亞波長光柵導模共振防偽商標及其制作方法技術

一種亞波長光柵導模共振防偽商標，由注冊商標基板（１）、普通注冊商標圖形（２）、商標注冊單位名稱（３）和防偽區域（４），以及涂在商標基板（１）下面的吸光不干膠層（７）組成，其特征在于：防偽區域（４）中有特定方向范圍內可視見的具有防偽功能的單色圖形或字、字母，這些圖形或字、字母都是由壓制的單方向長短不一的若干條亞波長光柵（６）構成。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種，屬于商標防偽

技術介紹
在我國從計劃經濟轉入市場經濟，并融入全球經濟高速發展時期，商品生產發展極快，產品琳瑯滿目，新產品也不斷出現，盡管注冊商標制度已建立，但是冒牌商標產品屢禁不止，阻礙和影響了市場經濟規范化發展，迫切需要打擊冒牌產品，同時也迫切需要發展防偽商標，以規范商品經濟和商品市場發展。目前已有激光全息防偽注冊商標、電碼防偽注冊商標和衍射光柵防偽商標等等，這些防偽注冊商標物理原理簡單，制作方便，成本較低，利于廣泛推廣應用，這是它的優點，正是這些優點，帶來了容易被仿造，防偽效果不好的缺點，使防偽商標起不了真正的防偽作用。
技術實現思路
本專利技術的技術解決問題是克服上述現有技術的不足，提供一種亞波長光柵導模共振防偽注冊商標及其制作方法，該方法技術原理復雜，但生產工藝相對簡單，不易被仿造，防偽效果極好。本專利技術的技術解決方案是一種亞波長光柵導模共振防偽注冊商標，由注冊商標基板、普通注冊商標圖形、商標注冊單位名稱和防偽區域，以及涂在商標基板下面的吸光不干膠層，其特點在于在防偽區域中有特定方向范圍內可視見的具有防偽功能的單色圖形或字、字母，這些圖形或字、字母都是由壓制的單方向長短不一的若干條亞波長光柵。所述的在注冊商標基板上壓制的一種光柵，其周期為t，t值為0.25-0.55μm，并且基板的材料折射率ng、光柵層的等效折射率ne、入射角θ、光波波長λ、光柵高度h1和基板的底層厚度h2有以下關系h1=λ/(2ne2-sin2θ)]]>h2=λ/(2ng2-sin2θ)]]>基板的材料折射率ng值為1.100-1.800，光柵層的等效折射率ne值為1.200-1.600，入射角θ值為±15°，光波波長λ值為0.405-0.700μm，光柵高度h1值為0.15-0.30μm，基板的底層厚度h2值為0.01-0.20μm。在有TE偏振的白光照射下，亞波長光柵產生了導模共振，可在注冊商標的正前方±15°范圍內觀察到很亮的紅色或綠色單色防偽效果極好的防偽字母。所述的在注冊商標基板上壓制的另一種光柵，其周期為t′，t′值為0.20-0.75μm，在壓制的光柵上表面蓋一層透明的塑料薄膜，并且基板的材料折射率ns、光柵層的等效折射率ne、覆蓋層(8)折射率ng、入射角θ、光波波長λ′、覆蓋層高度h1′、光柵厚度h2′和基板的底層高度h3′有以下關系h1′=λ′/(2ng2-sin2θ)]]>h2′=λ′/(2ne2-sin2θ)]]>h3′=λ′/(2ns2-sin2θ)]]>基板的材料折射率ns值為1.200-2.000，光柵層的等效折射率ne值為1.200-1.800，覆蓋層折射率ng值為1.200-2.000，入射角θ值為±15°，光波波長λ′值為0.25-0.70μm，光柵高度h1′值為0.01-0.200μm，基板的底層厚度h2′值為0.05-0.30μm，覆蓋層高度h3′值為0.1 0-0.40μm。在有TE偏振的白光照射下，亞波長光柵產生了導模共振，可在注冊商標的正前方±15°范圍內透過覆蓋層觀察到很亮的紅色或綠色單色防偽效果極好的防偽字母。制作上述亞波長光柵導模共振防偽商標的方法，其特征還在于防偽區域中帶光柵的字母制作方法和步驟是，第一步用常規超微細光刻和刻蝕方法及工藝，在鋼或銅、石英材料上制作出與設計尺寸相同的模子；第二步再用滾壓或壓制方法與工藝，再在基板上的防偽區域中制作出由光柵組成的字母；第三步在壓制的光柵表面上覆蓋一層透明的塑料薄膜。本專利技術與現有技術相比具有以下優點使用該亞波長光柵導模共振防偽商標時，盡管其生產工藝相對簡單，制作方便，成本也較低，但由于它的設計技術原理復雜，并與多個因素相關，一旦制作參數被確定，就不易被仿造，因此是一種利于廣泛應用防偽效果極好的防偽注冊商標。附圖說明圖1為本專利技術結構示意圖；圖2為圖1中具有防偽功能局部區域結構放大圖；圖3為圖2防偽功能區域中一局部細節I字AA剖面一種結構放大圖；圖4為圖3剖面結構原理的一種實施例防偽區域結構放大圖；圖5為圖2防偽功能區域中一局部細節I字AA剖面另一種結構放大圖；圖6為圖5剖面結構原理的另一種實施例防偽區域結構放大圖。具體實施例方式如圖1所示，本專利技術亞波長光柵導模共振防偽商標由半透明可視見的注冊商標基板1、普通注冊商標圖形2、商標注冊單位名稱3和具有防偽功能區域4組成，注冊商標基板1是一半透明的塑料薄膜，厚度為0.02-0.5mm，大小5×5-30×30mm，其形狀為矩形或方形、圓形、橢圓形、菱形或多邊形；普通注冊商標圖形2是由注冊商標單位所設計的商標圖形，用印制的方法將圖形印刷到薄膜上，是任何方向和情況都是可視見的；商標注冊單位名稱3是商標注冊單位的全稱或簡稱，與商標圖形2一樣，用印制的方法將名稱印刷到薄膜上，是任何方向和情況都是可視見的；除可視見的注冊商標圖形2和商標注冊單位名稱3以外，還作有只有特定范圍方向可視見單色圖形或字、字母的防偽區域4，在該區域中的圖形或字和字母5具有防偽功能。如圖2所示，為圖1中具有防偽功能局部區域4結構放大圖，圖中是對字母I 5進行了結構放大，由圖2可見I字是由壓制的單方向長短不一若干條亞波長光柵6構成，光柵條數和長短由字母或圖形尺寸決定，光柵條數等于字母或圖形尺寸除以光柵周期t。如圖3所示，為圖2防偽功能區域中一局部細節I字AA剖面一種結構放大圖，在可視的注冊商標基板1下涂有一層吸光不干膠7，可用于和產品或產品外包裝粘貼；在注冊商標基板1的防偽功能區域4上壓制的光柵，其周期為t，并且基板1的材料折射率ng、光柵層的等效折射率ne、入射角θ、光波波長λ、光柵高度h1和基板1的底層厚度h2有以下關系h1=λ/(2ne2-sin2θ)]]>h2=λ/(2ng2-sin2θ)]]>基板1在TE光照射下，可在注冊商標的正前方±15°范圍內觀察到很亮的紅色或綠色或其它單色防偽字母，這是由于射入TE偏振的白光，經亞波長光柵產生了導模共振，其中有一窄波段的光能沒有透過基板1的底層或被吸收，光能無損耗全部反射出來，因而可看到很亮的紅色或綠色或其它單色防偽字母。如圖4所示，是本專利技術應用圖3剖面結構原理的一種實施例防偽區域結構放大圖，在可視的注冊商標基板1下涂有一層吸光不干膠7，可用于和產品或產品外包裝粘貼；在注冊商標基板1的偽功能區域4上壓制了光柵，由光柵組成的字母CASIOE 5是中科院光電所英文的第一個字母，其光柵周期為t，t值為0.25-0.55μm，該防偽功能區域帶光柵的字母制作方法和步驟是第一步用常規超微細光刻和刻蝕方法及工藝，在鋼或銅、石英材料上制作出與設計尺寸相同的模子；第二步再用滾壓或壓制方法與工藝，在基板1上制作出防偽功能區本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：秦濤，陳旭南，石建平，陳獻忠，
申請(專利權)人：中國科學院光電技術研究所，
類型：發明
國別省市：