含聚酰胺酸的形成下層防反射膜的組合物制造技術

本發明專利技術的目的在于提供形成下層防反射膜的組合物，該組合物用于形成在制造半導體器件的光刻工藝中使用的下層防反射膜，所述下層防反射膜在光致抗蝕劑的顯影中使用的堿性顯影液的作用下能夠顯影，并提供使用該形成下層防反射膜的組合物的光致抗蝕劑圖案的形成方法。本發明專利技術的形成下層防反射膜的組合物含有，聚酰胺酸、具有至少兩個環氧基的化合物、對波長為３６５ｎｍ的光的摩爾吸光系數為５０００～１０００００（１／ｍｏｌ.ｃｍ）的吸光性化合物、和溶劑。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】

【技術保護點】
一種形成下層防反射膜的組合物，該組合物用于形成能夠通過堿性顯影液與光致抗蝕劑一起顯影的下層防反射膜，其特征在于，含有具有式（１）和式（２）所示結構的聚酰胺酸：　　　　＊＊＊　　　　（式中，Ａ↓［１］和Ａ↓［２］表示４價的有機基團，Ｂ↓［１］表示３價的有機基團，Ｂ↓［２］表示２價的有機基團）、具有至少兩個環氧基的化合物、對波長為３６５ｎｍ的光的摩爾吸光系數為５０００～１０００００（１／ｍｏｌ.ｃｍ）的吸光性化合物、和溶劑。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：畑中真，坂口崇洋，榎本智之，木村茂雄，
申請(專利權)人：日產化學工業株式會社，
類型：發明
國別省市：JP[日本]