光學成像系統技術方案

一種光學成像系統，由物側至像側依次包含第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡以及第六透鏡。第一透鏡至第五透鏡中至少有一個透鏡具有正屈折力。第六透鏡可具有負屈折力，其兩表面皆為非球面，其中第六透鏡的至少一個表面具有反曲點。光學成像系統中具有屈折力的透鏡為第一透鏡至第六透鏡。當滿足特定條件時，該光學成像系統可具備更大的收光以及更佳的光路調節能力，以提升成像質量。以提升成像質量。以提升成像質量。

【技術實現步驟摘要】
光學成像系統


[0001]本技術涉及一種光學成像系統，特別是涉及一種應用于電子產品上的小型化光學成像系統。

技術介紹

[0002]近年來，隨著具有攝影功能的可攜式電子產品的興起，光學系統的需求日漸提高。一般光學系統的感光組件不外乎是感光耦合組件(Charge CoupledDevice；CCD)或互補性氧化金屬半導體元件(Complementary Metal
?
OxideSemiconductor Sensor；CMOS Sensor)兩種，且隨著半導體制程技術的精進，使得感光組件的畫素尺寸縮小，光學系統逐漸往高畫素領域發展，因此對成像質量的要求也日益增加。
[0003]傳統搭載于便攜設備上的光學系統，多采用四片或五片式透鏡結構為主，然而由于便攜設備不斷朝提升畫素并且終端消費者對大光圈的需求例如微光與夜拍功能，目前的光學成像系統已無法滿足更高階的攝影要求。
[0004]因此，如何有效增加光學成像系統的進光量，并進一步提高成像的質量，便成為一個相當重要的議題。

技術實現思路

[0005]本技術實施例的態樣針對一種光學成像系統，能夠利用六個透鏡的屈光力、凸面與凹面的組合(本技術所述凸面或凹面原則上指各透鏡的物側面或像側面距離光軸不同高度的幾何形狀變化的描述)，進而有效提高光學成像系統的進光量，同時提高成像質量，以應用于小型的電子產品上。
[0006]本技術實施例相關的透鏡參數的用語與其代號詳列如下，作為后續描述的參考：
[0007]與長度或高度有關的透鏡參數：
[0008]光學成像系統的最大成像高度以HOI表示；光學成像系統的高度以HOS表示；光學成像系統的第一透鏡的物側面至第六透鏡的像側面間的距離以InTL表示；光學成像系統的固定光欄(光圈)至成像面間的距離以InS表示；光學成像系統的第一透鏡與第二透鏡間的距離以IN12表示(見實施例)；光學成像系統的第一透鏡在光軸上的厚度以TP1表示(見實施例)。
[0009]與材料有關的透鏡參數：
[0010]光學成像系統的第一透鏡的色散系數以NA1表示(見實施例)；第一透鏡的折射率以Nd1表示(見實施例)。
[0011]與視角有關的透鏡參數：
[0012]視角以AF表示；視角(最大可視角度)的一半以HAF表示；主光線角度以 MRA表示。
[0013]與出入瞳有關的透鏡參數：
[0014]光學成像系統的入射瞳直徑以HEP表示；單一透鏡的任一表面的最大有效半徑指
系統最大視角入射光通過入射瞳最邊緣的光線在所述透鏡表面交會點 (Effective Half Diameter；EHD)，所述交會點與光軸之間的垂直高度。例如第一透鏡的物側面的最大有效半徑以EHD11表示，第一透鏡的像側面的最大有效半徑以EHD12表示。第二透鏡的物側面的最大有效半徑以EHD21表示，第二透鏡的像側面的最大有效半徑以EHD22表示。光學成像系統中其余透鏡的任一表面的最大有效半徑表示方式以此類推。
[0015]與透鏡面形深度有關的參數：
[0016]第六透鏡的物側面在光軸上的交點至第六透鏡的物側面的最大有效半徑的終點為止，所述交點和終點間水平于光軸的距離以InRS61表示(最大有效半徑深度)；第六透鏡的像側面在光軸上的交點至第六透鏡的像側面的最大有效半徑的終點為止，所述交點和終點間水平于光軸的距離以InRS62表示(最大有效半徑深度)。其他透鏡物側面或像側面的最大有效半徑的深度(沉陷量)表示方式比照前面所述表示方式。
[0017]與透鏡面型有關的參數：
[0018]臨界點C指特定透鏡表面上，除與光軸的交點外，與光軸相垂直的切面相切的點。承上，例如第五透鏡的物側面的臨界點C51與光軸的垂直距離為 HVT51(見實施例)，第五透鏡的像側面的臨界點C52與光軸的垂直距離為 HVT52(見實施例)，第六透鏡的物側面的臨界點C61與光軸的垂直距離為 HVT61(見實施例)，第六透鏡的像側面的臨界點C62與光軸的垂直距離為 HVT62(見實施例)。其他透鏡的物側面或像側面上的臨界點及其與光軸的垂直距離的表示方式比照前面所述表示方式。
[0019]第六透鏡的物側面上最接近光軸的反曲點為IF611，所述點沉陷量SGI611(見實施例)，SGI611亦即第六透鏡的物側面于光軸上的交點至第六透鏡的物側面最近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離，所述IF611與光軸間的垂直距離為HIF611(見實施例)。第六透鏡的像側面上最接近光軸的反曲點為IF621，所述點沉陷量SGI621(見實施例)，SGI611亦即第六透鏡的像側面于光軸上的交點至第六透鏡的像側面最近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離，所述IF621與光軸間的垂直距離為HIF621(見實施例)。
[0020]第六透鏡的物側面上第二接近光軸的反曲點為IF612，所述點沉陷量 SGI612(見實施例)，SGI612亦即第六透鏡的物側面于光軸上的交點至第六透鏡的物側面第二接近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離，所述IF612 與光軸間的垂直距離為HIF612(見實施例)。第六透鏡的像側面上第二接近光軸的反曲點為IF622，所述點沉陷量SGI622(見實施例)，SGI622亦即第六透鏡的像側面于光軸上的交點至第六透鏡的像側面第二接近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離，所述IF622與光軸間的垂直距離為HIF622(見實施例)。
[0021]第六透鏡的物側面上第三接近光軸的反曲點為IF613，所述點沉陷量 SGI613(見實施例)，SGI613亦即第六透鏡的物側面于光軸上的交點至第六透鏡的物側面第三接近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離，所述IF613 與光軸間的垂直距離為HIF613(見實施例)。第六透鏡的像側面上第三接近光軸的反曲點為IF623，所述點沉陷量SGI623(見實施例)，SGI623亦即第六透鏡的像側面于光軸上的交點至第六透鏡的像側面第三接近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離，所述IF623與光軸間的垂直距離為HIF623(見實施例)。
[0022]第六透鏡的物側面上第四接近光軸的反曲點為IF614，所述點沉陷量 SGI614(見
實施例)，SGI614亦即第六透鏡的物側面于光軸上的交點至第六透鏡的物側面第四接近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離，所述IF614 與光軸間的垂直距離為HIF614(見實施例)。第六透鏡的像側面上第四接近光軸的反曲點為IF624，所述點沉陷量SGI624(見實施例)，SGI624亦即第六透鏡的像側面于光軸上的交點至第六透鏡的像側面第四接近光軸的反曲點之間與光軸平行的水平位移距離，所述IF624與光軸間的垂直距離為HIF624(見實施例)。
[0023]其他透鏡物側面或像側面上的反曲點及其與光軸的垂直距離或其沉陷量的表示方式比照前面所述表示方式。
[0024]與像差有關的參數：
[0025]本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種光學成像系統，其特征在于，由物側至像側依次包含：第一透鏡，具有正屈折力，其物側面在光軸上為凹面；第二透鏡，具有正屈折力；第三透鏡，具有正屈折力；第四透鏡，具有屈折力；第五透鏡，具有屈折力；第六透鏡，具有屈折力；以及成像面；其中，所述光學成像系統具有屈折力的透鏡為六個且所有透鏡的材質為塑料，所述光學成像系統在所述成像面上具有一最大成像高度HOI，所述第一透鏡至所述第六透鏡中至少有一個透鏡具有正屈折力，所述第一透鏡至所述第六透鏡的焦距分別為f1、f2、f3、f4、f5、f6，所述光學成像系統的焦距為f，所述光學成像系統的入射瞳直徑為HEP，所述第一透鏡的物側面至所述成像面在光軸上具有一距離HOS，所述第一透鏡的物側面至所述第六透鏡的像側面在光軸上具有一距離InTL，所述光學成像系統的最大可視角度的一半為HAF，所述第一透鏡至所述第六透鏡在1/2HEP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6，所述ETP1至ETP6的總和為SETP，所述第一透鏡至所述第六透鏡在光軸上的厚度分別為TP1、TP2、TP3、TP4、TP5以及TP6，所述TP1至TP6的總和為STP，其滿足下列條件：1.8≤f/HEP≤2.4；45
°
≤HAF≤55
°
；1.7≤HOS/f≤1.85；以及0.5≤SETP/STP<1。2.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足下列關系式：1.4≤HOS/HOI≤1.7。3.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述第二透鏡的物側面在光軸上為凸面以及像側面在光軸上為凹面。4.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足下列條件：TP5>TP6>TP3>TP2>TP1>TP4。5.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足下列條件：0.27≤TP4/TP5≤0.33。6.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足下列條件：0.7≤TP4/TP2≤0.98。7.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統滿足下列條件：5≤f1/f3≤7。8.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，可見光在所述成像面上的光軸、0.3HOI以及0.7HOI三處在空間頻率55cycles/mm的調制轉換對比轉移率分別用MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示，其滿足下列條件：MTFE0≥0.2；MTFE3≥0.01；以及MTFE7≥0.01。9.如權利要求1所述的光學成像系統，其特征在于，所述光學成像系統在結像時的TV畸變為TDT，所述第一透鏡的物側面上在1/2HEP高度的坐標點至所述第六透鏡的像側面上在1/2HEP高度的坐標點間平行于光軸的水平距離為EIN，其滿足下列公式：0.3≤SETP/EIN<1以及∣TDT∣<2％。10.一種光學成像系統，其特征在于，由物側至像側依次包含：第一透鏡，具有正屈折力，其物側面在光軸上為凹面，其像側面在光軸上為凸面；
第二透鏡，具有正屈折力；第三透鏡，具有正屈折力；第四透鏡，具有屈折力；第五透鏡，具有屈折力；第六透鏡，具有屈折力；以及成像面；其中，所述光學成像系統具有屈折力的透鏡為六個且所有透鏡的材質為塑料，所述光學成像系統在所述成像面上具有一最大成像高度HOI，所述第一透鏡至所述第六透鏡中至少有一個透鏡具有正屈折力，所述第一透鏡至所述第六透鏡的焦距分別為f1、f2、f3、f4、f5、f6，所述光學成像系統的焦距為f，所述光學成像系統的入射瞳直徑為HEP，所述第一透鏡的物側面至所述成像面在光軸上具有一距離HOS，所述第一透鏡的物側面至所述第六透鏡的像側面在光軸上具有一距離InTL，所述光學成像系統的最大可視角度的一半為HAF，所述第一透鏡至所述第六透鏡中任一透鏡的任一表面與光軸的交點為起點，沿著所述表面的輪廓直到所述表面上距離光軸1/2入射瞳直徑的垂直高度處的坐標點為終點，所述起點和終點間的輪廓曲線長度為ARE，其滿足下列條件：1.8≤f/HEP≤2.4；45
°
≤HAF≤55
°
；1.7≤HOS/f≤1.85；以及0.9≤2(ARE/HEP)≤2.0。11.如權利要求10所述的光學成像系統，其特征在于，所述第一透鏡與所述第二透鏡之間在光軸上的距離為IN12，所述第二透鏡與所述第三透鏡之間在光軸上的距離為IN23，所述第三透鏡與所述第四透鏡之間在光軸上的距離為IN34，所述第四透鏡與所述第五透鏡之間在光軸上的距離為IN45，所述第五透鏡與所...

【專利技術屬性】
技術研發人員：張永明，賴建勛，劉燿維，
申請(專利權)人：先進光電科技股份有限公司，
類型：新型
國別省市：