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    電子設(shè)備制造技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):33387429 閱讀:26 留言:0更新日期:2022-05-11 23:02
    本實(shí)用新型專利技術(shù)提出一種電子設(shè)備,所述電子設(shè)備包括中框主體、屏幕和金屬邊框,所述金屬邊框環(huán)繞所述中框主體設(shè)置,所述屏幕設(shè)在所述中框主體的第一面上,所述金屬邊框的內(nèi)側(cè)面設(shè)有至少一個(gè)凸起,所述凸起與所述屏幕間隔設(shè)置。本實(shí)用新型專利技術(shù)的電子設(shè)備具有增強(qiáng)邊框強(qiáng)度且不影響天線性能的優(yōu)點(diǎn)。影響天線性能的優(yōu)點(diǎn)。影響天線性能的優(yōu)點(diǎn)。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
    電子設(shè)備


    [0001]本技術(shù)涉及天線設(shè)計(jì)
    ,具體地,涉及一種電子設(shè)備。

    技術(shù)介紹

    [0002]隨著全面屏技術(shù)的普及,屏占比要求越來(lái)越高,則要求側(cè)金屬邊框越來(lái)變窄,金屬邊框變窄會(huì)影響自身強(qiáng)度,需要增加金屬邊框的厚度。
    [0003]相關(guān)技術(shù)中,單臺(tái)設(shè)備中天線的數(shù)量越來(lái)越多,導(dǎo)致規(guī)劃至側(cè)邊框的天線也逐漸增多,需要增加金屬邊框與天線之間的距離,金屬邊框的厚度不能太大,否則會(huì)影響天線性能。因此,相關(guān)技術(shù)中的電子設(shè)備的邊框強(qiáng)度與天線性能之間存在沖突。

    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

    [0004]本技術(shù)旨在至少在一定程度上解決相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)問(wèn)題之一。
    [0005]為此,本技術(shù)的實(shí)施例提出一種電子設(shè)備,該電子設(shè)備具有增強(qiáng)邊框強(qiáng)度且不影響天線性能的優(yōu)點(diǎn)。
    [0006]本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備,包括中框主體、屏幕和金屬邊框,所述金屬邊框環(huán)繞所述中框主體設(shè)置,所述屏幕設(shè)在所述中框主體的第一面上,所述金屬邊框的內(nèi)側(cè)面設(shè)有至少一個(gè)凸起,所述凸起與所述屏幕間隔設(shè)置。
    [0007]本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備的金屬邊框內(nèi)側(cè)設(shè)有凸起,凸起能夠增加金屬邊框的強(qiáng)度,進(jìn)而提高該電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。此外,凸起與屏幕間隔設(shè)置,保證凸起與屏幕之間存在足夠間隙,避免影響天線性能。
    [0008]由此,本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備具有增強(qiáng)邊框強(qiáng)度且不影響天線性能的優(yōu)點(diǎn)
    [0009]在一些實(shí)施例中,所述凸起與所述屏幕的間距大于等于1.9mm。
    [0010]在一些實(shí)施例中,所述凸起包括第一表面,所述第一表面位于所述凸起鄰近所述屏幕的一側(cè),所述第一表面與所述屏幕的距離大于等于1.9mm。
    [0011]在一些實(shí)施例中,所述電子設(shè)備進(jìn)一步包括電池倉(cāng),所述凸起與所述電池倉(cāng)間隔設(shè)置。
    [0012]在一些實(shí)施例中,所述凸起與所述電池倉(cāng)的間距大于等于2mm。
    [0013]在一些實(shí)施例中,所述凸起包括第二表面,所述第二表面位于所述凸起鄰近所述電池倉(cāng)的一側(cè),所述第二表面與所述電池倉(cāng)的外壁面的距離大于等于2mm。
    [0014]在一些實(shí)施例中,所述凸起具有矩形橫截面。
    [0015]在一些實(shí)施例中,所述金屬邊框的內(nèi)側(cè)面設(shè)有一個(gè)凸起,所述凸起環(huán)繞所述中框主體設(shè)置。
    [0016]在一些實(shí)施例中,所述凸起為多個(gè),多個(gè)所述凸起沿所述金屬邊框的周向間隔設(shè)置。
    [0017]在一些實(shí)施例中,所述凸起在所述金屬邊框的周向上的尺寸大于5mm。
    附圖說(shuō)明
    [0018]圖1是本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備局部放大示意圖。
    [0019]圖2是本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備局部放大示意圖。
    [0020]圖3是本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備平面示意圖。
    [0021]圖4是本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備的天線性能受凸起影響的仿真圖。
    [0022]附圖標(biāo)記:
    [0023]中框主體10;電池倉(cāng)11;金屬側(cè)壁111;
    [0024]屏幕20;
    [0025]金屬邊框30;凸起31;第一表面311;第二表面312。
    具體實(shí)施方式
    [0026]下面詳細(xì)描述本技術(shù)的實(shí)施例,所述實(shí)施例的示例在附圖中示出。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的,旨在用于解釋本技術(shù),而不能理解為對(duì)本技術(shù)的限制。
    [0027]下面參考附圖描述本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備。
    [0028]如圖1
    ?
    圖3所示,本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備包括中框主體10、屏幕20和金屬邊框30,金屬邊框30環(huán)繞中框主體10設(shè)置,屏幕20設(shè)在中框主體10的第一面上,金屬邊框30的內(nèi)側(cè)面設(shè)有至少一個(gè)凸起31,凸起31沿金屬邊框30的周向設(shè)置,凸起31與屏幕20在第一方向上間隔開(kāi)。
    [0029]如圖1和圖2所示,中框主體10的第一面為中框主體的下表面,金屬邊框30的內(nèi)側(cè)面(如圖1中金屬邊框30的左側(cè)面)設(shè)有凸起31,凸起31朝向電子設(shè)備的內(nèi)部延伸,凸起31沿金屬邊框30的周向設(shè)置,增加金屬邊框30的強(qiáng)度,從而提高電子設(shè)備整體結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。
    [0030]凸起31與屏幕20在上下方向間隔開(kāi),保證凸起與屏幕之間存在足夠間隙,避免影響天線性能,還可以為電子設(shè)備的內(nèi)部構(gòu)件提供安裝空間。
    [0031]專利技術(shù)人發(fā)現(xiàn),在電子設(shè)備整機(jī)尺寸固定的情況下,屏幕尺寸越大,金屬邊框的邊框厚度越窄,使金屬邊框的強(qiáng)度降低,當(dāng)電子設(shè)備跌落金屬邊框收到?jīng)_擊,容易導(dǎo)致屏幕破碎。增加金屬邊框的邊框厚度,可以提高金屬邊框的強(qiáng)度,但會(huì)導(dǎo)致金屬邊框與屏幕之間的間隙減小,從而影響天線性能。
    [0032]電子設(shè)備需要根據(jù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)要求及天線設(shè)計(jì)要求,在金屬邊框內(nèi)側(cè)設(shè)置凸起,同時(shí)相應(yīng)地改變凸起的大小以及凸起與屏幕之間的配合間隙,進(jìn)而提高本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,且保證天線性能。
    [0033]因此,本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備在金屬邊框30的內(nèi)側(cè)面設(shè)有凸起31,增加了金屬邊框30的強(qiáng)度,進(jìn)而提高該電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,同時(shí)控制凸起31與屏幕20的間隙,進(jìn)而能夠保證天線性能。
    [0034]優(yōu)選地,凸起31與屏幕20的間距大于等于1.9mm,如圖1所示,凸起31與屏幕20在上下方向上的間距大于等于1.9mm。
    [0035]在一些實(shí)施例中,凸起31包括第一表面311,第一表面311位于凸起31鄰近屏幕20的一側(cè),第一表面311與屏幕20的距離大于等于1.9mm。
    [0036]具體地,如圖1所示,凸起31的下表面為第一表面311,凸起31的下表面與屏幕20的
    距離(即圖1中所示的h)大于1.9mm。
    [0037]如圖4所示,線1是相關(guān)技術(shù)中的電子設(shè)備無(wú)凸起的天線輻射性能曲線;線2是本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備有凸起的天線輻射性能曲線,且h等于1.9mm;線3是本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備有凸起的天線輻射性能曲線,且h等于0.5mm。
    [0038]專利技術(shù)人發(fā)現(xiàn),在1G頻段附近,屏幕對(duì)天線性能影響最大。此外,天線性能波動(dòng)范圍在0.5dB以內(nèi)時(shí),則電子設(shè)備的天線性能基本不受影響。
    [0039]可以理解的是,從圖4中1G頻段附近觀察可知,凸起31與屏幕20的距離越小,天線輻射效率降低越快,即,h的值越小天線輻射效率降低越快,而h的值越大,天線輻射效率越接近無(wú)凸起31的天線性能。
    [0040]此外,由圖4可知,h等于0.5mm時(shí),天線性能在1G頻段附近的波動(dòng)大于0.5dB,則影響電子設(shè)備的使用;h等于1.9mm時(shí),天線性能在1G頻段附近的最大波動(dòng)值約為0.5dB。也就是說(shuō),h大于等于1.9mm時(shí),本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備的天線性能受到的影響很小,可以忽略不計(jì)。
    [0041]因此,本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備通過(guò)設(shè)置凸起31增加了金屬邊框30的強(qiáng)度,從而提高該電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,還能保持良好的天線性能。
    [0042]在一些實(shí)施例中,本技術(shù)實(shí)施例的電子設(shè)備進(jìn)一步包括電池倉(cāng)11,凸起31與電池倉(cāng)11間隔設(shè)置,如圖1所示,凸起31與電池倉(cāng)1本文檔來(lái)自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

    【技術(shù)特征摘要】
    1.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括中框主體、屏幕和金屬邊框;所述金屬邊框環(huán)繞所述中框主體設(shè)置,所述屏幕設(shè)在所述中框主體的第一面上;所述金屬邊框的內(nèi)側(cè)面設(shè)有至少一個(gè)凸起,所述凸起與所述屏幕間隔設(shè)置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述凸起與所述屏幕的間距大于等于1.9mm。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述凸起包括第一表面,所述第一表面位于所述凸起鄰近所述屏幕的一側(cè),所述第一表面與所述屏幕的距離大于等于1.9mm。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其特征在于,進(jìn)一步包括電池倉(cāng),所述凸起與所述電池倉(cāng)間隔設(shè)置。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述凸起與所述電池倉(cāng)的間距大于等于2mm。6.根...

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:聶凡
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:北京小米移動(dòng)軟件有限公司
    類型:新型
    國(guó)別省市:

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