一種單銀層HTLE玻璃制造技術

本實用新型專利技術提供了一種單銀層HTLE玻璃，包括鋼化玻璃基板(1)，在玻璃基板(1)表面由內向外依次地磁控濺射有第一膜層介質層(2)；第二膜層保護層(3)；第三膜層功能層(4)；第四膜層保護層(5)；第五膜層介質層(6)，一共五個膜層。五個膜層所構成的HTLE膜中僅有一層銀(功能層)，可以實現高結構強度、高可見光透過率、低輻射率和隔熱性能好的高度統一。輻射率和隔熱性能好的高度統一。輻射率和隔熱性能好的高度統一。

【技術實現步驟摘要】
一種單銀層HTLE玻璃


[0001]本技術涉及一種低輻射玻璃，尤其是涉及一種單銀膜層的HTLE玻璃(高透光率High Transmittance、低輻射率Low Emission)。

技術介紹

[0002]近年來，為提高隔熱效果，通常一塊玻璃或兩塊玻璃基板采用低輻射(Low emission，low
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e)中空玻璃以降低輻射換熱，其low
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e膜位于兩塊玻璃相對的一側。
[0003]為實現玻璃的低輻射，一般采用在線low
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e玻璃或雙銀層low
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e玻璃作為玻璃基板。在線low
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e玻璃是在玻璃制備過程中，往熱的玻璃表面噴涂以錫鹽為主要成分的化學溶液，形成單層具有一定低輻射性能的氧化錫(SnO2)化合物薄膜而制成的。在線low
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e玻璃可見光透過率一般在0.7左右，膜層堅固耐用，該技術的主要不足在于：(一)在線low
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e玻璃的的膜層材料為半導體氧化物，其紅外發射率在0.2左右，而一般金屬膜(例如銀膜)發射率小于0.1，因此在線low
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e玻璃隔熱性能仍有進步空間；(二)在線low
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e玻璃的鋼化過程是帶膜鋼化的，鋼化過程可能產生顏色變化和變形等問題，因此全鋼化中空玻璃一般不采用在線low
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e玻璃，非全鋼化中空玻璃強度和安全性能有一定缺陷。雙銀層low
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e中空玻璃一般采用磁控濺射鍍膜工藝，在玻璃表面鍍制雙銀多層膜結構，其low
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e膜結構一般為玻璃基底/介質/銀/屏蔽層/介質/銀/屏蔽層/介質，這種low
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e膜發射率較低，一般為0.05～0.1，但由于膜結構中金屬層較厚，可見光透過率較低，一般為0.4～0.5。
[0004]因此，迫切需要一種高強度、高可見光透過率、低輻射率、隔熱性能好的玻璃來滿足市場需要。

技術實現思路

[0005]本技術的目的在于提供一種高強度、高可見光透過率、低輻射率、隔熱性能好的單銀層HTLE玻璃。
[0006]為了解決上述技術問題，本技術采用的技術方案是：
[0007]一種單銀層HTLE玻璃，包括鋼化玻璃基板(1)，其特征在于玻璃基板表面由內向外依次地磁控濺射有第一膜層介質層(2)；第二膜層保護層(3)；第三膜層功能層(4)；第四膜層保護層(5)；第五膜層介質層(6)，一共五個膜層。
[0008]作為對本技術的限定，本技術所述的五個膜層的第一膜層介質層(2)是氧化鋅鋁膜層、氮化硅膜層或氧化鈦膜層，第二膜層保護層(3)是鎳鉻合金膜層或純鉻膜層，第三膜層功能層(4)是銀銅合金膜層或銀鋁合金膜層，第四膜層保護層(5)是鎳鉻合金膜層或純鉻膜層，第五膜層介質層(6)是氧化鋅鋁膜層、氮化硅膜層或氧化鈦膜層。其中所述的氧化鋅鋁膜層中氧化鋅和氧化鋁的質量比為98:2，銀銅合金或銀鋁合金膜層中銀的質量分數為90％～95％，鎳鉻合金膜層中鎳的質量分數為70％～90％。
[0009]作為對本技術的進一步限定，本技術所述的第一膜層介質層(2)的厚度為30～40nm，第二膜層保護層(3)的厚度為0.5～1.5nm，第三膜層功能層(4)的厚度為10～
15nm，第四膜層保護層(5)的厚度為0.5～1.5nm，第五膜層介質層(6)的厚度為30～40nm。
[0010]采用上述技術方案后，本技術具有以下優點：
[0011]1、采用鋼化玻璃作為基板，有效地提高了HTLE玻璃的結構強度，使得玻璃不易破碎，即使破碎后也不會掉落對人造成傷害，提高了其安全性。
[0012]2、采用磁控濺射法將鍍膜層濺射在玻璃基板上，鍍膜層與玻璃基材間結合力強，鍍膜層致密、均勻。
[0013]3、氧化鋅鋁中氧化鋁的摻雜，銀銅合金或銀鋁合金中銅和鋁的摻雜，使得它們的穩定性分別優于純氧化鋅和銀，制備得到的膜層結構堅固、性質穩定，HTLE膜中保護層也可以增強膜層的穩定性，所以可以在單層玻璃情況下加以推廣應用。
[0014]4、HTLE膜是單銀層結構，銀合金層厚度為10nm左右，遠低于雙銀層low
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e結構(兩層銀厚度之和大于20nm)，可以提供超過90％的紅外反射率，從而實現低輻射率。保護層兩側的介質層可以降低膜層的反射率，提高透過率，使得單銀層結構可以兼具高可見光透過率和低輻射率，HTLE膜結構的玻璃可見光透光率超過0.65，輻射率小于0.1。
[0015]5、普通玻璃在室溫環境下與室內的輻射換熱系數約5.4W/(m2·
K)，采用HTLE玻璃后可降至0.42W/(m2·
K)。HTLE玻璃降低了輻射熱損，提高了玻璃的隔熱性能，降低了能源消耗。
[0016]因此本技術可以實現單層玻璃高強度、高透光率、低輻射率、隔熱性能好的統一。
附圖說明
[0017]圖1是單銀層HTLE玻璃的結構示意圖，包括鋼化玻璃基板(1)；第一膜層介質層(2)；第二膜層保護層(3)；第三膜層功能層(4)；第四膜層保護層(5)；第五膜層介質層(6)，共五個膜層。
具體實施方式
[0018]本技術將就以下實施例作進一步說明，但應了解的是，這些實施例僅為例示說明之用，而不應被解釋為本技術實施的限制。
[0019]現結合具體實施例對本技術的內容進行詳細的說明，但是本技術的技術方案不限于此。
[0020]實施例1
[0021]制備這種單銀層HTLE玻璃的方法依次是：
[0022]1.玻璃基底清洗干凈并吹干，置于真空濺射區；
[0023]2.在玻璃基底上采用磁控濺射的方式沉積氧化鋅鋁層(2)，所用靶材為氧化鋅鋁圓靶，其中氧化鋅和氧化鋁的質量比為98:2，電源為射頻電源，功率為150～250W，工藝氣體為純氬氣，在室溫下沉積；
[0024]3.在氧化鋅鋁層(2)上面采用磁控濺射的方式沉積鎳鉻合金層(3)，所用靶材為NiCr合金圓靶，鎳鉻合金中鎳的質量分數為70％～90％，電源為直流電源，功率為150～250W，工藝氣體為純氬氣，在室溫下沉積；
[0025]4.在鎳鉻合金層(3)上采用磁控濺射的方式沉積銀銅合金層(4)，所用靶材為AgCu
合金圓靶，銀銅合金中銀的質量分數為90％～95％，電源為直流電源，功率為150～250W，工藝氣體為純氬氣，在室溫下沉積；
[0026]5.在銀銅合金層(4)上面采用磁控濺射的方式沉積鎳鉻合金層(5)，所用靶材為NiCr合金圓靶，鎳鉻合金中鎳的質量分數為70％～90％，電源為直流電源，功率為150～250W，工藝氣體為純氬氣，在室溫下沉積；
[0027]6.在鎳鉻合金層(5)上面采用磁控濺射的方式沉積氧化鋅鋁層(6)，所用靶材為氧化鋅鋁圓靶，其中氧化鋅和氧化鋁的質量比為98:2，電源射頻電源，功率為150～250W，工藝氣體為純氬氣，在室本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種單銀層HTLE玻璃，包括鋼化玻璃基板(1)，其特征在于玻璃基板表面由內向外依次地磁控濺射有第一膜層介質層(2)；第二膜層保護層(3)；第三膜層功能層(4)；第四膜層保護層(5)；第五膜層介質層(6)，一共五個膜層；其中所述的五個膜層的第一膜層介質層(2)是氧化鋅鋁膜層、氮化硅膜層或氧化鈦膜層，第二膜層保護層(3)是鎳鉻合金膜層或純鉻膜層，第三膜層功能層(4)是銀銅合金膜層或銀鋁合金膜層，第四膜...

【專利技術屬性】
技術研發人員：葉宏，
申請(專利權)人：鄧凱，
類型：新型
國別省市：