本實用新型專利技術提供了一種艾餅加熱盤,包括加熱盤殼體,所述加熱盤殼體的頂面上設置有絕緣加熱片,所述加熱盤殼體和絕緣加熱片之間通過導熱硅膠固定粘接。本實用新型專利技術提供的艾餅加熱盤,對艾餅加熱時,加熱均勻,對艾餅的內部外部同時加熱,使艾餅的有效成分加熱揮發效率高;無需對絕緣加熱片進行絕緣裝配,裝配簡單,使用方便;絕緣加熱片與艾餅加熱盤之間通過導熱硅膠固定連接,接觸均勻,熱傳導效率高,而且起到了很好的固定作用,防止絕緣加熱片與艾餅加熱盤之間相對滑動。
【技術實現步驟摘要】
艾餅加熱盤
本技術涉及艾餅加熱裝置
,尤其涉及一種艾餅加熱盤。
技術介紹
傳統的艾餅加熱盤對艾餅加熱時,艾餅受熱不均勻,僅對艾餅的外部且單面進行加熱,不對艾餅內部直接加熱,僅通過外部的單面熱量傳導直內部,致使艾餅有效成分的加熱揮發效率低;傳統加熱片一般采用PTC陶瓷,具有導電性,所以使用時,需要對其進行絕緣裝配,準配繁瑣且熱傳導效率低,使用不便;加熱片與加熱盤的表面均為磨砂面,所以兩者的接觸面接觸不均勻,會形成一層薄空氣層,傳熱熱效果不佳,而且兩者之間易出現相對滑動。
技術實現思路
針對上述的缺陷,本技術的目的在于提供一種艾餅加熱盤,對艾餅加熱時,加熱均勻,對艾餅的內部外部同時加熱,使艾餅的有效成分加熱揮發效率高;無需對絕緣加熱片進行絕緣裝配,熱傳導效率高,裝配簡單,使用方便;絕緣加熱片與艾餅加熱盤之間通過導熱硅膠固定連接,接觸均勻,傳熱效果佳,而且起到了很好的固定作用,防止絕緣加熱片與艾餅加熱盤之間相對滑動。為了實現上述目的,本技術提供一種艾餅加熱盤,包括加熱盤殼體,所述加熱盤殼體的頂面上設置有絕緣加熱片,所述加熱盤殼體和絕緣加熱片之間通過導熱硅膠固定粘接。優選的,所述加熱片為MCH陶瓷加熱片。進一步地,所述加熱盤殼體為底部開口的筒狀結構,所述加熱盤殼體筒狀結構內部形成加熱腔,所述加熱腔用于承裝艾餅;所述加熱盤殼體的底面上且位于加熱腔內部設置有多個加熱凸起。進一步地,多個加熱凸起呈環形分布。進一步地,所述加熱盤殼體的頂面上設置加熱盤弧形框,加熱盤弧形框用于固定絕緣加熱片,加熱盤弧形框的弧度與絕緣加熱片的弧度相適配。進一步地,所述加熱盤弧形框為連續環形或斷點環形結構。進一步地,加熱盤殼體的頂面上還設置有傳感器固定槽,所述傳感器固定槽內設有溫度傳感器,所述溫度傳感器的頂面和側面與傳感器固定槽的底面和側面之間通過導熱硅膠固定粘接。進一步地,所述加熱盤殼體的底面和加熱腔的筒狀內壁上設置有多個固定部,所述固定部上設置有固定孔,所述固定孔穿過加熱盤殼體的頂面和底面。進一步地,所述加熱盤殼體的頂面上各固定孔的外側均設置有固定件限位筋。本技術提供一種艾餅加熱盤,具有以下有益效果:1、本技術的艾餅加熱盤對艾餅加熱時,加熱均勻,對艾餅的內部外部同時加熱,使艾餅的有效成分加熱揮發效率高;2、本技術采用絕緣加熱片,其外表面具有絕緣性,無需對其進行絕緣裝配,裝配簡單,使用方便;3、絕緣加熱片與艾餅加熱盤之間通過導熱硅膠固定連接,接觸均勻,熱傳導效率高,而且起到了很好的固定作用,防止絕緣加熱片與艾餅加熱盤之間相對滑動。附圖說明圖1是本技術艾餅加熱盤的結構示意圖;圖2是本技術艾餅加熱盤的另一視角結構示意圖;圖3是本技術艾餅加熱盤的又一視角結構示意圖。61-加熱盤殼體,62-加熱凸起,63-固定部,64-固定孔,65-固定件限位筋,66-加熱盤弧形框,67-傳感器固定槽,68-絕緣加熱片。具體實施方式為了使本技術的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合實施例,對本技術進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本技術,并不用于限定本技術。實施例1艾餅加熱盤參見圖1至圖3,本技術提供一種艾餅加熱盤,包括加熱盤殼體61,所述加熱盤殼體61為底部開口的筒狀結構,所述加熱盤殼體61筒狀結構內部形成加熱腔,所述加熱腔用于承裝艾餅。所述加熱盤殼體61的底面上且位于加熱腔內部設置有多個加熱凸起62,所述加熱凸起62優選設置4-8個且呈環形分布。多個加熱凸起62的設置,艾餅上也對應的設置有孔,將加熱凸起62插入艾餅上的孔中,可以對艾餅的內部進行充分加熱,使艾餅的內部和外部受熱均勻,大大提高了艾餅有效成分的揮發效率。所述加熱盤殼體61的底面和加熱腔的筒狀內壁上設置有多個固定部63。所述固定部63上設置有固定孔64,所述固定孔64穿過加熱盤殼體61的頂面和底面。所述固定部63等角度設置,優選設置3個。所述加熱盤殼體61的頂面上設置加熱盤弧形框66,加熱盤弧形框66用于固定絕緣加熱片68,絕緣加熱片68優選MCH陶瓷加熱片,加熱盤弧形框66的弧度與絕緣加熱片68的弧度相適配。具體的,所述加熱盤弧形框66可以為環形或斷點環形結構。絕緣加熱片68的外表面具有絕緣性,無需對其進行絕緣裝配,裝配簡單,使用方便。所述加熱盤殼體61和絕緣加熱片68之間通過導熱硅膠固定粘接。絕緣加熱片68與加熱盤殼體61之間通過導熱硅膠固定粘接,接觸均勻,熱傳導效率高,而且起到了很好的固定作用,防止絕緣加熱片與艾餅加熱盤之間相對滑動。所述加熱盤殼體61的頂面上各固定孔64的外側均設置有固定件限位筋65,所述固定件限位筋65為弧形結構、方形結構等均可,用于定位整個加熱盤殼體61。加熱盤殼體61上的固定孔64內部一般采用螺絲固定連接其他部件。加熱盤殼體61的頂面上還設置有傳感器固定槽67,所述傳感器固定槽67內設有溫度傳感器,所述溫度傳感器的頂面和側面與傳感器固定槽67的底面和側面之間通過導熱硅膠固定粘接,采用這樣的設置,裝配簡單,溫度檢測準確。本技術提供一種艾餅加熱盤,對艾餅加熱時,加熱均勻,對艾餅的內部外部同時加熱,使艾餅的有效成分加熱揮發效率高;采用絕緣加熱片,其外表面具有絕緣性,無需對其進行絕緣裝配,熱傳導效率高,裝配簡單,使用方便;絕緣加熱片與艾餅加熱盤之間通過導熱硅膠固定連接,接觸均勻,傳熱效果佳,而且起到了很好的固定作用,防止絕緣加熱片與艾餅加熱盤之間相對滑動。當然,本技術還可有其它多種實施例,在不背離本技術精神及其實質的情況下,熟悉本領域的技術人員當可根據本技術作出各種相應的改變和變形,但這些相應的改變和變形都應屬于本技術所附的權利要求的保護范圍。本文檔來自技高網...
【技術保護點】
1.艾餅加熱盤,其特征在于,包括加熱盤殼體(61),所述加熱盤殼體(61)的頂面上設置有絕緣加熱片(68),所述加熱盤殼體(61)和絕緣加熱片(68)之間通過導熱硅膠固定粘接;/n所述加熱盤殼體(61)為底部開口的筒狀結構,所述加熱盤殼體(61)筒狀結構內部形成加熱腔,所述加熱腔用于承裝艾餅;/n所述加熱盤殼體(61)的底面上且位于加熱腔內部設置有多個加熱凸起(62)。/n
【技術特征摘要】
1.艾餅加熱盤,其特征在于,包括加熱盤殼體(61),所述加熱盤殼體(61)的頂面上設置有絕緣加熱片(68),所述加熱盤殼體(61)和絕緣加熱片(68)之間通過導熱硅膠固定粘接;
所述加熱盤殼體(61)為底部開口的筒狀結構,所述加熱盤殼體(61)筒狀結構內部形成加熱腔,所述加熱腔用于承裝艾餅;
所述加熱盤殼體(61)的底面上且位于加熱腔內部設置有多個加熱凸起(62)。
2.根據權利要求1所述的艾餅加熱盤,其特征在于,所述絕緣加熱片(68)為MCH陶瓷加熱片。
3.根據權利要求1所述的艾餅加熱盤,其特征在于,多個加熱凸起(62)呈環形分布。
4.根據權利要求1所述的艾餅加熱盤,其特征在于,所述加熱盤殼體(61)的頂面上設置加熱盤弧形框(66),加熱盤弧形框(66)用于固定絕緣加熱片(68),加熱盤弧形框(66)的弧度與絕...
【專利技術屬性】
技術研發人員:吳炳帥,仇珣,張廣昌,
申請(專利權)人:濰坊鼎意智造智能科技有限公司,
類型:新型
國別省市:山東;37
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