一種掩膜版、制作方法及制作夾具技術

本發明專利技術公開了一種掩膜版、制作方法及制作夾具，涉及顯示設備技術領域；技術方案：掩膜版本體工作面上拱，能夠提高掩膜版本體的結構強度，減小掩膜版本體因材料本身剛度、重力和受熱膨脹的下垂量，或避免掩膜版本體下垂，以通過掩膜版本體支撐金屬精細掩膜版，減小金屬精細掩膜版的下垂量或避免金屬精細掩膜版，從而降低顯示屏混色比例和混色風險，提高顯示屏的成品率。掩膜版制作方法，在掩膜版本體的工作面涂覆張應力涂層或在掩膜版本體結構面涂覆壓應力涂層，均可獲得前述的掩膜版本體。掩膜版制作夾具，包括掩膜版邊框裝載框和支撐板，支撐板位于裝載框上端且各側與裝載框對應的側壁連接，可通過支撐板可對掩膜版提供支撐?？赏ㄟ^支撐板可對掩膜版提供支撐?？赏ㄟ^支撐板可對掩膜版提供支撐。

【技術實現步驟摘要】
一種掩膜版、制作方法及制作夾具


[0001]本專利技術涉及顯示設備
，具體涉及一種掩膜版、制作方法及制作夾具。

技術介紹

[0002]金屬精細掩膜版在使用過程中，由于重力和受熱膨脹的原因，存在一定的下垂量(根據掩膜版的尺寸不同下垂量不同，如500μm)，因此，采用支撐掩膜版做支撐，改善掩膜版下垂量，進而將精細金屬掩膜版的下垂量控制在200μm以下，而掩膜版的下垂量越大，造成的混色的比例和風險越高，尤其對高分辨率的產品影響尤為嚴重；此外，在真空腔室蒸鍍時，掩膜版與玻璃產生靜電，可能擊穿蒸鍍的有機材料和背板電路。

技術實現思路

[0003]針對現有的金屬精細掩膜版和公共層掩膜版在工作時，存在較大的下垂量，導致顯示屏次品率高的技術問題及蒸鍍靜電問題；本專利技術提供了一種掩膜版、制作方法及制作夾具，能夠減小金屬精細掩膜版工作時的下垂量和防止靜電擊穿，以降低顯示屏混色比例和混色風險和靜電擊穿風險，提高顯示屏的成品率。
[0004]本專利技術通過以下技術方案實現：
[0005]第一方面，本專利技術提供了一種掩膜版，包括掩膜版本體，所述掩膜版本體的工作面上拱。
[0006]在一可選的實施例中，所述掩膜版本體的工作面覆有張應力涂層。
[0007]在一可選的實施例中，所述張應力涂層中部的厚度大于兩端的厚度。
[0008]在一可選的實施例中，所述張應力涂層為氧化鋁涂層和類金剛石涂層中的一種。
[0009]在一可選的實施例中，所述掩膜版本體的結構面覆有壓應力涂層。/>[0010]在一可選的實施例中，所述壓應力涂層中部的厚度大于兩端的厚度。
[0011]在一可選的實施例中，所述壓應力涂層為氧化鋁涂層和類金剛石涂層中的一種。
[0012]第二方面，本專利技術提供了一種掩膜版制作方法，包括以下步驟：
[0013]S1、獲得掩膜版本體；
[0014]S2、在所述掩膜版本體(工作面涂覆張應力涂層或在所述掩膜版本體結構面涂覆壓應力涂層。
[0015]具體的，步驟S2包括子步驟：
[0016]S21、清洗掩膜版本體；
[0017]S22、將清洗后的掩膜版本體移入涂層設備，并對噴涂腔抽真空、對掩膜版本體加熱；
[0018]S23、清潔掩膜版本體待涂層面；
[0019]S24、對掩膜版本體清潔后的表面涂層；
[0020]S25、掩膜版本體降至室溫后，給噴涂腔充入保護氣。
[0021]第三方面，本專利技術提供了一種掩膜版制作夾具，用于制作前述的掩膜版，包括用于
裝載掩膜版邊框的裝載框，所述裝載框上端設有支撐板，所述支撐板用于支撐掩膜版本體，所述支撐板各側與所述裝載框對應的側壁連接，且所述支撐板到所述裝載框間的投影距離可調。
[0022]本專利技術具有的有益效果：
[0023]1、本專利技術提供的掩膜版，掩膜版本體工作面上拱，能夠提高掩膜版本體的結構強度，可減小掩膜版本體因材料本身剛度、重力和受熱膨脹的下垂量，或避免掩膜版本體下垂，以通過掩膜版本體支撐金屬精細掩膜版，減小金屬精細掩膜版的下垂量，從而降低顯示屏混色比例和混色風險，提高顯示屏的成品率。
[0024]2、本專利技術提供的掩膜版，掩膜版工作面涂層，能夠減小顯示屏蒸鍍時有機材料和背板電路被靜電擊穿的風險，提高顯示屏生產良率。
[0025]3、本專利技術提供的掩膜版制作方法，在掩膜版本體的工作面涂覆張應力涂層或在掩膜版本體結構面涂覆壓應力涂層，均可獲得工作面上拱的掩膜版本體，從而提高支撐板本體的結構強度，減小掩膜版本體因材料本身剛度、重力和受熱膨脹的下垂量，或抵消掩膜版本體因材料本身剛度、重力和受熱膨脹的下垂量。
[0026]4、本專利技術提供的掩膜版制作夾具，包括掩膜版邊框裝載框和支撐板，支撐板位于裝載框上端且各側與裝載框對應的側壁連接，將掩膜版放入掩膜版邊框內時，支撐板可對掩膜版提供支撐。
附圖說明
[0027]為了更清楚地說明本申請實施例的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，應當理解，以下附圖僅示出了本申請的某些實施例，因此不應被看作是對范圍的限定，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他相關的附圖。
[0028]圖1為本專利技術實施例掩膜版結構示意圖；
[0029]圖2為本專利技術實施例掩膜版制作夾具結構示意圖；
[0030]圖3為本專利技術實施例高度調節機構結構示意圖。
[0031]附圖標記：
[0032]1?
掩膜版本體，2
?
裝載框，3
?
掩膜版邊框，31
?
連接件，4
?
高度調節機構，41
?
豎桿，42
?
調節墊塊，43
?
固定螺母，5
?
支撐板。
具體實施方式
[0033]為使本申請實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本申請實施例中的附圖，對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例。通常在此處附圖中描述和示出的本申請實施例的組件可以以各種不同的配置來布置和設計。
[0034]因此，以下對在附圖中提供的本申請的實施例的詳細描述并非旨在限制要求保護的本申請的范圍，而是僅僅表示本申請的選定實施例。基于本申請中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本申請保護的范圍。
[0035]應注意到：相似的標號和字母在下面的附圖中表示類似項，因此，一旦某一項在一個附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對其進行進一步定義和解釋。
[0036]在本申請實施例的描述中，術語“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎向”、“縱向”、“側向”、“水平”、“內”、“外”、“前”、“后”、“頂”、“底”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，或者是該申請產品使用時慣常擺放的方位或位置關系，或者是本領域技術人員慣常理解的方位或位置關系，僅是為了便于描述本申請和簡化描述，而不是指示或暗示所指的設備或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本申請的限制。
[0037]在本專利技術的描述中，除非另有明確的規定和限定，術語“設置”、“開有”、“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本專利技術中的具體含義。
[0038]需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。
[0039]實施例1
[0040]結合附圖1，本實施例提供了一種掩膜版，包括掩膜版本體1，掩膜版本體1的工作面上拱本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種掩膜版，其特征在于，包括掩膜版本體(1)，所述掩膜版本體(1)的工作面上拱。2.根據權利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本體(1)的工作面覆有張應力涂層。3.根據權利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述張應力涂層中部的厚度大于兩端的厚度。4.根據權利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述張應力涂層為氧化鋁涂層和類金剛石涂層中的一種。5.根據權利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本體(1)的結構面覆有壓應力涂層。6.根據權利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述壓應力涂層中部的厚度大于兩端的厚度。7.根據權利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述壓應力涂層為氧化鋁涂層和類金剛石涂層中的一種。8.一種掩膜版制作方法，其特征在于，包括以下步驟：S1、獲得掩膜版本體(1)；S2、在所述掩膜版本體(1)工作面涂覆張應力...

【專利技術屬性】
技術研發人員：劉鑫，鄭慶靚，李博，吳義超，趙陽，周俊吉，
申請(專利權)人：成都拓維高科光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：