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    環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號(hào):29931254 閱讀:33 留言:0更新日期:2021-09-04 18:59
    本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置,包括:外殼,所述外殼為中空結(jié)構(gòu),所述外殼的內(nèi)部底壁為弧形面,所述弧形面中部低于四側(cè);安裝塊,所述安裝塊配置于所述外殼內(nèi)部,所述安裝塊上側(cè)垂直開設(shè)有多個(gè)插槽,所述插槽用于卡接試管,所述安裝塊下側(cè)壁形狀與弧形面相同,且滑動(dòng)設(shè)置在所述弧形面上,所述安裝塊的重心處于下端中心處。該環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置使用時(shí),在人們行走移動(dòng)的過程中,安裝塊不隨著殼體擺動(dòng),即使安裝塊與圓弧面之間存在一定的滑動(dòng)摩擦力,該設(shè)計(jì)也大大降低了安裝塊的擺動(dòng)幅度,從而使得試管保持比較平穩(wěn)的狀態(tài),進(jìn)而試管內(nèi)的樣品不會(huì)發(fā)生晃蕩。進(jìn)而試管內(nèi)的樣品不會(huì)發(fā)生晃蕩。進(jìn)而試管內(nèi)的樣品不會(huì)發(fā)生晃蕩。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置


    [0001]本專利技術(shù)屬于環(huán)境監(jiān)測(cè)
    ,尤其涉及一種環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置。

    技術(shù)介紹

    [0002]境監(jiān)測(cè)中需要定期對(duì)監(jiān)測(cè)地區(qū)的土壤、水質(zhì)以及空氣進(jìn)行采樣并最終對(duì)樣品進(jìn)行測(cè)驗(yàn)。由于是在戶外取樣,取樣后的樣品需要具有向采用存儲(chǔ)裝置實(shí)現(xiàn)存儲(chǔ),再運(yùn)輸至實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)。
    [0003]一般的樣品存放于試管中,試管安裝于存儲(chǔ)裝置的內(nèi)部,環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置的外殼類似于手提箱,便于人們握住提手移動(dòng),該結(jié)構(gòu)也存在一定的缺陷。人們?cè)谛凶叩倪^程中,存儲(chǔ)裝置隨著手臂,具有一定幅度的擺動(dòng),進(jìn)而使得存儲(chǔ)裝置內(nèi)部的樣品產(chǎn)生相應(yīng)的晃動(dòng),可能會(huì)對(duì)樣品的檢測(cè)結(jié)構(gòu)造成偏差;以及試管一般插設(shè)在試管孔內(nèi),若是對(duì)試管的固定力度較小,則試管易隨著存儲(chǔ)裝置晃動(dòng),與試管孔的側(cè)壁產(chǎn)生碰撞,若是對(duì)試管的固定力度較大,則又不便于使用者放置和拿取試管。

    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    [0004]基于
    技術(shù)介紹
    存在的技術(shù)問題,本專利技術(shù)提出了一種環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置。
    [0005]本專利技術(shù)提出的一種環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置,包括:
    [0006]外殼,所述外殼為中空結(jié)構(gòu),所述外殼的內(nèi)部底壁為弧形面,所述弧形面中部低于四側(cè);
    [0007]安裝塊,所述安裝塊配置于所述外殼內(nèi)部,所述安裝塊上側(cè)垂直開設(shè)有多個(gè)插槽,所述插槽用于卡接試管,所述安裝塊下側(cè)壁形狀與弧形面相同,且滑動(dòng)設(shè)置在所述弧形面上,所述安裝塊的重心處于下端中心處。
    [0008]優(yōu)選地,所述安裝塊的底壁上開設(shè)有多個(gè)球形槽,所述球形槽內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)配置有滾球,所述滾球下側(cè)與弧形面滾動(dòng)接觸。
    [0009]優(yōu)選地,所述插槽的側(cè)壁水平對(duì)稱開設(shè)有擠壓槽,所述擠壓槽內(nèi)滑動(dòng)配置有擠壓塊,所述安裝塊內(nèi)開設(shè)有多對(duì)與插槽一一對(duì)應(yīng)的安裝槽,兩個(gè)所述安裝槽分別處于兩個(gè)所述擠壓槽遠(yuǎn)離插槽的一側(cè),所述安裝槽垂直設(shè)置且內(nèi)部滑動(dòng)配置有安裝桿,所述安裝桿在不同高度配置有第一永磁體和第二永磁體,所述擠壓塊內(nèi)配置有第三永磁體,所述第一永磁體與第三永磁體相互排斥,所述第二永磁體與第三永磁體相互吸引,當(dāng)所述外殼正放時(shí),所述第二永磁體與第三永磁體處于同一高度,當(dāng)所述外殼擺動(dòng)傾斜時(shí),驅(qū)使所述安裝桿滑動(dòng),使得第二永磁體與第三永磁體處于同一高度。
    [0010]優(yōu)選地,所述第一永磁體處于第二永磁體上方,所述滾球的數(shù)量與插槽相同,且所述球形槽處于相應(yīng)插槽的正下方,所述安裝塊在球形槽上方開設(shè)有活動(dòng)槽,所述活動(dòng)槽內(nèi)垂直滑動(dòng)配置有金屬塊,所述滑槽兩側(cè)與兩個(gè)安裝槽連通,所述金屬塊兩側(cè)通過連接桿與安裝桿固定連接,所述金屬塊上端通過復(fù)位件與活動(dòng)槽頂壁連接,所述滾球的表層分為具有磁性的磁性部和不具有磁性的非磁部,當(dāng)所述外殼正放時(shí),所述非磁部朝上。
    [0011]優(yōu)選地,所述復(fù)位件為線性彈簧,所述線性彈簧的兩端分別與金屬塊和活動(dòng)槽頂壁固定連接。
    [0012]優(yōu)選地,所述擠壓塊靠近試管的一側(cè)設(shè)置彈性層。
    [0013]優(yōu)選地,所述弧形面上設(shè)置有摩擦層。
    [0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本專利技術(shù)的有益效果是:
    [0015]1、在人們行走移動(dòng)的過程中,安裝塊不隨著殼體擺動(dòng),即使安裝塊與圓弧面之間存在一定的滑動(dòng)摩擦力,該設(shè)計(jì)也大大降低了安裝塊的擺動(dòng)幅度,從而使得試管保持比較平穩(wěn)的狀態(tài),進(jìn)而試管內(nèi)的樣品不會(huì)發(fā)生晃蕩;
    [0016]2、外殼正方時(shí),第二永磁體與第三永磁體高度對(duì)應(yīng),第三永磁體受到吸引力,使得擠壓塊收于擠壓槽內(nèi),便于使用者放置和拿取試管,當(dāng)外殼擺動(dòng)傾斜時(shí),第一永磁體與第三永磁體高度對(duì)應(yīng),第三永磁體受到排斥力,使得擠壓塊突出擠壓槽,抵住試管的側(cè)壁,兩個(gè)擠壓塊的配合實(shí)現(xiàn)高效的夾緊效果,避免試管在插槽內(nèi)晃動(dòng)產(chǎn)生碰撞。
    附圖說明
    [0017]圖1為本專利技術(shù)提出的環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置的正放狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖;
    [0018]圖2為圖1中A處結(jié)構(gòu)放大圖;
    [0019]圖3為圖1中B處結(jié)構(gòu)放大圖;
    [0020]圖4為本專利技術(shù)提出的環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置的擺動(dòng)狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖;
    [0021]圖5為圖4中C處結(jié)構(gòu)放大圖;
    [0022]圖6為圖4中D處結(jié)構(gòu)放大圖。
    [0023]圖中:1外殼、2安裝塊、3試管、4弧形面、5球形槽、6滾球、7磁性部、8非磁部、9活動(dòng)槽、10金屬塊、11復(fù)位件、12連接桿、 13安裝桿、14擠壓塊、15擠壓槽、16第一永磁體、17第二永磁體、 18第三永磁體。
    具體實(shí)施方式
    [0024]下面將結(jié)合本專利技術(shù)實(shí)施例中的附圖,對(duì)本專利技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本專利技術(shù)一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。
    [0025]參照?qǐng)D1
    ?
    6,一種環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置,包括:
    [0026]外殼1,外殼1為中空結(jié)構(gòu),具體的,外殼1由殼體和殼蓋構(gòu)成,殼蓋配置于殼體開口一側(cè),且中部配置有提手,與現(xiàn)有手提箱結(jié)構(gòu)相同,未在圖示中具體展示,外殼1的內(nèi)部底壁為弧形面4,弧形面4 中部低于四側(cè);
    [0027]安裝塊2,安裝塊2配置于外殼1內(nèi)部,安裝塊2上側(cè)垂直開設(shè)有多個(gè)插槽,插槽用于卡接試管3,安裝塊2下側(cè)壁形狀與弧形面4 相同,且滑動(dòng)設(shè)置在弧形面4上,安裝塊2的重心處于下端中心處;
    [0028]應(yīng)用上述技術(shù)方案的實(shí)施例中,存儲(chǔ)裝置主要包括外殼1和安裝塊2兩個(gè)部分,在手提外殼1行走移動(dòng)的過程中,外殼1易隨著手臂小幅度擺動(dòng),但是在擺動(dòng)的過程中,用于安裝試管3的安裝塊2并不會(huì)隨著外殼1擺動(dòng),具體的參照附圖4,當(dāng)外殼1擺動(dòng)具有一定的傾斜角度時(shí),安裝塊2若是隨著擺動(dòng)傾斜則會(huì)造成重心偏移,所以安裝塊2在自身重力作用下,其底壁在圓弧面上相對(duì)滑動(dòng),進(jìn)而保持垂直平穩(wěn)的狀態(tài),所以在人們行走移動(dòng)的過程中,安裝
    塊2不隨著殼體擺動(dòng),即使安裝塊2與圓弧面之間存在一定的滑動(dòng)摩擦力,該設(shè)計(jì)也大大降低了安裝塊2的擺動(dòng)幅度,從而使得試管3保持比較平穩(wěn)的狀態(tài),進(jìn)而試管3內(nèi)的樣品不會(huì)發(fā)生晃蕩。
    [0029]本實(shí)施例中優(yōu)選的技術(shù)方案,安裝塊2的底壁上開設(shè)有多個(gè)球形槽5,球形槽5內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)配置有滾球6,滾球6下側(cè)與弧形面4滾動(dòng)接觸;具體的通過設(shè)置滾球6,安裝塊2的下側(cè)壁不與弧形面4直接接觸,將滑動(dòng)摩擦力轉(zhuǎn)化為了滾動(dòng)摩擦力,大大降低了安裝塊2與弧形面4之間的摩擦力;
    [0030]進(jìn)一步優(yōu)選的技術(shù)方案,插槽的側(cè)壁水平對(duì)稱開設(shè)有擠壓槽15,擠壓槽15內(nèi)滑動(dòng)配置有擠壓塊14,安裝塊2內(nèi)開設(shè)有多對(duì)與插槽一一對(duì)應(yīng)的安裝槽,兩個(gè)安裝槽分別處于兩個(gè)擠壓槽15遠(yuǎn)離插槽的一側(cè),安裝槽垂直設(shè)置且內(nèi)部滑動(dòng)配置有安裝桿13,安裝桿13在不同高度配置有第一永磁體16和第二永磁體17,擠壓塊14內(nèi)配置有第三永磁體18,第一永磁體16與第三永磁體18相互排斥,第二永磁體17與第三永磁體18相互吸引,當(dāng)外殼1正放時(shí),第二永磁體17 與第三永磁體18處于同一高度,當(dāng)外殼1擺動(dòng)傾斜時(shí),驅(qū)使安裝桿 13滑動(dòng),使得第二永磁體17與第三永磁體18處于同一高度;
    [0031]具體的,當(dāng)外殼1正方時(shí),第二永磁體17與第三永磁體18高度對(duì)應(yīng),第三永磁體18受本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置,其特征在于,包括:外殼(1),所述外殼(1)為中空結(jié)構(gòu),所述外殼(1)的內(nèi)部底壁為弧形面(4),所述弧形面(4)中部低于四側(cè);安裝塊(2),所述安裝塊(2)配置于所述外殼(1)內(nèi)部,所述安裝塊(2)上側(cè)垂直開設(shè)有多個(gè)插槽,所述插槽用于卡接試管(3),所述安裝塊(2)下側(cè)壁形狀與弧形面(4)相同,且滑動(dòng)設(shè)置在所述弧形面(4)上,所述安裝塊(2)的重心處于下端中心處。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置,其特征在于,所述安裝塊(2)的底壁上開設(shè)有多個(gè)球形槽(5),所述球形槽(5)內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)配置有滾球(6),所述滾球(6)下側(cè)與弧形面(4)滾動(dòng)接觸。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的環(huán)境監(jiān)測(cè)樣品用存儲(chǔ)裝置,其特征在于,所述插槽的側(cè)壁水平對(duì)稱開設(shè)有擠壓槽(15),所述擠壓槽(15)內(nèi)滑動(dòng)配置有擠壓塊(14),所述安裝塊(2)內(nèi)開設(shè)有多對(duì)與插槽一一對(duì)應(yīng)的安裝槽,兩個(gè)所述安裝槽分別處于兩個(gè)所述擠壓槽(15)遠(yuǎn)離插槽的一側(cè),所述安裝槽垂直設(shè)置且內(nèi)部滑動(dòng)配置有安裝桿(13),所述安裝桿(13)在不同高度配置有第一永磁體(16)和第二永磁體(17),所述擠壓塊(14)內(nèi)配置有第三永磁體(18),所述第一永磁體(16)與第三永磁體(18)相互排斥,所述第二永磁體(17)與第三永磁體(18)相互吸引,當(dāng)...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:劉洪英
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:劉洪英
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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