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    成象裝置制造方法及圖紙

    技術編號:3220073 閱讀:201 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    用于利用產生電子-空穴的輻射獲得圖象的一種成象裝置,該裝置包括: A.至少一個固態(tài)輻射探測單元,該單元包括: 1)由摻雜的晶體半導體材料構成的一個襯底, 2)結合在所說襯底中和所說襯底上以構成一個象素電路陣列的一組金屬氧化物半導體象素電路,每個所說半導體象素電路限定一個象素,并且包括; a)一個電荷收集象素電極, b)與所說電荷收集電極電連接以存儲由所說電荷收集電極收集的電荷的一個象素電容器, c)一個電荷測量晶體管電路,其中包含至少一個用于測量存儲在所說象素電容器中的電荷量的晶體管, 3)由覆蓋所說象素電路陣列的一層光電導材料構成的一個輻射吸收層,所說材料在受到所說產生電子-空穴輻射輻照時具有光電導特性, 4)由沉積在所說輻射吸收層上的導電材料構成的一個表面電極層,所說電極層對于所說輻射至少是部分透明的,可以與一個電壓源連接以在所說輻射吸收層,以及所說表面電極層與所說電荷收集電極之間建立一個電場; B.用于利用所說測量晶體管電路測量存儲在每個所說象素電容器中的電荷量的一個象素電荷測量電路, C.用于采集和存儲從所說電荷測量結果中獲得的數據的一個數據采集系統,所說數據包含構成一幅圖象的信息。(*該技術在2017年保護過期,可自由使用*)

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及成象裝置,具體地說,本專利技術涉及利用輻射形成圖象的裝置。本申請為美國專利申請No.08/426691(申請日為1995年4月21日)和國際申請PCT/US96/05617(國際申請日為1996年4月22日)的部分后續(xù)申請。 專利技術
    技術介紹
    采用照相膠片的膠片-屏幕X-射線成象裝置廣泛用于醫(yī)療成象。但是,由于膠片對比度范圍有限以及成象區(qū)域組織厚度和成分的變化,常常造成膠片的某些區(qū)域曝光過度,而另一些區(qū)域曝光不足。辨別膠片上曝光過度和曝光不足區(qū)域內軟組織的對比度差別是很困難的。這個問題在膠片-屏幕乳腺X-射線成象中尤其突出。人們已經作出一些嘗試,利用電子圖象傳感器代替膠片。電子圖象傳感器與膠片相比具有一些潛在的優(yōu)點,其中包括能夠在更大的范圍內更加準確地測量X-射線強度、能夠將圖象數據數字化、易于保管和傳輸圖象數據、提高了顯示性能。但是,由于缺乏相對便宜、緊湊、具有足夠成象面積和分辨率的數字X-射線圖象傳感器,妨礙了數字X-射線放射技術的廣泛的臨床應用。目前的數字X-射線成象系統通常使用一個熒光板,該熒光板將每個X-射線光子轉換成大量的可見光光子以形成一幅可見光圖象。然后將該可見光圖象成象到一個光學圖象傳感器如CCD上。但是,X-射線-可見光的轉換效率相對較低,光子采集率較低,光子產生附加量子噪聲,以及在X-射線-可見光轉換器中光擴散造成分辨率下降,這些因素都使這些技術的成象性能降低。已知硒是一種光電導物質,即吸收在處于電場中的硒層中的X-射線光子生成大量電子/空穴對,使得電流流過其它情況下為絕緣狀態(tài)的絕緣層。施樂公司開發(fā)了一種X-射線成象裝置,在該裝置中,采用紙/墨粉方法記錄鍍硒鋁板上的X-射線感生電荷分布。菲利普公司近來向市場推出了一種胸部X-射線成象儀,在該成象儀中利用掃描靜電計記錄鍍硒鋁板上的X-射線感生電荷分布。金屬氧化物半導體(MOS)制造技術是一種成熟工業(yè)技術,按照這種技術在硅晶片上表面上或者上表面內制作集成電路。互補金屬氧化物半導體(CMOS)技術將n-溝道和p-溝道發(fā)射極結合在一個晶片上。MOS技術在制造晶體管時通常利用單晶硅襯底作為半導體材料。當我們在本申請中使用術語“單晶硅襯底”時,我們指的是由排列成具有相對較少缺陷的規(guī)則晶格的硅原子構成的襯底。單晶硅中電荷載體的高遷移率和邊界清晰的能帶隙使得能夠制成響應速度快、體積小、噪聲低的電路系統。在金屬氧化物半導體制造中還可以使用其它的半導體晶體材料。這些材料包括電絕緣體上的晶體硅(例如氧化硅或藍寶石)、砷化鋁鎵和砷化銦鎵。薄膜晶體管(TFT)技術是一種新興半導體制造技術,按照這種技術,使用薄膜半導體材料如無定形硅、多晶硅或淀積在絕緣襯底上的無定形硒化鎘制造晶體管。TFT技術的優(yōu)點是可以用于制作大面積電路。但是,這些薄膜的無序分子結構導致電荷遷移率較低和在能帶隙中局部能態(tài)密度集中。與CMOS電路相比,TFT電路通常較慢,并且由于漏電流較大而存在噪聲。目前已經有人提出和開發(fā)出用于直接獲得數字X-射線圖象的多種方法。例如,Zhao和Rowlands(Proc.SPIE 1993;1896114-120)提出了使用硒化鎘TFT技術用無定形硒涂層制作的一種讀出陣列。Tran等人在美國專利US-5235195中公開了一種TFT陣列電路,其上首先涂覆一層“平面化”層,然后在該平面化層之上涂覆一層對能量敏感的材料。實際上,仍然需要一種改進的X-射線成象裝置。本專利技術就提供了這樣一種裝置。專利技術概要本專利技術提供利用可生成電子-空穴的輻射產生圖象的一種成象裝置。電子-空穴對產生于光電導材料的輻射吸收層中。這一輻射吸收層覆蓋著結合在半導體襯底中和形成在半導體襯底上的一個金屬氧化物半導體象素電路陣列。每個象素電路具有一個電荷收集象素電極、與該電極相連以存儲這些電荷的一個電容器和一個電荷測量晶體管電路。一個電壓源在象素電極與覆蓋所說輻射吸收層的可透過輻射的表面電極之間的輻射吸收層上產生一個電場。一個數據采集系統采集并保存由電荷測量值獲得的數據,計算機根據這些數據計算生成圖象。圖象可以顯示在顯示器上或從打印機上打印出來。優(yōu)選實施例從X-射線、紫外光和可見光獲得圖象。還可以利用粒子輻射獲得圖象。本專利技術相對于現有技術TFT所具有的優(yōu)點來自我們對于金屬氧化物半導體技術的眾多益處的開發(fā)。這些優(yōu)點包括非常好的電路特性,以及設計的靈活性,這使得我們,在一個優(yōu)選實施例中,能夠很容易地將象素陣列和讀出電路系統一起形成在一個硅晶片上。附圖簡介附圖說明圖1為表示本專利技術優(yōu)選實施例的主要部分的示意圖。圖2A至圖2D為表示本專利技術的基本工作狀態(tài)的電路圖。圖3為表示由本專利技術人制作和測試的原型傳感器的剖面圖。圖4為原型電子讀出陣列的頂視圖。圖5為原型讀出陣列的象素陣列的一個象素中各個元件的電路示意圖。圖6為用于原型實施例中的電子讀出陣列的示意圖。圖7為用于讀出電路系統中的移位寄存器的一個單元的電路示意圖。圖8A和圖8B為表示用于讀出電路系統中的采樣和保持電路的電路示意圖。圖9為表示象素陣列的一個象素中各個元件的實際布圖的頂視圖。圖10-12為表示象素陣列的一個象素中實際布圖的三個剖面圖。圖13A和圖13B表示一個金屬絲網篩和利用第一優(yōu)選實施例獲得的金屬絲網篩的X-射線圖象。圖14A和圖14B表示縫紉針的一部分和利用第一優(yōu)選實施例獲得的針的一部分的X-射線圖象。圖15A和圖15B表示由專利技術人制作的圖象傳感器的主要元件。圖16為第二優(yōu)選實施例中電子讀出陣列的示意圖。圖17A和圖17B為表示用于組合多個圖象傳感器以構成較大規(guī)格的成象傳感器的一種方法的示意圖。圖18為本專利技術用于乳腺X-射線照相的示意圖。圖19為表示利用一條圖象傳感器連續(xù)地對一個物體的不同區(qū)域成象的一種方法的示意圖。圖20A和圖20B為表示用于組合多個圖象傳感器以構成一個較大規(guī)格圖象傳感器的一種方法的示意圖。圖21為一個X-光透視原型讀出陣列的象素陣列的一個象素中各個元件的電路示意圖。圖22為用于X-光透視實施例中電子讀出陣列的示意圖。圖23A和圖23B為表示用于X-光透視原型讀出陣列的讀出電路系統中的采樣和保持電路的電路示意圖。圖24為表示本專利技術用于紫外光/可見光成象的優(yōu)選實施例的主要部分的示意圖。圖25A和圖25B分別為利用第一優(yōu)選實施例獲得的一個小孔的紫外光圖象和X-射線圖象的數字打印輸出。圖26為利用本專利技術的一個優(yōu)選實施例獲得的一只老鼠的X-射線圖象的數字打印輸出。圖27表示一個紫外光或可見光傳感器。優(yōu)選實施例的詳細描述基本概念本專利技術的優(yōu)選實施例可以參照圖1和圖2A至2D進行介紹。由X-射線源4產生的射向目標6的X-光子2或者被目標6吸收,或者穿過目標6。通過目標6的大部分X-光子還穿過X-射線透明導電層8,并被X-射線傳感器1的吸收層10吸收。每一個被吸收的X-光子在被吸收的過程中在吸收層10中吸收點附近產生大量的電子/空穴對。由電壓源16在透明導電層8與象素陣列9中的各個電極14之間施加的電壓驅使這些電子/空穴對中的空穴遷移到位于象素陣列9附近的各個電極14。象素陣列9和讀出電路18共同構成電子讀出陣列12,并制作在一個單晶硅襯底7上或其中。由電子讀出陣列12輸出的表示吸收在吸收層10中的X-光子的電信號從象本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    1.用于利用產生電子-空穴的輻射獲得圖象的一種成象裝置,該裝置包括A.至少一個固態(tài)輻射探測單元,該單元包括1)由摻雜的晶體半導體材料構成的一個襯底,2)結合在所說襯底中和所說襯底上以構成一個象素電路陣列的一組金屬氧化物半導體象素電路,每個所說半導體象素電路限定一個象素,并且包括;a)一個電荷收集象素電極,b)與所說電荷收集電極電連接以存儲由所說電荷收集電極收集的電荷的一個象素電容器,c)一個電荷測量晶體管電路,其中包含至少一個用于測量存儲在所說象素電容器中的電荷量的晶體管,3)由覆蓋所說象素電路陣列的一層光電導材料構成的一個輻射吸收層,所說材料在受到所說產生電子-空穴輻射輻照時具有光電導特性,4)由沉積在所說輻射吸收層上的導電材料構成的一個表面電極層,所說電極層對于所說輻射至少是部分透明的,可以與一個電壓源連接以在所說輻射吸收層,以及所說表面電極層與所說電荷收集電極之間建立一個電場;B.用于利用所說測量晶體管電路測量存儲在每個所說象素電容器中的電荷量的一個象素電荷測量電路,C.用于采集和存儲從所說電荷測量結果中獲得的數據的一個數據采集系統,所說數據包含構成一幅圖象的信息。2.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說襯底由摻雜單晶硅構成。3.如權利要求2所述的一種成象裝置,其特征在于所說襯底為一晶片。4.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說襯底由電絕緣體上的硅層構成。5.如權利要求4所述的一種成象裝置,其特征在于所說絕緣體由二氧化硅或藍寶石構成。6.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說襯底由砷化鋁鎵構成。7.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說襯底由砷化銦鎵構成。8.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說金屬氧化物半導體象素電路為互補金屬氧化物半導體象素電路。9.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說金屬氧化物半導體電路為n-溝道金屬氧化物半導體象素電路。10.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說金屬氧化物半導體電路為p-溝道金屬氧化物半導體象素電路。11.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說產生電子-空穴的輻射包括X-射線輻射。12.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說產生電子-空穴的輻射包括紫外線輻射。13.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說產生電子-空穴的輻射包括可見光。14.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于產生電子-空穴的輻射包括粒子輻射。15.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于它還包括用于所說所說圖象的一個監(jiān)視器。16.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于它還包括用于打印所說圖象的一個打印機。17.如權利要求2所述的一種成象裝置,其特征在于每個所說的象素電容器包括夾在兩層重摻雜的多晶硅之間的一絕緣氧化物層。18.如權利要求17所述的一種成象裝置,其特征在于所說氧化物層為SiO2玻璃。19.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于每個電荷收集象素電極由鋁構成。20.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于每個電荷測量晶體管包括至少兩個設置在電路中的場效應晶體管,從而可以無損地測量所說電荷。21.如權利要求20所述的一種成象裝置,其特征在于所說至少兩個場效應晶體管包括一個源極輸出晶體管和一個選擇晶體管。22.如權利要求20所述的一種成象裝置,其特征在于每個象素電容器限定了兩個平行平板,每個源極輸出晶體管限定了一個門極,所說平板之一與所說門極電連接。23.如權利要求22所述的一種成象裝置,其特征在于所說的每個半導體象素電路還包括用于將每個所說象素電路復位的一個復位晶體管。24.如權利要求23所述的一種成象裝置,其特征在于每個所說復位晶體管包括用于將相關的象素電容器短路接地的一個電路。25.如權利要求24所述的一種成象裝置,其特征在于每個復位晶體管包括一個反向偏置復位晶體管。26.如權利要求25所述的一種成象裝置,其特征在于所說光電導材料包括無定形硒。27.如權利要求26所述的一種成象裝置,其特征在于所說硒沉積為薄膜形式。28.如權利要求27所述的一種成象裝置,其特征在于所說薄膜是蒸氣沉積的。29.如權利要求28所述的一種成象裝置,其特征在于所說硒是與砷的熔合物。30.如權利要求29所述的一種成象裝置,其特征在于所說表面電極層包括銀。31.如權利要求30所述的一種成象裝置,其特征在于所說電壓源用于在所說輻射吸收層中產生每微米2至20伏特的電場。32.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說光電導材料包括至少兩層光電導材料。33.如權利要求32所述的一種成象裝置,其特征在于所說至少兩層構成了一個光電二極管。34.如權利要求33所述的一種成象裝置,其特征在于所說光電二極管包括一個p-n結。35.如權利要求33所述的一種成象裝置,其特征在于所說光電二極管包括一個p-i-n結。36.如權利要求33所述的一種成象裝置,其特征在于所說光電二極管包括一個肖特基結。37.如權利要求11所述的一種成象裝置,其特征在于所說電荷收集象素電極與所說表面電極層之間被至少10微米厚度的所說光電導材料分隔開。38.如權利要求37所述的一種成象裝置,其特征在于所說陣列設置成若干行和若干列,所說象素電荷測量裝置在每一列包括一個采樣和保持電路,以及用于選擇行的一個移位寄存器和用于選擇列的一個獨立的移位寄存器。39.如權利要求38所述的一種成象裝置,其特征在于所說數據采集裝置包括一個模數轉換器。40.如權利要求2所述的一種成象裝置,其特征在于在所說單晶硅襯底中摻雜以生成n-型硅。41.如權利要求2所述的一種成象裝置,其特征在于在所說單晶硅襯底中摻雜以生成p-型硅。42.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說電壓源裝置用于相對于所說電荷收集電極在所說表面電極層上施加正電壓。43.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說電壓源裝置用于相對于所說電荷收集電極在所說表面電極層上施加負電壓。44.如權利要求1所述的一種成象裝置,其特征在于所說至少一個探測單元為一組探測單元。45.如權利要求44所述的一種成象裝置,其特征在于所說的一組探測單元包括至少一行的至少四個探測單元。46.如權利要求45所述的一種成象裝置,其特征在于所說的至少一行為彼此平行設置的至少三行。47.如權利要求1所述的一種成象裝置...

    【專利技術屬性】
    技術研發(fā)人員:B·斯皮維P·馬丁A·L·莫爾瑟爾E·阿特拉斯A·佩爾勒格里諾
    申請(專利權)人:熱特雷斯公司
    類型:發(fā)明
    國別省市:

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