本實用新型專利技術公開了一種超級電容器用內部氣壓均衡管控裝置，屬于超級電容器保護技術領域，一種超級電容器用內部氣壓均衡管控裝置，包括閥體和閥腔，閥腔設置在閥體內部，閥體下部設置有進氣口、上部設置有排氣口，閥體內部設置有卸壓閥片，卸壓閥片由可形變金屬制成且底部開設有排氣槽，卸壓閥片中部設置有固定軸，固定軸的兩端與閥體內壁固定連接，卸壓閥片和進氣口之間設置有閥膜；本實用新型專利技術結合可形變金屬及高分子選擇性透過膜，能夠實現可持續卸壓，安全性高，解決超級電容器現有防爆閥爆開即壽命終點的問題，抑制了超級電容器容量衰減過快，使超級電容器具有更長的壽命和更高的安全性。的安全性。的安全性。
【技術實現步驟摘要】
一種超級電容器用內部氣壓均衡管控裝置
[0001]本技術屬于超級電容器保護
，涉及一種超級電容器用內部氣壓均衡管控裝置。
技術介紹
[0002]超級電容器及動力電池在長時間使用后，會發生持續脹氣，大量氣體積累在超級電容器及動力電池內容易引起超級電容器的爆炸，造成超級電容及動力電池的使用壽命降低，嚴重的爆炸時還有可能對周圍人員的生命財產造成威脅。
[0003]現有技術是在蓋板或者殼體上設置一個防爆閥，防爆閥是超級電容器中承受壓力最小的部分，通常采用焊接的方式在蓋板預留空位上焊接，激光焊接工藝較為復雜精密，對設備及操作人員素質要求較高；或者采用冼刀將蓋板某一小塊區域打薄至一定厚度，冼刀工藝雖對設備及人員要求不高，但是產品一致性不好；該兩種方式很可能會造成防爆閥焊點過焊或者虛焊以及邊緣薄厚不一致的現象，這樣會在超級電容器使用過程中，內部壓力未到預設值時，防爆閥提前出現微小破裂，造成漏液現象。雖可以排出內部氣體，但是在超級電容器內外壓力相當時導致電解液與外部環境接觸，超級電容器電化學性能下降，最終使得超級電容器失效。
[0004]究其原因，是由于當防爆閥漏開時，超級電容器內部與外部呈連通狀態，空氣中的水進入到了超級電容器內部，當再一次使用超級電容器時，電極，電解液以及水分在電流的催化下發生大量的副反應；同時，連通狀態下的電解液溶劑會逐步揮發，造成電解液中陰陽離子遷移速率減慢，導致超級電容器離子內阻增加，以上都會加劇超級電容器電化學性能加速下降。
[0005]即使防爆閥焊接過程中不存在虛焊與過焊的問題，但是防爆閥爆開前，超級電容器內部已經集聚了大量的氣壓，當防爆閥爆開時，會造成防爆閥飛射以及內部電解液噴出，很有可能對設備及人員造成危害，是一個安全隱患。
技術實現思路
[0006]本技術的目的在于提供一種超級電容器用內部氣壓均衡管控裝置解決上述問題。
[0007]為實現上述目的，本技術提供如下技術方案：一種超級電容器用內部氣壓均衡管控裝置，包括閥體和閥腔，所述閥腔設置在閥體內部，所述閥體下部設置有進氣口、上部設置有排氣口，所述閥體內部設置有卸壓閥片，所述卸壓閥片由可形變金屬制成且底部開設有排氣槽，所述卸壓閥片中部設置有固定軸，所述固定軸的兩端與閥體內壁固定連接，所述卸壓閥片和進氣口之間設置有閥膜。
[0008]優選的，所述排氣槽兩端至中間的槽凹陷深度由深變淺。
[0009]優選的，所述排氣槽兩端的槽凹陷深度是中間的兩倍。
[0010]優選的，所述排氣槽兩端的槽凹陷深度為20
?
50μm、中間的槽凹陷深度為10
?
25μm。
[0011]優選的，所述卸壓閥片由鎳鈦合金制成。
[0012]優選的，所述閥膜為高分子選擇性透過膜。
[0013]有益效果：本技術結合可形變金屬及高分子選擇性透過膜，能夠實現可持續卸壓，安全性高，解決超級電容器現有防爆閥爆開即壽命終點的問題，抑制了超級電容器容量衰減過快，使超級電容器具有更長的壽命和更高的安全性。
附圖說明
[0014]圖1為本技術結構剖視圖；
[0015]圖2為卸壓閥片仰視圖；
[0016]圖3為卸壓閥片形變排氣示意圖；
[0017]圖中符號說明：1：閥體；2：閥腔；3：進氣口；4：排氣口；5：卸壓閥片；6：排氣槽；7：固定軸；8：閥膜。
具體實施方式
[0018]下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。
[0019]實施例1：
[0020]參考圖1
?
3，本技術提供一種技術方案，一種超級電容器用內部氣壓均衡管控裝置，包括閥體1和閥腔2，閥腔2設置在閥體1內部，閥體1下部設置有進氣口3、上部設置有排氣口4，閥體1內部設置有卸壓閥片5，卸壓閥片5由可形變金屬制成且底部開設有排氣槽6，卸壓閥片5中部設置有固定軸7，固定軸7的兩端與閥體1內壁固定連接，卸壓閥片5和進氣口3之間設置有閥膜8。
[0021]排氣槽6兩端至中間的槽凹陷深度由深變淺，排氣槽6兩端的槽凹陷深度是中間的兩倍，排氣槽6兩端的槽凹陷深度為30μm、中間的槽凹陷深度為15μm，卸壓閥片5由鎳鈦合金制成；閥膜8為高分子選擇性透過膜。
[0022]將本裝置安裝在超級電容器的蓋板之上，當超級電容器在使用過程中持續產生氣體時，氣體通過進氣口3進入閥體1內部的閥腔2內，閥膜8可以透過氣體分子但是不能通過液體分子，防止內部液體流出，當內部壓力達到卸壓閥片5應變壓力時，卸壓閥片5由于底部排氣槽6的兩端和中間部位開槽凹陷深度不一致導致應變壓力不一樣，因此形變量不一樣，如圖3，卸壓閥片5產生形變，兩端和閥體1之間產生空隙，氣體順著排氣槽6 向上進入上端的閥腔2，通過排氣口4排出；當內壓與外壓一致時，卸壓閥片5恢復到原來位置與閥體1緊貼，保護了超級電容器內部環境。
[0023]盡管本技術的內容已經通過上述優選實施例作了詳細介紹，但應當認識到上述的描述不應被認為是對本技術的限制。在本領域技術人員閱讀了上述內容后，對于本技術的多種修改和替代都將是顯而易見的。本技術的范圍由所附權利要求及其等同物限定。
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【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種超級電容器用內部氣壓均衡管控裝置，其特征在于：包括閥體(1)和閥腔(2)，所述閥腔(2)設置在閥體(1)內部，所述閥體(1)下部設置有進氣口(3)、上部設置有排氣口(4)，所述閥體(1)內部設置有卸壓閥片(5)，所述卸壓閥片(5)由可形變金屬制成且底部開設有排氣槽(6)，所述卸壓閥片(5)中部設置有固定軸(7)，所述固定軸(7)的兩端與閥體(1)內壁固定連接，所述卸壓閥片(5)和進氣口(3)之間設置有閥膜(8)。2.根據權利要求1所述的一種超級電容器用內部氣壓均衡管控裝置，其特征在于：所述排氣槽(6)兩端至中間的槽凹陷深度由深變淺。3.根據權利...
【專利技術屬性】
技術研發人員：王俊華，孫偉，
申請(專利權)人：烯晶碳能電子科技無錫有限公司，
類型：新型
國別省市：
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