本實(shí)用新型專利技術(shù)公開了一種提高鍍膜均勻性的鍍膜治具，包括治具本體，治具本體頂部的左側(cè)開設(shè)有放置槽，放置槽的數(shù)量為若干個(gè)，且若干個(gè)放置槽呈等距離分布，治具本體的頂部設(shè)置有基板，基板內(nèi)腔左側(cè)的前側(cè)與后側(cè)均設(shè)置有定位桿，定位桿的底部穿過放置槽延伸至治具本體的底部，定位桿通過螺母固定安裝在放置槽的內(nèi)部，治具本體頂部的右側(cè)開設(shè)有通槽，治具本體頂部的右側(cè)固定連接有基座，基座的內(nèi)部設(shè)置有推進(jìn)機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型專利技術(shù)具備了均勻鍍膜的優(yōu)點(diǎn)，解決了遇到不規(guī)則形狀的基板時(shí)，難以將基板固定在鍍膜治具上，強(qiáng)行將不規(guī)則基板固定在鍍膜治具上，不規(guī)則基板會(huì)產(chǎn)生松動(dòng)等問題，從而導(dǎo)致鍍膜不均勻的問題。致鍍膜不均勻的問題。致鍍膜不均勻的問題。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種提高鍍膜均勻性的鍍膜治具
[0001]本技術(shù)涉及鍍膜
，具體為一種提高鍍膜均勻性的鍍膜治具。
技術(shù)介紹
[0002]在鍍膜過程中，通常會(huì)用到鍍膜治具對(duì)基板進(jìn)行鍍膜，但現(xiàn)有的鍍膜治具存在的問題是：遇到不規(guī)則形狀的基板時(shí)，難以將基板固定在鍍膜治具上，強(qiáng)行將不規(guī)則基板固定在鍍膜治具上，不規(guī)則基板會(huì)產(chǎn)生松動(dòng)等問題，從而導(dǎo)致鍍膜不均勻。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
[0003]為解決上述
技術(shù)介紹
中提出的問題，本技術(shù)的目的在于提供一種提高鍍膜均勻性的鍍膜治具，具備了均勻鍍膜的優(yōu)點(diǎn)，解決了遇到不規(guī)則形狀的基板時(shí)，難以將基板固定在鍍膜治具上，強(qiáng)行將不規(guī)則基板固定在鍍膜治具上，不規(guī)則基板會(huì)產(chǎn)生松動(dòng)等問題，從而導(dǎo)致鍍膜不均勻的問題。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本技術(shù)提供如下技術(shù)方案：一種提高鍍膜均勻性的鍍膜治具，包括治具本體，所述治具本體頂部的左側(cè)開設(shè)有放置槽，所述放置槽的數(shù)量為若干個(gè)，且若干個(gè)放置槽呈等距離分布，所述治具本體的頂部設(shè)置有基板，所述基板內(nèi)腔左側(cè)的前側(cè)與后側(cè)均設(shè)置有定位桿，所述定位桿的底部穿過放置槽延伸至治具本體的底部，所述定位桿通過螺母固定安裝在放置槽的內(nèi)部，所述治具本體頂部的右側(cè)開設(shè)有通槽，所述治具本體頂部的右側(cè)固定連接有基座；
[0005]所述基座的內(nèi)部設(shè)置有推進(jìn)機(jī)構(gòu)，所述推進(jìn)機(jī)構(gòu)包括電動(dòng)缸、U型板和推塊，所述電動(dòng)缸固定連接在治具本體底部的右側(cè)，所述U型板固定連接在電動(dòng)缸的輸出端，所述U型板的頂部穿過通槽并延伸至治具本體的頂部，所述推塊固定連接在U型板右側(cè)的頂部，所述推塊位于基座的內(nèi)部，所述推塊的右側(cè)延伸至基座的右側(cè)。
[0006]作為本技術(shù)優(yōu)選的，所述推塊內(nèi)壁右側(cè)的前側(cè)與后側(cè)均開設(shè)有桿槽，所述桿槽的內(nèi)部設(shè)置有推桿，所述推桿的右側(cè)延伸至推塊的右側(cè)，所述推桿通過連接槽和連接柱活動(dòng)安裝在桿槽的內(nèi)部，所述推塊的內(nèi)部設(shè)置有平衡塊，所述平衡塊通過連接槽和連接柱活動(dòng)安裝在推塊的內(nèi)部，所述推桿的表面與平衡塊的表面接觸。
[0007]作為本技術(shù)優(yōu)選的，所述基座內(nèi)壁的前側(cè)與后側(cè)均開設(shè)有滑槽，所述滑槽的內(nèi)部滑動(dòng)連接有滑塊，所述滑塊靠近推塊的一側(cè)與推塊的表面固定連接。
[0008]作為本技術(shù)優(yōu)選的，所述推桿表面的右側(cè)固定連接有橡膠墊，所述橡膠墊的長(zhǎng)度小于推桿的長(zhǎng)度。
[0009]作為本技術(shù)優(yōu)選的，所述U型板內(nèi)壁頂部與底部的左側(cè)均固定連接有三角板一，所述三角板一的左側(cè)固定連接在U型板內(nèi)壁的左側(cè)。
[0010]作為本技術(shù)優(yōu)選的，所述推塊左側(cè)頂部與底部均固定連接有三角板二，所述三角板二靠近U型板的一側(cè)與U型板的表面固定連接。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本技術(shù)的有益效果如下：
[0012]1、本技術(shù)通過設(shè)置治具本體、放置槽、基板、定位桿、通槽、基座和推進(jìn)機(jī)構(gòu)的配合使用，使用者根據(jù)基板的形狀選取合適數(shù)量的定位桿，并使用螺母將定位桿固定安裝在放置槽的內(nèi)部，將基板放置在治具本體上，基板的內(nèi)壁與定位桿的表面接觸，啟動(dòng)電動(dòng)缸，電動(dòng)缸的輸出端帶動(dòng)U型板、推塊、滑塊、平衡塊、推桿和橡膠墊向右側(cè)移動(dòng)，當(dāng)橡膠墊接觸到基板的內(nèi)壁后，前側(cè)的推桿停止移動(dòng)，推塊繼續(xù)向右側(cè)移動(dòng)，前側(cè)的推桿推動(dòng)平衡塊向后側(cè)移動(dòng)，平衡塊推動(dòng)后側(cè)的推桿向右側(cè)移動(dòng)，此時(shí)推塊的推動(dòng)力均勻的施加在基板上，此時(shí)，基板被推桿和定位桿的配合均勻且穩(wěn)定的固定在治具本體上，具備了均勻鍍膜的優(yōu)點(diǎn)，解決了遇到不規(guī)則形狀的基板時(shí)，難以將基板固定在鍍膜治具上，強(qiáng)行將不規(guī)則基板固定在鍍膜治具上，不規(guī)則基板會(huì)產(chǎn)生松動(dòng)等問題，從而導(dǎo)致鍍膜不均勻的問題。
[0013]2、本技術(shù)通過設(shè)置推桿，能夠使推塊的推動(dòng)力均勻的施加在基板上，避免基板受力不均勻出現(xiàn)基板傾斜的現(xiàn)象，提高了基板的穩(wěn)定性。
[0014]3、本技術(shù)通過設(shè)置滑塊，能夠?qū)ν茐K進(jìn)行限位，避免推塊移動(dòng)時(shí)出現(xiàn)松動(dòng)的現(xiàn)象，提高了推塊的穩(wěn)定性。
[0015]4、本技術(shù)通過設(shè)置橡膠墊，能夠增加推桿與基板之間的摩擦力，同時(shí)起到了避免推桿刮損基板的現(xiàn)象，提高了基板的完整性。
[0016]5、本技術(shù)通過設(shè)置三角板一，能夠增加U型板的穩(wěn)定性，避免U型板出現(xiàn)彎折的現(xiàn)象，提高了U型板的穩(wěn)定性。
[0017]6、本技術(shù)通過設(shè)置三角板二，能夠增加U型板與推塊連接處的穩(wěn)固性，避免長(zhǎng)時(shí)間使用其連接處出現(xiàn)彎折的現(xiàn)象。
附圖說明
[0018]圖1為本技術(shù)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為本技術(shù)治具本體的主視剖面圖；
[0020]圖3為本技術(shù)圖2中A處放大結(jié)構(gòu)圖；
[0021]圖4為本技術(shù)圖2中B處放大結(jié)構(gòu)圖；
[0022]圖5為本技術(shù)基板的附視剖面圖；
[0023]圖6為本技術(shù)推塊的附視剖面圖。
[0024]圖中：1、治具本體；2、放置槽；3、基板；4、定位桿；5、通槽；6、基座；7、推進(jìn)機(jī)構(gòu)；71、電動(dòng)缸；72、U型板；73、推塊；8、桿槽；9、推桿；10、平衡塊；11、滑槽；12、滑塊；13、橡膠墊；14、三角板一；15、三角板二。
具體實(shí)施方式
[0025]下面將結(jié)合本技術(shù)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本技術(shù)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本技術(shù)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本技術(shù)保護(hù)的范圍。
[0026]如圖1至圖6所示，本技術(shù)提供的一種提高鍍膜均勻性的鍍膜治具，包括治具本體1，治具本體1頂部的左側(cè)開設(shè)有放置槽2，放置槽2的數(shù)量為若干個(gè)，且若干個(gè)放置槽2呈等距離分布，治具本體1的頂部設(shè)置有基板3，基板3內(nèi)腔左側(cè)的前側(cè)與后側(cè)均設(shè)置有定位
桿4，定位桿4的底部穿過放置槽2延伸至治具本體1的底部，定位桿4通過螺母固定安裝在放置槽2的內(nèi)部，治具本體1頂部的右側(cè)開設(shè)有通槽5，治具本體1頂部的右側(cè)固定連接有基座6；
[0027]基座6的內(nèi)部設(shè)置有推進(jìn)機(jī)構(gòu)7，推進(jìn)機(jī)構(gòu)7包括電動(dòng)缸71、U型板72和推塊73，電動(dòng)缸71固定連接在治具本體1底部的右側(cè)，U型板72固定連接在電動(dòng)缸71的輸出端，U型板72的頂部穿過通槽5并延伸至治具本體1的頂部，推塊73固定連接在U型板72右側(cè)的頂部，推塊73位于基座6的內(nèi)部，推塊73的右側(cè)延伸至基座6的右側(cè)。
[0028]參考圖6，推塊73內(nèi)壁右側(cè)的前側(cè)與后側(cè)均開設(shè)有桿槽8，桿槽8的內(nèi)部設(shè)置有推桿9，推桿9的右側(cè)延伸至推塊73的右側(cè)，推桿9通過連接槽和連接柱活動(dòng)安裝在桿槽8的內(nèi)部，推塊73的內(nèi)部設(shè)置有平衡塊10，平衡塊10通過連接槽和連接柱活動(dòng)安裝在推塊73的內(nèi)部，推桿9的表面與平衡塊10的表面接觸。
[0029]作為本技術(shù)的一種技術(shù)優(yōu)化方案，通過設(shè)置推桿9，能夠使推塊73的推動(dòng)力均勻的施加在基板3上，避免基板3受力不均勻出現(xiàn)基板3傾斜的現(xiàn)象，提高了基板3的穩(wěn)定性。
[0030]參考圖6，基座6內(nèi)壁的前側(cè)與后側(cè)均開設(shè)有滑槽11，滑槽本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
【技術(shù)特征摘要】
1.一種提高鍍膜均勻性的鍍膜治具，包括治具本體（1），其特征在于：所述治具本體（1）頂部的左側(cè)開設(shè)有放置槽（2），所述放置槽（2）的數(shù)量為若干個(gè)，且若干個(gè)放置槽（2）呈等距離分布，所述治具本體（1）的頂部設(shè)置有基板（3），所述基板（3）內(nèi)腔左側(cè)的前側(cè)與后側(cè)均設(shè)置有定位桿（4），所述定位桿（4）的底部穿過放置槽（2）延伸至治具本體（1）的底部，所述定位桿（4）通過螺母固定安裝在放置槽（2）的內(nèi)部，所述治具本體（1）頂部的右側(cè)開設(shè)有通槽（5），所述治具本體（1）頂部的右側(cè)固定連接有基座（6）；所述基座（6）的內(nèi)部設(shè)置有推進(jìn)機(jī)構(gòu)（7），所述推進(jìn)機(jī)構(gòu)（7）包括電動(dòng)缸（71）、U型板（72）和推塊（73），所述電動(dòng)缸（71）固定連接在治具本體（1）底部的右側(cè)，所述U型板（72）固定連接在電動(dòng)缸（71）的輸出端，所述U型板（72）的頂部穿過通槽（5）并延伸至治具本體（1）的頂部，所述推塊（73）固定連接在U型板（72）右側(cè)的頂部，所述推塊（73）位于基座（6）的內(nèi)部，所述推塊（73）的右側(cè)延伸至基座（6）的右側(cè)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提高鍍膜均勻性的鍍膜治具，其特征在于：所述推塊（73）內(nèi)壁右側(cè)的前側(cè)與后側(cè)均開設(shè)有桿槽（8），所述桿槽（8）的內(nèi)部設(shè)置有推桿（9）...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：馬約布，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：曜昀光電科技廈門有限公司，
類型：新型
國別省市：
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