波紋管結構、調整垂直度的方法及其等離子體處理裝置制造方法及圖紙

波紋管結構、調整垂直度的方法及其等離子體處理裝置。本發明專利技術涉及一種波紋管結構及其調整波紋管軸的垂直度的方法。波紋管結構包括波紋管軸、波紋管本體及調整塊。波紋管本體套設波紋管軸。調整塊可調整套設位置地套設波紋管軸，用于改變波紋管軸的垂直度。本發明專利技術通過調整塊套設并調整波紋管軸，以達到使波紋管軸具有更好的垂直度的功效。

【技術實現步驟摘要】
波紋管結構、調整垂直度的方法及其等離子體處理裝置
本專利技術涉及半導體領域的裝置，特別涉及一種波紋管結構及其調整波紋管軸的垂直度的方法。
技術介紹
一般來說，波紋管主要是應用在等離子體處理裝置中的真空腔體內部，波紋管中設有波紋管軸，而波紋管軸與波紋管本體的相對位置有時相較于標準位置會具有誤差；然，現有的波紋管結構并不具有可調整波紋管軸的功能，是以無法對波紋管軸進行調整。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種波紋管結構及其調整波紋管軸的垂直度的方法，用以解決前述
技術介紹
中所面臨的問題。為了達到上述目的，本專利技術的第一技術方案是提供一種波紋管結構包括波紋管軸、波紋管本體及調整塊。波紋管本體套設波紋管軸。調整塊可調整套設位置地套設波紋管軸，用于改變波紋管軸的垂直度?？蛇x地，調整塊設置在波紋管本體中且和波紋管本體的相對位置可調。可選地，調整塊與波紋管本體之間具有彈性體，若干個鎖固元件分別穿過調整塊的周緣并可調整松緊地鎖固在波紋管本體對應彈性體的一面上?？蛇x地，調整塊對應波紋管軸的一側形成凸部。可選地，波紋管本體對應彈性體的面下凹形成凹部，調整塊及彈性體位于凹部中。可選地，波紋管本體包括一容納調整塊和波紋管軸穿過的通道，調整塊可沿通道上下移動。可選地，調整塊具有供波紋管軸穿過的錐形通孔，錐形通孔對應波紋管軸呈錐狀的一端，調整塊沿波紋管本體的通道移動使得調整塊的錐形通孔與波紋管軸的呈錐狀的一端匹配，用于調整波紋管軸的垂直度?？蛇x地，波紋管本體套設且不接觸波紋管軸。為了達到上述目的，本專利技術的第二技術方案是提供一種調整波紋管軸的垂直度的方法，其包括下列步驟：將一波紋管本體套設于波紋管軸外側；將一調整塊套設于波紋管軸外側；調整塊位于波紋管本體和波紋管軸之間或位于波紋管本體上方；改變調整塊與波紋管本體之間的相對位置，使得調整塊與波紋管軸互相抵靠，以改變波紋管軸的垂直度。可選地，調整波紋管軸的垂直度的方法還包括下列步驟：在調整塊與波紋管本體之間設置彈性體；將若干個鎖固元件分別穿過調整塊和彈性體；調節至少一個鎖固元件，通過改變鎖固元件對應位置的彈性體的厚度，改變調整塊和波紋管本體之間的相對位置，實現調整塊對波紋管軸垂直度的調整?？蛇x地，調整波紋管軸的垂直度的方法還包括下列步驟：設置波紋管本體包括一容納調整塊上下移動的通道；設置調整塊容納波紋管軸的錐形通孔和波紋管軸靠近調整塊且呈錐形的一端具有一相互匹配的錐度；當調整塊沿波紋管本體的通道向下移動時，調整塊的錐形通孔和波紋管軸的呈錐形的一端的相互配合，實現對波紋管軸垂直度的調節。為了達到上述目的，本專利技術的第三技術方案是提供一種等離子體處理裝置，包括一真空反應腔；真空反應腔包括第一技術方案中提供的波紋管結構，波紋管結構用于實現真空環境和大氣環境的隔離。與現有技術相比，本專利技術中通過調整塊套設并調整波紋管軸，以達到使波紋管軸具有更好的垂直度的功效。附圖說明圖1是本專利技術的波紋管結構的第一實施例的調整前的示意圖；圖2是本專利技術的波紋管結構的第一實施例的調整后的示意圖；圖3是本專利技術的波紋管結構的第二實施例的調整前的示意圖；圖4是本專利技術的波紋管結構的第二實施例的調整后的示意圖；圖5是本專利技術的調整波紋管軸的垂直度的方法的流程圖。具體實施方式為利了解本專利技術的特征、內容與優點及其所能達成的功效，茲將本專利技術配合附圖，并以實施方式的表達形式詳細說明如下，而其中所使用的附圖，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，未必為本專利技術實施后的真實比例與精準配置，故不應就所附的附圖式的比例與配置關系解讀、局限本專利技術于實際實施上的權利范圍。請參閱圖1至圖4；圖1是本專利技術的波紋管結構的第一實施例的調整前的示意圖；圖2是本專利技術的波紋管結構的第一實施例的調整后的示意圖；圖3是本專利技術的波紋管結構的第二實施例的調整前的示意圖；圖4是本專利技術的波紋管結構的第二實施例的調整后的示意圖。實施例1：如圖1和圖2所示，本專利技術提供了一種波紋管結構100，包括了波紋管軸110、波紋管本體120及調整塊130。上述所提到的波紋管本體120用以套設波紋管軸110；而，調整塊130則是可調整套設位置地套設波紋管軸110，用于改變波紋管軸110的垂直度。其中，波紋管結構100的調整塊130與波紋管本體120之間具有彈性體140，若干個鎖固元件150分別穿過調整塊130的周緣并可調整松緊地鎖固在波紋管本體120對應彈性體140的一面上。其中，調整塊130對應波紋管軸110的一側形成凸部131。另一方面，波紋管本體120對應彈性體140的面可下凹形成凹部121，調整塊130及彈性體140設置在凹部121中。然，上述僅為舉例，并不以此為限。此外，波紋管本體120套設且不接觸波紋管軸110。調節至少一個鎖固元件150，通過改變鎖固元件150對應位置的彈性體140的厚度，使得與被調節的鎖固元件150位于同一直徑，且位于波紋管軸上另一側的調整塊向被調節的鎖固元件150方向傾斜，進而使得該處調整塊的凸部131推動波紋管軸向向被調節的鎖固元件150方向傾斜，最終實現波紋管軸的垂直度調節。通過改變調整塊130和波紋管本體120之間的相對位置，實現調整塊130對波紋管軸110垂直度的調整。本專利技術還提供了一種調整波紋管軸110的垂直度的方法，該方法是基于上述提供的波紋管結構100。請參閱圖5，其為本專利技術的調整波紋管軸110的垂直度的方法的流程圖。本專利技術的調整波紋管軸110的垂直度的方法，其包括下列步驟：步驟S11：將一波紋管本體120套設于波紋管軸110外側。步驟S12：將一調整塊130套設于波紋管軸110外側。步驟S13：調整塊130位于波紋管本體120上方。步驟S14：改變調整塊130與波紋管本體120之間的相對位置，使得調整塊130與波紋管軸110互相抵靠，以改變波紋管軸110的垂直度。其中，改變調整塊130與波紋管本體120之間的相對位置還包括以下步驟：步驟S14.1：在調整塊130與波紋管本體120之間設置彈性體140。步驟S14.2：將若干個鎖固元件150分別穿過調整塊130和彈性體140。步驟S14.3：調節至少一個鎖固元件150，通過改變鎖固元件150對應位置的彈性體140的厚度，改變調整塊130和波紋管本體120之間的相對位置，實現調整塊130對波紋管軸110垂直度的調整。值得一提的是，本專利技術還提供了一種等離子體處理裝置，包括一真空反應腔；真空反應腔包括上述提供的波紋管結構100，波紋管結構100用于實現真空環境和大氣環境的隔離。波紋管結構100主要應用在等離子體處理裝置中的真空腔體內部，例如真空腔體內部的上下運動部件上，常用的部件有縱切閥后面的擋板組件等；然，波紋管結構可應用于很多部件，故在此并不限定。實施例2：如圖3及圖4所示，本專利技術提供了一種波紋管結構本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種波紋管結構，其特征在于，包括：/n波紋管軸；/n波紋管本體，套設所述波紋管軸；以及/n調整塊，可調整套設位置地套設所述波紋管軸，用于改變所述波紋管軸的垂直度。/n

【技術特征摘要】
1.一種波紋管結構，其特征在于，包括：
波紋管軸；
波紋管本體，套設所述波紋管軸；以及
調整塊，可調整套設位置地套設所述波紋管軸，用于改變所述波紋管軸的垂直度。


2.如權利要求1所述的波紋管結構，其特征在于，所述調整塊設置在所述波紋管本體中且和所述波紋管本體的相對位置可調。


3.如權利要求1所述的波紋管結構，其特征在于，所述調整塊與所述波紋管本體之間具有彈性體，若干個鎖固元件分別穿過所述調整塊的周緣并可調整松緊地鎖固在所述波紋管本體對應所述彈性體的一面上。


4.如權利要求3所述的波紋管結構，其特征在于，所述調整塊對應所述波紋管軸的一側形成凸部。


5.如權利要求3所述的波紋管結構，其特征在于，所述波紋管本體對應所述彈性體的所述面下凹形成凹部，所述調整塊及所述彈性體位于所述凹部中。


6.如權利要求1所述的波紋管結構，其特征在于，所述波紋管本體包括一容納所述調整塊和所述波紋管軸穿過的通道，所述調整塊可沿所述通道上下移動。


7.如權利要求6述的波紋管結構，其特征在于，所述調整塊具有供所述波紋管軸穿過的錐形通孔，所述錐形通孔對應所述波紋管軸呈錐狀的一端，所述調整塊沿所述波紋管本體的通道移動使得所述調整塊的錐形通孔與所述波紋管軸的呈錐狀的一端匹配，用于調整所述波紋管軸的垂直度。


8.如權利要求7所述的波紋管結構，其特征在于，所述波紋管本體套設且不接觸所述波紋管軸。

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【專利技術屬性】
技術研發人員：毛杰，左濤濤，吳狄，
申請(專利權)人：中微半導體設備上海股份有限公司，
類型：發明
國別省市：上海;31