磁頭制造技術

一種磁頭在這磁頭的線端和其他裝置之間易于進行電連接，并適合于磁記錄／重現設備的批量生產和可靠性高。該磁頭包括一對相互面對的底板，在至少其中一個底板上形成薄膜線圈，在同一底板上形成與薄膜線圈連接的線端部；另一底板的一部分被切去和在這切去部分露出線端部分，在切出部，線端部分形成在與磁頭主表面成鈍角相交的表面上。（*該技術在2014年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及磁頭，涉及例如適用于磁帶錄象機或磁盤單元的磁頭。在例如磁帶錄象機(VTR)的磁記錄和重現裝置中，為了改善圖象質量，信號在被錄制以前先要經數字化的數字記錄，為實現這類數字記錄要增加記錄密度和記錄頻率。隨著磁記錄采用更高密度和頻率，要求用于記錄和重現的磁頭在高頻率下有高輸出和低噪聲。例如，對于廣泛用作錄象機磁頭的所謂間隙中有金屬化合物(compound metal-in-gap)的磁頭，它包含涂有金屬磁膜和繞有導線的鐵氧體材料，磁頭電感很高，因為由于電感導致輸出降低，磁頭在高頻區輸出較低，因此難以達到滿意的數字圖象記錄，數字圖象記錄對于這種類型磁頭需要高頻率和高密度。為此，人們一直在研究運用薄膜形成工藝制造稱之謂薄膜磁頭，用作能處理高頻率的磁頭。通過使用例如光刻法的薄膜形成方法在陶瓷基片上形成螺線形線圈和在基片上形成例如氧化鋁的氧化物保護膜而制成薄膜磁頭，從線圈延伸出的一線端和與線圈電氣連接的另一線端均被暴露，其上沒有形成任何保護膜。特別在制造錄象機磁頭時為了穩定磁頭和磁帶之間的滑動特性，最好在磁頭制成后將與陶瓷基片相同材料制成的基底貼牢固定到磁頭或者由薄膜形成工藝制成的兩個半磁頭在磁隙區粘在一起。在此情況下，通過使其側面形成線端的這個半磁頭的長度尺寸小于另一半磁頭的長度尺寸的方式制成磁頭后在磁頭端面上可以露出線端。就錄象機磁頭而言，通常磁頭(頭頂)被粘到磁頭固定底板上。附圖說明圖1表示以上述方式粘牢在磁頭固定底板上而制成的磁頭。在磁頭固定底板64的主表面64a(粘貼磁頭的表面)上設有接合區65和66，磁頭71的線端75和76與結合區65和66電氣連接。對于這些連接，最好例如使用連線67和68的導線連接，因為它適合于批量生產。然而，正如從圖2可看到的，(圖2是圖1的放大的局部后視圖)由于磁頭固定底板64的主表面64a和半磁頭72的線端露出面72a是互為垂直的，故通過導線連接使線端75和76與結合區65和66連接是困難的，從批量生產和可靠性觀點考慮也存在一些問題。因此，這種連接必須通過焊接實現。本專利技術即是鑒于上述問題而產生的本專利技術的一個目的是提供這樣一種磁頭，即其線端和其他裝置之間易于進行電氣連接，適合磁記錄/重現設備的批量生產并具有高度可靠性。本專利技術的磁頭包括一對相互面對的底板，在至少其中一個底板上形成薄膜線圈，在這底板上形成與薄膜線圈相連接的接線端部，另一底板的一部分被切去和接線端部在此切去部被露出，和在切去部線端部形成在與磁頭主表面成鈍角相交的表面上。在本專利技術中最好其上形成接線端部的那個表面和磁隙形成表面處于同一平面中。而且，最好在每一底板上形成薄膜線圈。依照本專利技術的磁頭特別適于用作進行方位(azimuth)記錄的磁頭。圖1為傳統磁頭一個例子的放大透視圖;圖2為傳統實例的磁頭和磁頭固定底板的放大的局部后視圖;和圖3為對比實例的磁頭的一個放大透視圖;圖4為本專利技術一個最佳實施例的磁頭的局部放大平面圖;圖5為同一磁頭和磁頭固定底板的放大透視圖;圖6為設有供形成層狀磁膜的坡槽的基底透視圖;圖7為其上已形成層狀磁膜的基底透視圖;圖8為設有供形成薄膜線圈的坡槽的基底透視圖;圖9為具有已填充玻璃的坡槽的基底透視圖;圖10為設有供調節軌道寬度的坡槽的基底透視圖;圖11為具有已填充玻璃的供調節軌道寬度的坡槽的基底透視圖;圖12A和12B表示具有供形成線圈結構的凹槽的基底，圖12A是基底的透視圖，和圖12B是圖12A中Ⅸb部分的放大視圖;圖13A至13C表示圖12B的半磁頭。13A是放大平面視圖，圖13B是沿圖13A之線Ⅹb-Ⅹb所取的放大剖面圖，和圖13C是沿圖13A之線Ⅹc-Ⅹc所取的放大剖面圖;圖14A和14B表示設有線圈結構的半磁頭;圖14A是放大平面圖，和圖14B是沿圖14A之線Ⅺb-Ⅺb所取的放大剖面視圖;圖15A和15B表示在線圈結構上設有保護膜的半磁頭，圖15A是放大平面圖，和圖15B是沿圖15A之線Ⅻb-Ⅻb所取的放大剖面視圖;圖16A和16B表示經敷平保護膜和露出連接部后的半磁頭，圖16A是放大平面圖，和圖16B是沿圖16A之線ⅩⅢb-ⅩⅢb所取的放大剖面圖;圖17A和17B表示設置有預定結構的金屬膜的半磁頭，圖17A是放大平面圖，和圖17B是沿圖17A之線ⅩⅣb-ⅩⅣb所取的放大剖面圖。圖18A和18B說明如何將兩個設置有預定結構的金屬膜的一對半磁頭粘牢在一起;圖18A是放大平面圖，和圖18B是沿圖18A之線ⅩⅤb-ⅩⅤb所取的放大剖面圖;圖19是包括多個圖17A和17B所示半磁頭的一塊平板的透視圖;圖20為設置供露出接線端的凹槽之用的平板的透視圖;圖21為說明如何將一對平板粘在一起的透視圖;圖22為按圖21所示步驟制造的磁頭塊的透視圖;圖23為從與圖22相同角度看去的一個磁頭的放大透視圖;圖24為另一實施例的磁頭和磁頭固定底板局部的放大側視圖。現介紹本專利技術的一個最佳實施例。圖4是磁頭的放大透視圖。磁頭1用于方位(azimuth)記錄，由一對在磁隙面4相互粘貼的半磁頭2和32(下文簡稱為“半頭”)組成。半頭32延伸到接觸半頭2的表面部分被切去，在這樣形成的切去部32a就露出半頭2的端面2a，和在端面2a上露出接線端5和6。標號7和37標示半頭2和32中所具有的磁層。磁隙3相對于與磁頭的主表面1a垂直的平面傾斜方位角θ，和半頭2的端面2a處于與磁隙表面44同一平面上。因此，在端面2a上形成的接線端5和6處于與磁頭主表面1a(該圖中的水平面)成鈍角α(方位角θ加上直角)相交的平面中。例如對8mm錄象，使用的磁頭方位角θ是10°。一般使α角大于90°和小于135°，以95°至120°為較好，最好它應該是一個與方位角對應的角度，例如100°。在本最佳實施例中α是100°。由于角α的這種選擇，使得用連接導線67和68將磁頭1的接線端5和6導線連接至粘接磁頭1的磁頭固定底板64上的結合區65和66的操作變得容易和適合批量生產，如圖5所示。該角度α還改善了由連接導線67和68構成的連接可靠性。磁頭固定底板64設有圖中未示出的電動發電機(rotary transformer)。(正如圖3所示，當其上形成線端85和86的端面與磁頭81的主表面81a成銳角相交時，由于毛細作用和楔形體，要到達線端85和86變得困難，連線操作要比在上述圖2實例中更為困難。)本最佳實施例的磁頭是按圖6至圖22所示步驟制造的。首先，如圖6所示，在瓷基片8的表面形成為形成傾斜薄膜的坡槽9。然后，如圖7所示，形成磁層7。在這一步，必要時，可形成氧化物或金屬的底膜(例如氧化鋁薄膜)以改善磁層的粘結性和磁特性，也可形成保護層(例如鉻薄膜)，以防止與在隨后的步驟填入坡槽的填充劑(玻璃)發生反應。其次，如圖8所示，在垂直于坡槽9的方向切出供形成薄膜線圈的凹槽10和除去為形成磁路不需要的磁層部分的凹槽11。接著，如圖9所示，在這些槽中填充玻璃12和必要時除去不必需的玻璃。然后，如圖10所示，除去在磁隙附近的磁層部分和平行于坡槽9形成供調節軌道寬度的槽13。下一步，如圖11所示，在圖10所示的槽13中填充玻璃17，平整表面。其余步驟主要由例如光刻法和離子刻蝕之類的薄膜形成工藝所組成。圖12A和12B表示供形成薄膜線圈的凹本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種磁頭，包括一對相互面對的底板，其特征在于：一個薄膜線圈形成在至少其中一個底板上，在這底板上形成與薄膜線圈連接的線端部，另一底板的一部分被切去并在這切去部露出線端部分，和在該切去部，線端部分形成在與磁頭主表面成鈍角相交的表面上。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】JP 1993-12-10 341712/931.一種磁頭，包括一對相互面對的底板，其特征在于一個薄膜線圈形成在至少其中一個底板上，在這底板上形成與薄膜線圈連接的線端部，另一底板的一部分被切去并在這切去部露出線端部分，和...

【專利技術屬性】
技術研發人員：大森廣之，山元哲也，杉山康成，莊子光治，
申請(專利權)人：索尼公司，
類型：發明
國別省市：JP[日本]