描述了一種用于在運(yùn)輸方向(T)上運(yùn)輸載體(10)的磁懸浮系統(tǒng)(100)。所述磁懸浮系統(tǒng)包括：至少一個磁軸承(120)，所述至少一個磁軸承具有帶有U形電磁體的第一致動器(121)，用于將所述載體(10)非接觸地保持在載體運(yùn)輸空間(15)中；以及具有第二致動器(131)的驅(qū)動單元(130)，用于在所述運(yùn)輸方向上移動所述載體(10)。所述第二致動器(131)或所述第二致動器沿所述運(yùn)輸方向(T)的投影部分地被所述U形電磁體包圍。磁體包圍。磁體包圍。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】磁懸浮系統(tǒng)、處理系統(tǒng)和運(yùn)輸載體的方法
[0001]本公開內(nèi)容的實(shí)施方式涉及用于運(yùn)輸載體(特別是在處理大面積基板期間使用的載體)的設(shè)備和方法。更具體地，本公開內(nèi)容的實(shí)施方式涉及用于非接觸地運(yùn)輸載體的設(shè)備和方法，該設(shè)備和方法可在用于豎直基板處理(例如，在大面積基板上沉積材料來進(jìn)行顯示器生產(chǎn))的處理系統(tǒng)中。特別地，本公開內(nèi)容的實(shí)施方式涉及用于在真空處理系統(tǒng)中運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)和方法。
技術(shù)介紹
[0002]用于在基板上進(jìn)行層沉積的技術(shù)包括例如濺射沉積、物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)和熱蒸發(fā)。經(jīng)涂覆基板可用于若干應(yīng)用和若干
中。例如，經(jīng)涂覆基板可用于顯示裝置的領(lǐng)域中。顯示裝置可用于制造電視機(jī)屏幕、計(jì)算機(jī)顯示器、移動電話、其他手持裝置等來顯示信息。典型地，顯示器通過用不同材料的層堆疊物涂覆基板來生產(chǎn)。
[0003]為了沉積層堆疊，可使用直列(in
?
line)處理模塊布置。直列處理系統(tǒng)包括多個后續(xù)處理模塊(諸如沉積模塊)以及任選地另外的處理模塊(諸如清潔模塊和/或蝕刻模塊)，其中處理方面隨后地在處理模塊中進(jìn)行，使得多個基板可在直列處理系統(tǒng)中連續(xù)地或準(zhǔn)連續(xù)地進(jìn)行處理。
[0004]基板可由載體(即，用于承載基板的承載裝置)承載。典型地使用運(yùn)輸系統(tǒng)運(yùn)輸載體通過真空系統(tǒng)。運(yùn)輸系統(tǒng)可被配置為用于沿一個或多個運(yùn)輸路徑輸送其上定位有基板的載體。至少兩個運(yùn)輸路徑可彼此靠近地設(shè)置在真空系統(tǒng)中，例如用于在向前方向上運(yùn)輸載體的第一運(yùn)輸路徑和用于在與向前方向相反的返回方向上運(yùn)輸載體的第二運(yùn)輸路徑。
[0005]顯示裝置的功能性典型地取決于材料的涂覆厚度，該涂覆厚度必須在預(yù)定范圍內(nèi)。為了獲得高分辨率顯示裝置，需要掌握關(guān)于材料沉積的技術(shù)挑戰(zhàn)。特別地，準(zhǔn)確且平穩(wěn)地運(yùn)輸基板載體和/或掩模載體通過真空系統(tǒng)是有挑戰(zhàn)性的。例如，因移動部件的磨損而引起的顆粒產(chǎn)生可能使制造工藝劣化。因此，需要在減少或最小化顆粒產(chǎn)生的情況下在處理系統(tǒng)中運(yùn)輸載體。另外，挑戰(zhàn)是例如以低成本提供用于高溫真空環(huán)境的穩(wěn)健載體運(yùn)輸系統(tǒng)。
[0006]因此，存在克服現(xiàn)有技術(shù)的至少一些問題的用于運(yùn)輸載體的改善的設(shè)備和方法以及提供改善的真空處理系統(tǒng)的持續(xù)需求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
[0007]鑒于上文，提供了根據(jù)獨(dú)立權(quán)利要求的一種用于運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)、一種用于豎直地處理基板的處理系統(tǒng)和一種運(yùn)輸載體的方法。另外的方面、優(yōu)點(diǎn)和特征從從屬權(quán)利要求、描述和附圖中顯而易見。
[0008]根據(jù)本公開內(nèi)容的一方面，提供了一種用于在運(yùn)輸方向上運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)。所述磁懸浮系統(tǒng)包括：至少一個磁軸承，所述至少一個磁軸承具有帶有U形電磁體的第一致動器，用于將所述載體非接觸地保持在載體運(yùn)輸空間中，所述第一致動器布置在所述載體運(yùn)輸空間上方或下方；以及驅(qū)動單元，所述驅(qū)動單元具有第二致動器，用于在所述運(yùn)輸
方向上移動所述載體。所述第二致動器或所述第二致動器沿所述運(yùn)輸方向的投影部分地被所述U形電磁體包圍。
[0009]根據(jù)本公開內(nèi)容的另一方面，提供了一種用于在運(yùn)輸方向上運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)。所述磁懸浮系統(tǒng)包括：至少一個磁軸承，所述至少一個磁軸承具有第一致動器，用于將所述載體非接觸地保持在載體運(yùn)輸空間中；以及驅(qū)動單元，所述驅(qū)動單元具有第二致動器，用于在所述運(yùn)輸方向上移動所述載體。所述第一致動器和所述第二致動器兩者在所述載體運(yùn)輸空間上方居中。替代地，所述第一致動器和所述第二致動器兩者在所述載體運(yùn)輸空間下方居中。特別地，所述載體運(yùn)輸空間的中心平面可與所述第一致動器和所述第二致動器兩者(居中地)相交。
[0010]如本文所使用的“在載體運(yùn)輸空間上方居中”可被理解為意指所述載體的重心G在載體運(yùn)輸期間(即，當(dāng)所述載體在所述第一致動器下方和所述第二致動器下方移動時)布置在所述第一致動器和所述第二致動器兩者下方。
[0011]根據(jù)本公開內(nèi)容的另一方面，提供了一種用于豎直地處理基板的處理系統(tǒng)。所述處理系統(tǒng)包括至少一個真空處理腔室，所述至少一個真空處理腔室包括處理裝置。另外地，所述處理系統(tǒng)包括一個或多個磁懸浮系統(tǒng)，所述一個或多個磁懸浮系統(tǒng)用于在運(yùn)輸方向上運(yùn)輸一個或多個載體。所述一個或多個磁懸浮系統(tǒng)根據(jù)本文描述的磁懸浮系統(tǒng)中的任一者進(jìn)行配置。特別地，所述磁懸浮系統(tǒng)包括：至少一個磁軸承，所述至少一個磁軸承具有帶有U形電磁體的第一致動器，用于將所述載體非接觸地保持在載體運(yùn)輸空間中；以及驅(qū)動單元，所述驅(qū)動單元具有第二致動器，用于在所述運(yùn)輸方向上移動所述載體。所述第二致動器或所述第二致動器沿所述運(yùn)輸方向的投影部分地被所述U形電磁體包圍。
[0012]根據(jù)本文描述的另一方面，提供了一種用于在運(yùn)輸方向上運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)。所述磁懸浮系統(tǒng)包括：至少一個磁軸承，所述至少一個磁軸承具有第一致動器，用于將所述載體非接觸地保持在載體運(yùn)輸空間中；以及驅(qū)動單元，所述驅(qū)動單元具有第二致動器，用于在所述運(yùn)輸方向上移動所述載體。所述第一致動器和所述第二致動器兩者布置在所述載體運(yùn)輸空間上方，或者替代地，布置在所述載體運(yùn)輸空間下方。
[0013]根據(jù)本公開內(nèi)容的另一方面，提供了一種運(yùn)輸載體的方法。所述方法包括使用具有帶有U形電磁體的第一致動器的至少一個磁軸承將所述載體非接觸地保持在載體運(yùn)輸空間中。所述方法進(jìn)一步包括使用具有第二致動器的驅(qū)動單元在所述運(yùn)輸方向上運(yùn)輸所述載體，其中所述第二致動器或所述第二致動器沿所述運(yùn)輸方向的投影部分地被所述U形電磁體包圍。
[0014]根據(jù)本公開內(nèi)容的另一方面，提供了一種運(yùn)輸載體的方法。所述方法包括使用具有第一致動器的至少一個磁軸承將所述載體非接觸地保持在載體運(yùn)輸空間中。所述方法進(jìn)一步包括使用具有第二致動器的驅(qū)動單元在所述運(yùn)輸方向上運(yùn)輸所述載體，其中當(dāng)所述載體在所述第一致動器和所述第二致動器下方移動時，所述第一致動器和所述第二致動器兩者布置在所述載體的重心上方。
[0015]當(dāng)所述第一致動器和所述第二致動器在所述載體的所述重心上方居中時，由所述第一致動器施加的保持力和由所述第二致動器施加的驅(qū)動力兩者可相對于延伸穿過所述載體的所述重心的豎直平面對稱地作用在所述載體上，從而允許平穩(wěn)且穩(wěn)定的載體運(yùn)輸并減少載體振動。
[0016]實(shí)施方式還涉及用于進(jìn)行所公開的方法的設(shè)備并且包括用于執(zhí)行每個描述的方法方面的設(shè)備部件。這些方法方面可借助于硬件部件、由適當(dāng)軟件編程的計(jì)算機(jī)、這兩者的任何組合或以任何其他方式執(zhí)行。此外，根據(jù)本公開內(nèi)容的實(shí)施方式還涉及用于操作所描述的設(shè)備的方法和制造所描述的設(shè)備的方法。用于操作所描述的設(shè)備的方法包括用于進(jìn)行該設(shè)備的每一功能的方法方面。
附圖說明
[0017]為了可詳細(xì)地理解本公開內(nèi)容的上述特征，可參考實(shí)施方式來得到以上簡要地概述的本公開內(nèi)容的更詳細(xì)的描述。附圖涉及本公開內(nèi)容的實(shí)施方式并且描述如下：
[0018]圖1示出了根據(jù)本文描述的實(shí)施方式的磁懸浮系統(tǒng)的示意性截面圖；
[0019]圖2示出了根據(jù)本文描述的實(shí)施方式的用于磁懸浮系統(tǒng)的載體的示意性頂視圖；
[0020]圖3本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】1.一種用于在運(yùn)輸方向(T)上運(yùn)輸載體(10)的磁懸浮系統(tǒng)(100)，包括：至少一個磁軸承(120)，所述至少一個磁軸承具有帶有U形電磁體的第一致動器(121)，用于將所述載體(10)非接觸地保持在載體運(yùn)輸空間(15)中，所述第一致動器(121)布置在所述載體運(yùn)輸空間(15)上方或下方；以及驅(qū)動單元(130)，所述驅(qū)動單元具有第二致動器(131)，用于在所述運(yùn)輸方向上移動所述載體(10)，其中所述第二致動器(131)或所述第二致動器沿所述運(yùn)輸方向(T)的投影部分地被所述U形電磁體包圍。2.如權(quán)利要求1所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述第一致動器(121)和所述第二致動器(131)兩者在所述載體運(yùn)輸空間(15)上方或下方居中，特別地其中，在載體運(yùn)輸期間，所述第一致動器(121)和所述第二致動器居中地布置在所述載體(10)的重心(G)上方。3.如權(quán)利要求1或2所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述U形電磁體在兩個相對的側(cè)向側(cè)上并在頂側(cè)和底側(cè)中的一側(cè)上包圍所述第二致動器(131)或所述第二致動器的所述投影。4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述U形電磁體具有U形芯，所述U形芯的兩個腿圍繞有繞組，所述兩個腿朝向所述載體運(yùn)輸空間(15)定向來在所述載體(10)上施加磁懸浮力、特別是與磁配對件磁性地相互作用，所述磁配對件具有沿所述載體的頂表面或底表面彼此平行地延伸的兩個表面(181)。5.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述磁懸浮系統(tǒng)包括多個磁軸承(120、120'、120”)和多個驅(qū)動單元(130、130')，其中所述多個磁軸承的第一致動器和所述多個驅(qū)動單元的第二致動器在所述運(yùn)輸方向上交替地布置。6.如權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述磁懸浮系統(tǒng)包括多個磁軸承(120、120'、120”)和多個驅(qū)動單元(130、130')，并且所述多個磁軸承的第一致動器和所述多個驅(qū)動單元的第二致動器分別在所述載體運(yùn)輸空間上方居中，特別地是在載體運(yùn)輸期間，在所述載體的重心上方居中。7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述第二致動器(131)是線性馬達(dá)的定子、特別是同步線性馬達(dá)的定子。8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)，其中所述至少一個磁軸承(120)是包括所述U形電磁體的可主動地控制的磁軸承，所述可主動地控制的磁軸承被配置為被主動地控制來維持所述第一致動器(121)與所述載體之間的指定距離。9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的磁懸浮系統(tǒng)(100)，其中所述載體運(yùn)輸空間(15)是具有在豎直方向上延伸的高度H和在側(cè)向方向上延伸的寬度W的豎直載體運(yùn)輸空間，其中高寬比H/W為H/W≥5。10.一種用于在運(yùn)輸方向(T)上運(yùn)輸載體(10)的磁懸浮系統(tǒng)(100)，包括：至少一個磁軸承(120)，所述至少一個磁軸承具有第...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：亨寧，
申請(專利權(quán))人：應(yīng)用材料公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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