【技術實現步驟摘要】
本技術涉及電子元器件,是一種高壓整流二極管,具體地說,是一種改進的高壓硅堆。
技術介紹
高壓硅堆是許多電器設備中必不可少的電子元件,如微波爐、電視機高壓包、工業電器等。現有的高壓硅堆,通常體積比較大,這主要是由于其中所采用的芯片一般為10片左右,每片的平均VR為1500V左右。因此,造成加工工藝較為復雜,工藝難度也相應較大,成本高。
技術實現思路
本技術的目的是提供一種體積小,成本低,相應售價低,大大簡化了工藝細節,降低了工藝難度,更適合于大批量生產的高壓硅堆。本技術的技術解決方案是一種高壓硅堆,有芯片,芯片與導線連接,其特征是芯片有2~4片,在芯片外有封裝體。本技術中所述的芯片可以為2片。每片芯片的VR采用5000V左右。本技術的有益效果為體積小,成本低,相應售價低,大大簡化了工藝細節,降低了工藝難度,更適合于大批量生產,壓降小,功耗低。以下結合附圖和實施例對本技術作進一步的說明附圖說明圖1為原有的高壓硅堆的結構示意圖;圖2為本技術的高壓硅堆的結構示意圖。圖1描述了現有的一種高壓硅堆,在圖中,有芯片1,芯片1與導線3連接,芯片1有10片左右,在芯片1外有封裝體2。每片芯片1的VR采用1500V左右。圖2描述了本技術的高壓硅堆,在圖中,也有芯片1,芯片1與導線3連接,與現有的高壓硅堆不同的是芯片為4片(或2~4片),在芯片1外有封裝體2。每片芯片1的VR采用5000V左右。所述的芯片1可減少為片。以最大限度地減少體積。
【技術保護點】
一種高壓硅堆,有芯片,芯片與導線連接,其特征是:芯片有2~4片,在芯片外有封裝體。
【技術特征摘要】
1.一種高壓硅堆,有芯片,芯片與導線連接,其特征是芯片有2~4片,在芯片外有封裝體。2.根據權利要求1所述...
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