用于測量核孔膜的物理參數的設備和方法技術

本發明專利技術的實施例涉及核徑跡技術領域，尤其涉及一種用于測量核孔膜的物理參數的設備和方法。適用于但不僅限于沿預定方向連續不間斷傳送的核孔膜的測量，可測量核孔膜的物理參數。設備包括：夾持系統，用于夾持核孔膜以將核孔膜的待測部分穩定地保持在測量位置；測量系統，用于在夾持系統將待測部分穩定地保持在測量位置時，測量核孔膜待測部分的物理參數；傳送系統，當待測部分保持在測量位置時，用于使位于設備上游和下游的核孔膜沿原定方向繼續傳送。設備能夠對處于傳送狀態的核孔膜進行測量，即不影響位于設備上下游的核孔膜的傳送，也無需裁剪核孔膜，是一種無損測量設備。是一種無損測量設備。是一種無損測量設備。

【技術實現步驟摘要】
用于測量核孔膜的物理參數的設備和方法


[0001]本專利技術的實施例涉及核徑跡
，尤其涉及一種系統用于測量核孔膜的物理參數的設備和方法。

技術介紹

[0002]核孔膜是應用核技術生產的一種優質微孔膜，其微孔為近似圓柱形的直通孔且孔徑大小均勻一致。它是一種精密過濾和篩分粒子的理想濾膜，過濾機理為篩分過濾，可重復使用，承壓能力強，耐高溫消毒，化學及生物穩定性好，是目前最好的一種精密過濾材料，可廣泛應用于電子、化工、食品加工、生物制藥、醫學、環境監測等領域，應用前景非常廣闊。
[0003]微孔孔徑、微孔密度以及孔隙率是核孔膜的重要產品規格參數，在研制和生產核孔膜過程中需要經常測量這些參數。相關技術中，通常會在需要檢測的大片核孔膜上裁取小片樣品，對裁取到的小片樣品進行測量，以得到樣品的微孔孔徑、微孔密度以及孔隙率，進而得到大片核孔膜的微孔孔徑、微孔密度以及孔隙率。
[0004]然而，在大片核孔膜上裁取小片樣品的方法會對核孔膜產品進行破壞，損壞核孔膜產品的原有形狀和使用性能，是一種有損檢測。

技術實現思路

[0005]本專利技術實施方式提供一種用于測量核孔膜的物理參數的設備和方法。
[0006]本專利技術實施方式的一種用于測量核孔膜的物理參數的設備，核孔膜沿預定方向傳送，用于測量核孔膜的物理參數的設備包括：夾持系統，用于夾持核孔膜以將核孔膜的待測部分保持在測量位置；測量系統，用于在夾持系統將待測部分保持在測量位置時，測量待測部分的物理參數；傳送系統，當待測部分保持在測量位置時，傳送系統用于使位于設備上游和下游的核孔膜沿預定方向繼續傳送。
[0007]本專利技術實施方式的一種用于測量核孔膜的物理參數的方法，包括以下步驟：控制核孔膜的待測部分向靠近測量位置的方向傳送；控制待測部分保持在測量位置，位于設備上游和下游的核孔膜沿預定方向繼續傳送；測量保持在測量位置的核孔膜的待測部分的物理參數；在測量核孔膜的物理參數后，控制待測部分向遠離測量位置的方向傳送。
[0008]本專利技術實施方式的用于測量核孔膜的物理參數的設備中，采用夾持系統將連續移動的核孔膜上待檢測的待測部分在一定時間內穩定停留在測量位置，測量系統可以測量出待測部分的物理參數，保證核孔膜的測量部分在測量位置的穩定性。隨后解除核孔膜的待測部分的停留，使得核孔膜的待測部分繼續移動，經過預定時間后，設備恢復到將待測部分保持在測量位置之前的狀態，并為進行下一個待測部分的測量做好準備。設備能夠對處于傳送狀態的核孔膜進行測量，即不影響位于設備上下游的核孔膜的傳送，也無需裁剪核孔膜的待測部分，是一種無損測量設備。
[0009]本專利技術實施方式的附加方面和優點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本專利技術的實踐了解到。
附圖說明
[0010]本專利技術的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施方式的描述中將變得明顯和容易理解，其中：
[0011]圖1是本專利技術實施方式的用于測量核孔膜的物理參數的設備在核孔膜的待測部分保持在測量位置時的結構性示意圖；
[0012]圖2是本專利技術實施方式的用于測量核孔膜的物理參數的設備在核孔膜的待測部分向測量位置移動時的結構性示意圖；
[0013]圖3是本專利技術實施方式的用于測量核孔膜的物理參數的設備在核孔膜的待測部分離開測量位置移動時的結構性示意圖；
[0014]圖4是本專利技術另一種實施方式的用于測量核孔膜的物理參數的設備在核孔膜的待測部分向測量位置移動時的結構性示意圖；
[0015]圖5是本專利技術另一種實施方式的用于測量核孔膜的物理參數的設備在核孔膜的待測部分保持在測量位置時的結構性示意圖；
[0016]圖6是本專利技術另一種實施方式的用于測量核孔膜的物理參數的設備在核孔膜的待測部分離開測量位置移動時的結構性示意圖。
[0017]主要元件符號說明：
[0018]10、設備；20、核孔膜；
[0019]100、夾持系統；110、固定壓板；120、移動壓板；130、滑臺；
[0020]200、測量系統；210、光束源；220、拍攝組件；221、顯微物鏡；222、攝像頭；
[0021]300、傳送系統；320、移動導輥；321、第一動導輥；322、第二動導輥；330、導輥架；340、導輥架滑軌；
[0022]400、計算機；
[0023]500、轉向系統；510、固定導輥；511、第一定導輥；512、第二定導輥。
具體實施方式
[0024]下面詳細描述本專利技術的實施方式，所述實施方式的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的部件/元件或具有相同或類似功能的部件/元件。下面通過參考附圖描述的實施方式是示例性的，僅用于解釋本專利技術，而不能理解為對本專利技術的限制。
[0025]圖1是本專利技術實施方式的用于測量核孔膜20的物理參數的設備10在核孔膜20的待測部分保持在測量位置時的結構性示意圖。參見圖1，核孔膜20能夠沿預定方向傳送，用于測量核孔膜20的物理參數的設備10包括夾持系統100、測量系統200和傳送系統300。夾持系統100用于夾持核孔膜20以將核孔膜的待測部分保持在測量位置。測量系統200用于在夾持系統100將待測部分保持在測量位置時，測量待測部分的物理參數。當待測部分保持在測量位置時，傳送系統300用于使位于設備10上游和下游的核孔膜20沿預定方向繼續傳送。
[0026]在一些實施例中，物理參數可以為微孔孔徑和/或微孔密度和/或孔隙率。即可以利用本實施例中的設備10測量卷裝核孔膜的微孔孔徑和/或微孔密度和/或孔隙率。在另一些實施例中，可以利用本實施例中的設備10測量核孔膜生產線上的核孔膜產品，用于核孔膜產品質量的在線監測。在其他實施例中，可以利用本實施例中的設備10測量核孔膜復卷
檢測設備10上的核孔膜產品，用于核孔膜產品質量的檢驗。
[0027]進一步地，可以控制待測部分位于測量位置的時間以實現連續定時測量，測量間隔時間可具體進行設定，也可手動通過計算機400發出指令進行單次測量。
[0028]本實施方式的用于測量核孔膜20的物理參數的設備10中，采用夾持系統100將連續移動的核孔膜20上待檢測的待測部分在一定時間內穩定停留在測量位置，測量系統200可以測量出待測部分的物理參數，保證核孔膜20的測量部分在測量位置的穩定性。隨后解除核孔膜20的待測部分的停留，使得核孔膜20的待測部分繼續移動，并可以將下一段待測部分停在測量位置。本實施例進行測量時，利用傳送系統300可以繼續傳送位于設備10上游和下游的核孔膜，進而可以補償核孔膜20的待測部分在一段時間內穩定停留對于位于設備10上游和下游的核孔膜走膜的影響，本設備10能夠對處于傳送狀態的核孔膜20進行測量，即不影響位于設備上下游的核孔膜的傳送，也無需裁剪核孔膜的待測部分，是一種無損測量設備。
[0029]參見圖1至圖3，傳送系統300能夠在第一運動位置和第二運動位置之間移動。
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【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種用于測量核孔膜的物理參數的設備，其特征在于，所述核孔膜能夠沿預定方向傳送，所述設備包括：夾持系統，所述夾持系統用于夾持所述核孔膜以將所述核孔膜的待測部分保持在測量位置；測量系統，所述測量系統用于在所述夾持系統將所述待測部分保持在所述測量位置時，測量所述待測部分的物理參數；傳送系統，當所述待測部分保持在所述測量位置時，所述傳送系統用于使位于所述設備上游和下游的核孔膜沿所述預定方向繼續傳送。2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述傳送系統能夠在第一運動位置和第二運動位置之間移動；其中，當所述待測部分向靠近所述測量位置的方向傳送時，所述傳送系統位于所述第一運動位置；當所述待測部分保持在所述測量位置時，所述傳送系統能夠沿所述預定方向自所述第一運動位置向所述第二運動位置移動，以使位于所述設備上游的核孔膜進入所述設備以及位于所述待測部分下游的部分核孔膜離開所述設備；當所述待測部分向遠離所述測量位置的方向傳送時，所述傳送系統能夠沿與所述預定方向相反的方向自所述第二運動位置向所述第一運動位置移動。3.根據權利要求2所述的設備，其特征在于，所述設備還包括：轉向系統，所述轉向系統用于改變所述待測部分靠近所述測量以及遠離所述測量位置的傳送方向；其中，所述轉向系統包括工作狀態和非工作狀態；當所述轉向系統處于所述工作狀態時，所述轉向系統能夠改變所述待測部分靠近所述測量位置的傳送方向，以將所述待測部分向靠近所述測量位置的方向傳送，以及能夠改變所述待測部分遠離所述測量位置的傳送方向，以將所述待測部分向遠離所述測量位置的方向傳送；當所述轉向系統處于所述非工作狀態時，所述待測部分保持在所述測量位置。4.根據權利要求3所述的設備，其特征在于，所述轉向系統包括：固定導輥，所述核孔膜設置于所述固定導輥；其中，當所述轉向系統處于所述工作狀態時，所述固定導輥能夠轉動以傳送所述核孔膜；當所述轉向系統處于所述非工作狀態時，所述固定導輥停止轉動以使所述待測部分保持在所述測量位置。5.根據權利要求4所述的設備，其特征在于，所述固定導輥包括第一定導輥和第二定導輥，所述第二定導輥、所述夾持系統和所述第一定導輥沿所述待測部分的傳送方向依次設置。6.根據權利要求4所述的設備，其特征在于，所述傳送系統包括：導輥架，所述導輥架能夠在第一運動位置和第二運動位置之間移動；移動導輥，所述核孔膜設置于所述移動導輥，所述移動導輥能夠轉動以傳送所述核孔膜；
其中，所述移動導輥設置于所述導輥架，所述移動導輥能夠隨著所述導輥架的移動而移動；當所述待測部分向靠近所述測量位置的方向傳送時，所述導輥架位于所述第一運動位置；當所述待測部分保持在所述測量位置時，所述導輥架能夠沿所述預定方向自所述第一運動位置向所述第二運動位置移動；當所述待測部分向遠離所述測量位置的方向傳送時，所述導輥架能夠沿與所述預定方向相反的方向自所述第二運動位置向所述第一運動位置移動。7.根據權利要求6所述的設備，其特征在于，所述移動導輥包括第一動導輥和第二動導輥，所述第二動導輥、所述固定導輥和所述第一動導輥沿所述待測部分的傳送方向依次設置。8.根據權利要求6所述的設備，其特征在于，所述設備還包括：導輥架滑軌，所述導輥架設置于所述導輥架滑軌，所述導輥架能夠在所述導輥架滑軌移動。9.根據權利要求6所述的設備，其特征在于，所述設備還包括：耦合至所述導輥架的計算機，所述計算機被布置用于控制所述導輥架的移動。10.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述夾持系統包括：固定壓板；移動壓板，所述移動壓板與所述固定壓板相對設置，所述移動壓板與所述固定壓板之間形成有...

【專利技術屬性】
技術研發人員：吳振東，鞠薇，焦學勝，黃青華，
申請(專利權)人：瑞昌核物理應用研究院，
類型：發明
國別省市：