一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝制造方法及圖紙

本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)公開(kāi)了一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝，包括溫度控制柜、電阻式溫度反應(yīng)爐、反應(yīng)腔、石英圓片、石墨制具、基座和推拉平臺(tái)；此工藝是國(guó)內(nèi)外石英行業(yè)急需的能夠快速成型石英片的一種工藝，成型后尺寸精度高，表面工藝良好，物理性能突出，不受外部環(huán)境的影響，不僅提升產(chǎn)品合格率也顯著提升產(chǎn)能，而且具有厚度均勻、無(wú)刀花、耐熱耐腐蝕性能強(qiáng)及各規(guī)格石英片均易成型等優(yōu)點(diǎn)。及各規(guī)格石英片均易成型等優(yōu)點(diǎn)。及各規(guī)格石英片均易成型等優(yōu)點(diǎn)。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝


[0001]本專(zhuān)利技術(shù)涉及石英材料成型
，具體是一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝及工藝。

技術(shù)介紹

[0002]隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的不斷發(fā)展，使得半導(dǎo)體及其配套行業(yè)對(duì)各種新型材料的需求日益增加，同時(shí)也對(duì)各新型材料的應(yīng)用提出了挑戰(zhàn)。
[0003]以往石英片成弧形是通過(guò)MC數(shù)控機(jī)床對(duì)石英砣進(jìn)行機(jī)加磨削，然后手工研磨去機(jī)加工后的刀花，成品表面粗糙度差，生產(chǎn)周期長(zhǎng)，合格率低，加工成本不確定等特點(diǎn)。又或者是通過(guò)數(shù)控機(jī)加工石英圓片，然后氫氧焰加熱石英圓片，配合成型制具成型，對(duì)材料消耗大，成型完全由操作者熟練度掌握，石英產(chǎn)品已成為國(guó)內(nèi)外半導(dǎo)體行業(yè)廣泛應(yīng)用的配套產(chǎn)品，而目前市場(chǎng)上所使用的產(chǎn)品存在著使用壽命短、物理性能差、尺寸精度低的缺點(diǎn)。
[0004]因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員提供了一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝，以解決上述
技術(shù)介紹
中提出的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

[0005]本專(zhuān)利技術(shù)的目的在于提供一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝，以解決上述
技術(shù)介紹
中提出的問(wèn)題。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本專(zhuān)利技術(shù)提供如下技術(shù)方案：
[0007]本專(zhuān)利技術(shù)的第一目的在于提供：
[0008]一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝，包括：溫度控制柜、電阻式溫度反應(yīng)爐、反應(yīng)腔、石英圓片、石墨制具、基座和推拉平臺(tái)以及定位器，基座設(shè)置在推拉平臺(tái)上，石墨制具平放在基座，石英圓片通過(guò)定位器平鋪在石墨制具上，反應(yīng)腔設(shè)置在基座上同時(shí)罩住石英圓片和石墨制具。
[0009]石墨制具表面粗糙度控制在幾個(gè)μ級(jí)以?xún)?nèi)。
[0010]所述電阻式溫度反應(yīng)爐用于調(diào)控反應(yīng)腔內(nèi)部溫度，反應(yīng)腔內(nèi)溫度在1200℃
?
1400℃，恒溫100min
?
130min。
[0011]石英圓片成型于高平面度的弧形石墨制具。
[0012]本專(zhuān)利技術(shù)的第二目的在于提供一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型工藝，該工藝包括以下步驟：
[0013]步驟S001，依次設(shè)置按照溫度控制柜、電阻式溫度反應(yīng)爐、反應(yīng)腔、石英圓片、石墨制具、基座和推拉平臺(tái)；
[0014]步驟S002，溫度控制柜調(diào)節(jié)電阻式溫度反應(yīng)爐的腔內(nèi)溫度，由室溫通過(guò)調(diào)節(jié)到恒溫1200℃
?
1400℃，轉(zhuǎn)至步驟S003；
[0015]步驟S003，調(diào)整反應(yīng)腔的真空度，使石英圓片貼合于石墨制具上，保持恒溫狀態(tài)至100min
?
130min之間開(kāi)始自然降溫至室溫；
[0016]步驟S004，石英圓片成型完成。
[0017]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專(zhuān)利技術(shù)的有益效果是：此工藝是國(guó)內(nèi)外石英行業(yè)急需的能夠快速成型石英片的一種工藝，成型后尺寸精度高，表面工藝良好，物理性能突出，不受外部環(huán)境的影響，不僅提升產(chǎn)品合格率也顯著提升產(chǎn)能，而且具有厚度均勻、無(wú)刀花、耐熱耐腐蝕性能強(qiáng)及各規(guī)格石英片均易成型等優(yōu)點(diǎn)。
附圖說(shuō)明
[0018]圖1是本專(zhuān)利技術(shù)所述一種石英片的高溫?zé)岢尚凸に囀疽鈭D。
[0019]圖2是本專(zhuān)利技術(shù)熱成型工藝用重要參數(shù)示意圖。
[0020]圖中：1、溫度控制柜；2、電阻式溫度反應(yīng)爐；3、反應(yīng)腔；4、石英圓片；5、石墨制具；6、基座；7、推拉平臺(tái)。
具體實(shí)施方式
[0021]下面將結(jié)合本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本專(zhuān)利技術(shù)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本專(zhuān)利技術(shù)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本專(zhuān)利技術(shù)保護(hù)的范圍。
[0022]請(qǐng)參閱圖1，本專(zhuān)利技術(shù)實(shí)施例中，一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝，該工藝包括溫度控制柜1、電阻式溫度反應(yīng)爐2、反應(yīng)腔3、石英圓片 4、石墨制具5、基座6和推拉平臺(tái)7，所述推拉平臺(tái)7設(shè)置在可升降電阻式溫度反應(yīng)爐2內(nèi)，基座6設(shè)置在推拉平臺(tái)7上，石墨制具5設(shè)置在基座6上，石英圓片4通過(guò)定位器設(shè)置在石墨制具5上，反應(yīng)腔3設(shè)置在基座6上同時(shí)罩住石英圓片4和石墨制具5，所述溫度控制柜1置于電阻式溫度反應(yīng)爐2外側(cè)；其原理是通過(guò)溫度控制柜1調(diào)整溫度，同時(shí)調(diào)整反應(yīng)腔3的真空度，使石英圓片4貼合于石墨制具5上。
[0023]請(qǐng)參閱圖2，溫度控制柜1調(diào)節(jié)電阻式溫度反應(yīng)爐2的腔內(nèi)溫度，由室溫通過(guò)2調(diào)節(jié)到恒溫1200℃
?
1400℃，通過(guò)調(diào)整反應(yīng)腔3的真空度，使石英圓片 4貼合于石墨制具5上，保持恒溫狀態(tài)至100min
?
130min之間開(kāi)始自然降溫至室溫，石英圓片4成型完成。
[0024]一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型工藝，該工藝包括以下步驟：
[0025]步驟S001，依次設(shè)置按照溫度控制柜1、電阻式溫度反應(yīng)爐2、反應(yīng)腔3、石英圓片4、石墨制具5、基座6和推拉平臺(tái)7；
[0026]步驟S002，溫度控制柜1調(diào)節(jié)電阻式溫度反應(yīng)爐2的腔內(nèi)溫度，由室溫通過(guò)2調(diào)節(jié)到恒溫1200℃
?
1400℃，轉(zhuǎn)至步驟S003；
[0027]步驟S003，調(diào)整反應(yīng)腔3的真空度，使石英圓片4貼合于石墨制具5上，保持恒溫狀態(tài)至100min
?
130min之間開(kāi)始自然降溫至室溫；
[0028]步驟S004，石英圓片4成型完成。
[0029]對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本專(zhuān)利技術(shù)不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本專(zhuān)利技術(shù)的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本專(zhuān)利技術(shù)。因此，無(wú)論從哪一點(diǎn)來(lái)看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本專(zhuān)利技術(shù)的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有
變化囊括在本專(zhuān)利技術(shù)內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0030]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說(shuō)明書(shū)按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說(shuō)明書(shū)的這種敘述方式僅僅是為清楚起見(jiàn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說(shuō)明書(shū)作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
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【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
1.一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝，包括：溫度控制柜(1)、電阻式溫度反應(yīng)爐(2)、反應(yīng)腔(3)、石英圓片(4)、石墨制具(5)、基座(6)和推拉平臺(tái)(7)以及定位器，其特征在于：基座(6)設(shè)置在推拉平臺(tái)(7)上，石墨制具(5)平放在基座(6)，石英圓片(4)通過(guò)定位器平鋪在石墨制具(5)上，反應(yīng)腔(3)設(shè)置在基座(6)上同時(shí)罩住石英圓片(4)和石墨制具(5)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝，其特征在于，石墨制具(5)表面粗糙度控制在幾個(gè)μ級(jí)以?xún)?nèi)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體反應(yīng)爐用石英片的成型裝置及工藝，其特征在于，所述電阻式溫度反應(yīng)爐(2)用于調(diào)控反應(yīng)腔(3)內(nèi)部溫度，反應(yīng)腔(3)內(nèi)溫度在1200℃
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1400℃，恒溫100min
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130min。4...

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：王明波，宋宇州，王兆佳，呂品，魏強(qiáng)，王軍，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：賀利氏信越石英中國(guó)有限公司，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：