【技術實現步驟摘要】
【技術保護點】
一種光刻機曝光成像裝置，其特征在于，在光刻機曝光的光路上設置有下分束板，所述下分束板與光路呈４５°夾角，且所述下分束板的反射面朝向被光刻器件的一側；在經過所述下分束板反射后與光刻光路相垂直的光路上設置有下反射鏡，所述下反射鏡的法線與所述下分束板的法線相平行，且所述下反射鏡的反射面朝向所述下分束板一側；在經過所述下反射鏡反射之后的光路上設置有圖像探測器。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：伍強，
申請(專利權)人：上海華虹NEC電子有限公司，
類型：發明
國別省市：31[中國|上海]
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