發散光高集成分合光光學系統及合光方法技術方案

本發明專利技術公開一種發散光高集成分合光光學系統及合光方法，應用于光器件領域，針對現有的分合光光學系統占用空間大，不適于微小封裝盒體的問題；本發明專利技術采用超平面光學薄膜透鏡陣列實現兩個光源發散光的準直，以及將其中一個準直光的偏振方向旋轉90

【技術實現步驟摘要】
發散光高集成分合光光學系統及合光方法


[0001]本專利技術屬于光器件領域，特別涉及一種分合光光學系統。

技術介紹

[0002]傳統的分合光系統都是針對準直光進行，對于從芯片或光纖發出的光必須先進行透鏡準直后變成準直光再進行合光或者分光，這樣的光學系統由分離系統組成，一般是在發光系統(出光為發散光)進行準直透鏡耦合轉換成準直光，在進入合分光系統。整個光學系統占用空間大，每一光路需要增加lens耦合成本高。對于一些特殊場景如TO Can內部，微小封裝盒體內部等無法滿足設計的要求。

技術實現思路

[0003]為解決上述技術問題，本專利技術采用一種新型薄膜透鏡(采用光刻鍍膜的方式實現)實現發散光的合分光系統。
[0004]本專利技術采用的技術方案為：發散光高集成分合光光學系統，包括：超平面光學薄膜透鏡陣列21、偏振分光棱鏡22、超平面光學薄膜透鏡23；兩個發散光光源發出的發散光經過超平面光學薄膜透鏡陣列21后變為準直光，光源1的準直光繼續沿光軸傳波，光源2的準直光經過超平面薄膜透鏡陣列21后，其偏振方向旋轉90
°
經過偏振分光棱鏡22轉折后與光源1的準直光光路重合，合光完成，合好的兩束準直光經過超平面光學薄膜透鏡23后匯聚于焦點.
[0005]所述超平面光學薄膜透鏡陣列21與超平面光學薄膜透鏡23采用在玻璃基板或硅基板上通過光刻鍍膜方式實現。
[0006]所述超平面光學薄膜透鏡陣列21針對不同波長進行鍍膜。
[0007]本專利技術還提供一種合光方法，基于上述發散光高集成分合光光學系統實現合光。
[0008]本專利技術的有益效果：本專利技術的超平面薄膜透鏡陣列是針對不同波長進行鍍膜，通過將光源1的波長設計為通過超平面薄膜透鏡陣列后不改變偏振方向，光源2波長設計為通過超平面薄膜透鏡陣列后改變90
°
偏振方向，從而實現合光系統，本專利技術的光學系統只需要和兩個光源做1次耦合，即可完成光學系統的運行，本專利技術的合光系統占用空間小，尤其適用于微小封裝盒體。
附圖說明
[0009]圖1為傳統的分合光系統結構示意圖；
[0010]圖2為本專利技術的分合光系統結構示意圖；
[0011]附圖標記：11為傳統分合光系統中的第一光學準直透鏡，12為傳統分合光系統中的偏振分光棱鏡，13為傳統分合光系統中的第二光學準直透鏡，14為傳統分合光系統中的第三光學準直透鏡，15為傳統分合光系統中的半波片，21為本專利技術分合光系統中的超平面光學薄膜透鏡陣列，22為本專利技術分合光系統中的偏振分光棱鏡，23為本專利技術分合光系統中
的超平面光學薄膜透鏡。
具體實施方式
[0012]為便于本領域技術人員理解本專利技術的
技術實現思路
，下面結合附圖對本
技術實現思路
進一步闡釋。
[0013]如圖1所示為傳統分合光系統的結構示意圖，光源1經過第一光學準直透鏡11變為準直光繼續沿光軸方向傳播，光源2經過第二光學準直透鏡13變為準直光，再經過半波片15將其偏振方向旋轉90
°
經過偏振分光棱鏡12轉折后與光源1的準直光光路重合，合光完成，合好的兩束準直光經過第三光學準直透鏡14后匯聚于焦點。
[0014]如圖2所示為本專利技術的分合光系統的結構圖，兩個發散光光源發出發散光經過超平面光學薄膜透鏡陣列21后變為準直光，光源1的準直光繼續沿光軸傳波，光源2的準直光經過超平面薄膜透鏡陣列21，其偏振方向旋轉90
°
經過偏振分光棱鏡22轉折后與光源1的準直光光路重合，合光完成，合好的兩束準直光經過超平面光學薄膜透鏡23后匯聚于焦點。
[0015]本領域的技術人員應注意，上述超平面薄膜透鏡是針對不同波長進行鍍膜，本專利技術通過將光源1的波長設計為通過超平面薄膜透鏡陣列后不改變偏振方向，光源2波長設計為通過超平面薄膜透鏡陣列后改變90
°
偏振方向。
[0016]本專利技術中的超平面光學薄膜透鏡采用在玻璃基板或硅基板上通過光刻鍍膜方式實現。
[0017]超平面薄膜透鏡陣列21和超平面光學薄膜透鏡23采用貼片機貼片完成，超平面光學薄膜透鏡23和偏振分光棱鏡22采用貼片機貼片完成。本專利技術的光學系統只需要和兩個激光芯片做1次有源的功率耦合，即可完成光學系統的運行。
[0018]傳統系統中第一光學準直透鏡11、第二光學準直透鏡13、第三光學準直透鏡14，三個透鏡需要進行三次耦合，同時空間占用非常大，不適用于微小封裝盒體。
[0019]所述光源1于光源2可采用激光器芯片實現。
[0020]本領域的普通技術人員將會意識到，這里所述的實施例是為了幫助讀者理解本專利技術的原理，應被理解為本專利技術的保護范圍并不局限于這樣的特別陳述和實施例。對于本領域的技術人員來說，本專利技術可以有各種更改和變化。凡在本專利技術的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本專利技術的權利要求范圍之內。
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【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.發散光高集成分合光光學系統，其特征在于，包括：超平面光學薄膜透鏡陣列(21)、偏振分光棱鏡(22)、超平面光學薄膜透鏡(23)；兩個發散光光源發出的發散光經過超平面光學薄膜透鏡陣列(21)后變為準直光，光源1的準直光繼續沿光軸傳波，光源2的準直光經過超平面薄膜透鏡陣列(21)后，其偏振方向旋轉90
°
經過偏振分光棱鏡(22)轉折后與光源1的準直光光路重合，合光完成，合好的兩束準直光經過超平面光學薄膜透鏡(23)后匯聚于焦點。2.根據權利要求1所述的發散光高集成分合光光學系統，其特征在于，所述超平面光學薄膜透鏡陣列(21)與...

【專利技術屬性】
技術研發人員：張強，許遠忠，張勇，毛晶磊，
申請(專利權)人：成都光創聯科技有限公司，
類型：發明
國別省市：