一種燙貼型核徑跡微孔防偽標(biāo)識(shí)制造技術(shù)

一種燙貼型核徑跡微孔防偽標(biāo)識(shí)，包括有核輻射后形成的核徑跡微孔膜，其特征在于在核徑跡微孔膜的輻照面的背面依次設(shè)有剝離層、保護(hù)膜，所述剝離層涂布在核徑跡微孔膜上，所述保護(hù)膜由粘接劑干式復(fù)合在剝離層上；其中所述核徑跡微孔膜的輻射面上印刷有帶鏤空?qǐng)D文的抗蝕刻劑熱熔膠層。其有益效果在于：在微孔膜的背面設(shè)有剝離層及保護(hù)膜層，極大的提高了生產(chǎn)的成品率，從而降低了生產(chǎn)成本；在保護(hù)膜或加強(qiáng)膜上涂布或印刷有切割光標(biāo)，使能生產(chǎn)出各種規(guī)格、類(lèi)型的防偽標(biāo)識(shí)；本防偽標(biāo)識(shí)還具有難以仿制，易于識(shí)別的效果，具有廣泛的市場(chǎng)前景。（*該技術(shù)在2017年保護(hù)過(guò)期，可自由使用*）

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種燙貼型核徑跡微孔防偽標(biāo)識(shí)，包括有核輻射后形成的核徑跡微孔膜（１），其特征在于在核徑跡微孔膜（１）的輻照面的背面依次設(shè)有剝離層（２）、保護(hù)膜（３），所述剝離層（２）涂布在核徑跡微孔膜（１）上，所述保護(hù)膜（３）由粘接劑（４）干式復(fù)合在剝離層（２）上；其中所述核徑跡微孔膜（１）的輻射面上印刷有帶鏤空?qǐng)D文（５）的抗蝕刻劑熱熔膠層（６）。

【技術(shù)特征摘要】

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：崔清臣，凌紅祺，張亮，李青，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：中山國(guó)安火炬科技發(fā)展有限公司，
類(lèi)型：實(shí)用新型
國(guó)別省市：44[中國(guó)|廣東]