光記錄光盤的初始化裝置制造方法及圖紙

本裝置包含有光學頭、直線位移平臺及旋轉主軸，光學頭包含有初始化光源組合及其自動對焦組合。初始化光源組合包含有：兩支以上高功率激光管；兩組以上多元件光學元件系統，每一組多元件光學元件系統對應至每一支高功率激光管，對發射開口做成像轉換；一匯集并反射兩支以上高功率激光管、形成主光束平行的光束的微小反射多面鏡；一將前述微小反射多面鏡所反射的主光束平行的光束先行收束后導入自動對焦系統中的預先聚焦透鏡。它可提高相變位光或磁光記錄光盤的初始化品質及速度。（*該技術在2008年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及可將相變位光記錄光盤或磁光盤初始化的裝置，特別是一種具有特殊設計的機構及光學系統，可快速地將光記錄材料初始化的初始化裝置。以相變位光記錄光盤的初始化為例，目前已有商業化的相變位光記錄光盤的典型結構，其由具有微細溝紋1.2或0.6厘米的PC基材、第一介電層、相變位光記錄材料、第二介電層、鍍鋁反射層及紫外線硬化涂層組成。其中相變位光記錄材料利用濺鍍或其它鍍膜程序鍍膜后，由于目前通用的各種鍍膜工序限制，此鍍膜乃以非晶質的形態均勻鍍在光盤基材上。經過鍍層處理后的每一片相變位光記錄光盤必須經過初始化程序，利用加熱方式將相變化材料加熱至超過攝氏200度以上的晶質化溫度，使非晶質化的相變位光記錄材料轉變為晶質化形態，提高相變位光記錄光盤的反射率，如此才能提供光學拾取頭足夠反射光強度，使光學拾取頭的自動尋軌及自動對焦機制能正常運作，達到寫入數據的目的。目前將相變位光記錄材料由非晶質化狀態轉變為晶質化形態的方法有全域加熱及局部加熱兩種方式。由于一般PC基材的玻璃溫度均在攝氏150度至200度之間，因此全域加熱方式無法應用于相變位光記錄材料的初始化；至于局部加熱方式，在不超過PC基材的玻璃溫度且能在相變位光記錄材料面上產生攝氏約200度以上溫度，最佳的方式是利用高功率激光管，將高功率激光管經由高數值孔徑的透鏡將光束能量聚焦在相變位光記錄材料面上，使記錄材料層局部瞬間加熱而達到初始化。此時由于聚焦光束投影在PC基材的面積比聚焦在相變位光記錄材料層的光點大許多，投影在PC基材的光強度較低，所以當聚焦光束聚焦在相變位光記錄材料層局部瞬間加熱作初始化時，PC基材的溫度仍可維持低于玻璃溫度以下，不會有相變位光記錄光盤變形翹曲的問題產生。相變位光記錄光盤的可擦試能力直接影響盤片的重復讀寫的次數，可擦試能力又與初始化條件直接相關，此所指的初始化條件特別指的是激光點在光盤的相變位光記錄層對盤片每一位置局部加熱，使光盤片上每個位置接收到同樣的能量，使得晶質化的相變位光記錄材料層的結晶顆粒具有一致性，即經初始化后的相變位光記錄光盤具有一致的反射率，此時相變位光記錄光盤的可擦試能量便可提高。而要提高相變位光記錄光盤反射率的均勻度，主要的關鍵為初始化所使用高能量激光聚焦在相變位光記錄材料的光點的大小及能量密度的變異度。在能量密度維持不變的情形之下，若聚焦在相變位光記錄材料上的光點寬度愈寬，則可提高相變位光記錄光盤的可擦試能力，而且初始化線速度也可相對提高，增加產量。附圖說明圖1為習知的光記錄光盤的初始化裝置，此裝置主要由單一旋轉主軸103、線性位移平臺102及包含自動對焦系統與初始化光源的光學頭101所組成，光記錄光盤104以真空吸附或其它機械固定方式被固定在旋轉主軸103上一起轉動，光學頭101固定在線性位移平臺102上，而且光學頭101內的自動對焦系統與初始化光源均來自同一高功率激光管，部分激光光源用于自動對焦系統，其余的激光功率被聚焦后，在光記錄材料層上形成約寬1微米長96微米的細長條光點，當線性位移平臺102載著激光頭沿著光記錄光盤104的半徑方向移動，配合自動對焦系統在光記錄材料層維持一定大小光點及旋轉主軸103的轉動，達到光盤104初始化的目的。在此，習知技術的光學系統系在光記錄材料層上形成如圖2所示的約寬1微米長96微米的細長條光點201。此習知技術利用一對一對應的光學方式，將高功率激光管約寬1微米長100微米的發射開口，去掉100微米方向兩端強度不均勻區后，直接成像聚焦在光記錄材料層形成約寬1微米長96微米的細長條光點，此一作法因為有效聚焦深度較短，使得自動對焦系統及光點大小對于系統振動、光盤片軸向偏擺及其它外界擾動較為敏感，造成自動對焦不穩定及聚焦在光記錄材料層光點的能量密度具有變異量，這些負面效應將直接降低初始化裝置的初始化能力；另外，此習知技術的初始化與自動對焦光源均利用同一支高功率激光管，并整合在整個光學頭中，由于一般的高功率激光管的壽命在2000至3000小時之間，當此一習知系統的運作時間超過激光管壽命期后，必需將含有自動對焦系統的激光頭整組汰換掉，而無法只汰換高功率激光管，因此經濟效益較低。再者，此習知技術采用單一旋轉主軸，系統的初始化速度又將因主軸啟動與停止時間而更為降低。鑒于上述，本技術的目的就是提供一種相變位光記錄光盤的初始化裝置，它可提高相變位光或磁光記錄光盤的初始化品質及速度。為實現上述目的，本技術采用以下技術方案一種光記錄光盤的初始化裝置，它包含有一光學頭、一用以承載光學頭的直線位移平臺及用以承載相變位光記錄光盤或磁光光盤的旋轉主軸，其特征在于所述光學頭包含有初始化光源組合及其自動對焦組合。在本技術的實施措施中所述初始化光源組合包含有至少兩支以上高功率激光管；至少兩組以上多元件光學元件系統，每一組多元件光學元件系統對應至每一支高功率激光管，對發射開口做成像轉換；一匯集并反射兩支以上高功率激光管、形成主光束平行的光束的微小反射多面鏡；一將前述微小反射多面鏡所反射的主光束平行的光束先行收束后導入自動對焦系統中的預先聚焦透鏡。所述初始化光源組合也可包含有一高功率激光管；一多元件光學元件系統，對應至一支高功率激光管，對發射開口作成像轉換；一將前述成像轉換后的光束先行收束后導入自動對焦系統中的預先聚焦透鏡。所述自動對焦組合中具有聚焦透鏡位置感測系統，可用以檢測相變位光記錄或磁光光盤的盤片垂直偏擺量。所述初始化光源組合中的每一支高功率激光管與對應的多元件光學元件系統組合形成獨立單元。本技術的優點是光學系統具有整合一支以上高功率激光管的能力，可使輻射方向入射的高功率激光聚焦在一微小反射多面鏡后，所有的反射光將沿著同一方向的光路前進，最后由自動聚焦系統的聚焦透鏡聚焦在光記錄材料層上。由于此光學系統的特殊設計，不僅在光記錄材料層上可形成較大區域的光點，而且可維持照射光記錄材料層所需的足夠的激光能量密度，以進行初始化，得到具有高擦試率的相變位光記錄光盤或高品質的磁光光記錄光盤。另外，光學系統的獨特設計、初始化光源及自動對焦光源系采用不同的激光光源，初始化光源與部分光學元件設計成初始化光學組合，與自動對焦系統形成兩個獨立模組。初始化裝置的光學系統的特殊設計，系利用兩次光學成像轉換過程使得光學系統聚焦光束的聚焦深度比習知技術提高了約九倍，并且使得系統對于初始化光源模組及自動對焦系統在機械定位上的誤差容忍度提高許多，此一特性不僅可增強初始化裝置在初始化時抗外界擾動的能力，使本裝置對不同基材厚度(1.2mm及0.6mm)的相變位光盤做初始化時，對于因基材厚度所衍生的球面像差具有較佳的抗像差能力，使系統運作更加穩定，而且，當高功率激光管到達2000至3000小時的使用壽命時，只需單獨更換含有高功率激光管的初始化光源組合即可，而不必如習知技術那樣連自動對焦系統一起更換整組光學頭，因而可提高經濟效益。本技術除可采用習知技術的單一主軸外，還可采用雙旋轉主軸或更多旋轉主軸的結構設計，以避免習知技術因主軸啟動與停止所浪費的等待時間(約10秒左右)，因此可有效提高系統初始化速度，增加產量。以下結合附圖和實施例對本技術作詳細說明。圖1是習知光盤的初始化裝置；圖2是習知的光學系統在光盤材料本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種光記錄光盤的初始化裝置，它包含有一光學頭、一用以承載光學頭的直線位移平臺及用以承載相變位光記錄光盤或磁光光盤的旋轉主軸，其特征在于：所述光學頭包含有初始化光源組合及其自動對焦組合。

【技術特征摘要】
1.一種光記錄光盤的初始化裝置，它包含有一光學頭、一用以承載光學頭的直線位移平臺及用以承載相變位光記錄光盤或磁光光盤的旋轉主軸，其特征在于所述光學頭包含有初始化光源組合及其自動對焦組合。2.如權利要求1所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于所述初始化光源組合包含有至少兩支以上高功率激光管；至少兩組以上多元件光學元件系統，每一組多元件光學元件系統對應至每一支高功率激光管，對發射開口做成像轉換；一匯集并反射兩支以上高功率激光管、形成主光束平行的光束的微小反射多面鏡；一將前述微小反射多面鏡所反射的主光束平行的光束先行收束后導入自動對焦系統中的預先聚焦透鏡。3.如權利要求1所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于所述自動對焦組合中具有聚焦透鏡位置感測系統，可用以檢測相變位光記錄或磁光光盤的盤片垂直偏擺量。4.如權利要求2所述的光記錄光盤的初始化裝置，其特征在于...

【專利技術屬性】
技術研發人員：謝啟堂，李世光，吳文中，楊運昌，陳正宜，賴振群，陳火棋，林延真，王國全，林長青，威廉T普魯姆，道格拉斯S古德曼，杰弗瑞W羅伯利，詹姆斯J扎布托，理查A喬利，
申請(專利權)人：華錦光電科技股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：71[中國|臺灣]