在永磁體8與內(nèi)殼體5之間布置磁軛區(qū)段，該磁軛區(qū)段13與永磁體8以及內(nèi)殼5接觸。磁軛區(qū)段13能夠與內(nèi)殼體5一件式地設計。為了限制調(diào)節(jié)體4在空腔6內(nèi)部沿著縱軸線L的運動，設有第一機械止擋件14和第二機械止擋件15。第一機械止擋件14相對于縱軸線L位于第一接口2和第一電線圈7之間。第二機械止擋件15關于縱軸線L位于第二電線圈9和第二接口3之間。調(diào)節(jié)體4具有封閉元件16，利用該關閉元件能夠封閉第一接口2。可選的密封件17這樣布置在調(diào)節(jié)體4上，使得該密封件在圖1中示出的調(diào)節(jié)體4的第一位置中與第一機械止擋件14密封地共同作用。有利地，第一機械止擋件14包括閥座18。調(diào)節(jié)體4、密封件17和第一機械止擋件14可以如此實施，使得發(fā)生密封件17與閥座18的線狀接觸并且在調(diào)節(jié)體4與第一機械止擋件14之間保留狹窄的間隙，該間隙利用密封件17密封。間隙可以處于十分之一毫米的范圍內(nèi)。調(diào)節(jié)體4包括縱向體19，其在縱軸線L的方向上延伸并且由導磁材料形成?？v向體19優(yōu)選地設計成具有多個功能。一方面，它具有徑向的延伸，該延伸與縱向延伸一起引起調(diào)節(jié)體4和封閉元件16在空腔6中的定向和引導?？v向體在縱軸線L的方向上的延伸優(yōu)選根據(jù)以下方面來確定尺寸。在第一位置中，縱向體19與第一機械止擋件14接觸。縱向體19于是在縱軸線L的方向上延伸超過第一電線圈7和永磁體8。在圖2中示出的第二位置中，縱向體19與第二機械止擋件15接觸?？v向體19于是延伸超過永磁體8和第二電線圈9。通過與機械止擋件14和15的共同作用，縱向體19實現(xiàn)調(diào)節(jié)體4在縱軸線L的方向上的定位的功能。除了所述功能之外，縱向體19也承擔引導磁場以閉合磁路的任務，如下面將進一步闡述的那樣。在圖1中示出了處于第一位置的調(diào)節(jié)體4，在該第一位置中調(diào)節(jié)體與第一機械止擋件14接觸，其中，在形成密封件與閥座18之間的已經(jīng)提到的間隙的情況下存在該接觸。在該位置中，第一磁路是閉合的，該第一磁路包括縱向體19、第一終端體10、外部體12和磁軛本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術保護點】
1.一種工藝組件，所述工藝組件具有第一接口(2)和第二接口(3)以及調(diào)節(jié)體(4)，所述調(diào)節(jié)體布置在工藝組件的將第一接口(2)與第二接口(3)流體連接的空腔(6)中并且能夠在空腔(6)內(nèi)部沿軸向方向引入第一位置和第二位置中，并且所述工藝組件具有永磁體(8)、第一電線圈(7)和第二電線圈(9)，其特征在于，第一線圈(7)、永磁體(8)和第二線圈(9)以該順序沿軸向方向(L)依次地布置，并且設有磁軛，并且永磁體(8)、調(diào)節(jié)體(4)和磁軛在第一位置中形成閉合的第一磁路并且在第二位置中形成閉合的第二磁路，所述第一電線圈(7)設置用于補償?shù)谝淮怕?，并且所述第二電線圈(9)設置用于補償?shù)诙怕罚⑶宜隹涨?6)和調(diào)節(jié)體(4)成形為，使得所述工藝組件能被能構成在第一接口(2)與第二接口(3)之間的流體流穿過。/n

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】20181018 DE 102018008266.11.一種工藝組件，所述工藝組件具有第一接口(2)和第二接口(3)以及調(diào)節(jié)體(4)，所述調(diào)節(jié)體布置在工藝組件的將第一接口(2)與第二接口(3)流體連接的空腔(6)中并且能夠在空腔(6)內(nèi)部沿軸向方向引入第一位置和第二位置中，并且所述工藝組件具有永磁體(8)、第一電線圈(7)和第二電線圈(9)，其特征在于，第一線圈(7)、永磁體(8)和第二線圈(9)以該順序沿軸向方向(L)依次地布置，并且設有磁軛，并且永磁體(8)、調(diào)節(jié)體(4)和磁軛在第一位置中形成閉合的第一磁路并且在第二位置中形成閉合的第二磁路，所述第一電線圈(7)設置用于補償?shù)谝淮怕?，并且所述第二電線圈(9)設置用于補償?shù)诙怕?，并且所述空?6)和調(diào)節(jié)體(4)成形為，使得所述工藝組件能被能構成在第一接口(2)與第二接口(3)之間的流體流穿過。


2.根據(jù)權利要求1所述的工藝組件，其特征在于，第一機械止擋件(14)限定所述調(diào)節(jié)體(4)在第一位置中的位置。


3.根據(jù)權利要求1或2所述的工藝組件，其特征在于，第二機械止擋...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：W·阿諾德，J·普雷特伯納，HP·馬格努斯，
申請(專利權)人：基伊埃圖亨哈根有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：德國;DE