框架一體型掩模的制造方法技術

本發明專利技術涉及框架一體型掩模的制造方法。根據本發明專利技術的框架一體型掩模的制造方法，該框架一體型掩模由至少一個掩模及用于支撐掩模的框架一體形成，該方法包括以下步驟：(a)準備模板上粘合有掩模的掩模支撐模板；(b)在設置有至少一個掩模單元區域的框架上承載模板，以使掩模對應至框架的掩模單元區域；以及(c)將掩模附著到框架，在步驟(b)中，在框架的至少兩側向內側方向施加反作用力。向內側方向施加反作用力。向內側方向施加反作用力。

【技術實現步驟摘要】
框架一體型掩模的制造方法


[0001]本專利技術涉及框架一體型掩模的制造方法。更具體地，涉及一種可使掩模不發生變形且穩定地得到支撐并移動，而且能夠準確地對準(align)各掩模的框架一體型掩模的制造方法。

技術介紹

[0002]作為OLED制造工藝中形成像素的技術，主要使用FMM(Fine Metal Mask，精細金屬掩模)方法，該方法將薄膜形式的金屬掩模(Shadow Mask，陰影掩模)緊貼到基板且在所需位置上沉積有機物。
[0003]在現有的OLED制造工藝中，將掩模制造成條狀、板狀等后，將掩模焊接固定到OLED像素沉積框架上并使用。一個掩模上可以具有與一個顯示器對應的多個單元。另外，為了制造大面積OLED，可將多個掩模固定于OLED像素沉積框架，在固定于框架的過程中，拉伸各個掩模，以使其變得平坦。調節拉伸力以使掩模的整體部分變得平坦是非常困難的作業。尤其，為了一邊使各單元都平坦且一邊對準尺寸為數微米～數十微米的掩模圖案，需要進行如下高難度作業：一邊細微地調節施加于掩模各側的拉伸力，一邊實時地確認對準狀態。
[0004]盡管如此，在將多個掩模固定于一個框架的過程中，仍然存在掩模之間及掩模單元之間對準不好的問題。另外，在將掩模焊接固定于框架的過程中，掩模膜的厚度過薄且面積大，因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的問題；由于焊接過程中在焊接部分產生的皺紋、毛刺(burr)等導致掩模單元的對準不準的問題等。
[0005]在超高畫質的OLED中，現有QHD畫質為500～600PPI(pixel per inch，每英寸像素)，像素的尺寸達到約30～50μm，而4KUHD、8KUHD高畫質具有比其更高的～860PPI、～1600PPI等的分辨率。考慮到超高畫質的OLED的像素尺寸，需要將各單元之間的對準誤差縮減為數μm左右，超出這一誤差將導致產品的不良，所以收率可能極低。因此，需要開發能夠防止掩模的下垂或者扭曲等變形并使對準精確的技術以及將掩模固定于框架的技術等。

技術實現思路

[0006]技術問題
[0007]因此，本專利技術為了解決如上所述的現有技術的各種問題而提出，其目的在于提供一種可使掩模不發生變形且穩定地得到支撐并移動，而且可防止掩模發生下垂或者扭曲等變形，并可準確地對準的框架一體型掩模的制造方法。
[0008]此外，本專利技術的目的在于提供一種即便不改變施加于框架的反作用力或不改變施加于掩模的拉伸力也能夠在框架上附著掩模的框架一體型掩模的制造方法。
[0009]此外，本專利技術的目的在于提供一種可明顯縮短制造時間并顯著提高收率的框架一體型掩模的制造方法。
[0010]技術方案
[0011]本專利技術的上述目的通過框架一體型掩模的制造方法來實現，該方法包括以下步
驟：(a)準備模板上粘合有掩模的掩模支撐模板；(b)在設置有至少一個掩模單元區域的框架上承載模板，以使掩模對應至框架的掩模單元區域；以及(c)將掩模附著到框架上，在步驟(b)中，在框架的至少兩側向內側方向施加反作用力。
[0012]框架可具有沿著第一方向及垂直于第一方向的第二方向設置的多個掩模單元區域。
[0013]框架可具有邊緣框架部及掩模單元片材部，所述邊緣框架部包括中空區域，所述掩模單元片材部具有多個掩模單元區域且與邊緣框架部連接，掩模單元片材部包括：邊緣片材部；至少一個第一柵格片材部，其沿著第一方向延伸形成，兩端連接于邊緣片材部；以及至少一個第二柵格片材部，其沿著垂直于第一方向的第二方向延伸形成且與第一柵格片材部交叉，兩端連接于邊緣片材部。
[0014]通過反復執行步驟(b)至步驟(c)，在各掩模單元區域上分別附著掩模，并可施加反作用力直至所有掩模附著到掩模單元區域為止。
[0015]反作用力可保持相同的強度。
[0016]首先在以第一方向或者第二方向為基準的中間掩模單元區域線上附著掩模，然后可在與中間掩模單元區域線相鄰的掩模單元區域線上附著掩模。
[0017]在步驟(a)中，掩模支撐模板可包括：模板；臨時粘合部，其形成于模板上；以及掩模，其形成有掩模圖案且通過中間夾設臨時粘合部使所述掩膜粘合到模板上。
[0018]掩模能夠以向側面方向施加拉伸力的狀態粘合在模板上。
[0019]掩模支撐模板可通過以下步驟制造：(a)準備形成有多個掩模圖案的掩模；(b)準備一面形成有臨時粘合部的模板；以及(c)將掩模以朝側面方向施加拉伸力的狀態粘合到模板上。
[0020]掩模支撐模板可通過以下步驟制造：(a)準備掩模金屬膜；(b)準備一面形成有臨時粘合部的模板；(c)將掩模金屬膜以朝側面方向施加拉伸力的狀粘合到模板上；以及(d)通過在掩模金屬膜形成多個圖案來制造掩模。
[0021]臨時粘合部可以為基于加熱可分離的粘合劑、基于UV照射可分離的粘合劑。
[0022]臨時粘合部可以是液蠟(liquid wax)。
[0023]在步驟(b)中，無需在掩模上施加拉伸力，可以僅通過控制模板的位置將模板上的掩模對應到掩模單元區域。
[0024]可進一步包括步驟(d)，將掩模與模板進行分離。
[0025]可步驟(d)通過對掩模與模板之間的臨時粘合部進行加熱、化學處理、施加超聲波、施加UV中的至少任意一個來減弱臨時粘合部的粘合力，從而將掩模與模板進行分離。
[0026]可進一步包括步驟(e)，解除反作用力的施加。
[0027]因模板從掩模分離導致掩模施加在框架上的張力與因施加的反作用力的解除導致框架朝外側方向的恢復力之間形成平衡，從而能夠保持掩模與框架的位置對準。
[0028]有益效果
[0029]根據具有上述結構的本專利技術，具有可使掩模不發生變形且穩定地得到支撐并移動，而且可防止掩模發生下垂或者扭曲等變形并可準確地對準的效果。
[0030]此外，根據本專利技術，具有在不改變施加于框架的反作用或者施加于掩模的拉伸力的情況下，也能夠在框架上附著掩模的效果。
[0031]另外，本專利技術具有能夠明顯縮短制造時間并顯著提高收率的效果。
附圖說明
[0032]圖1是現有的將掩模附著到框架的過程的示意圖。
[0033]圖2是根據本專利技術一實施例的框架一體型掩模的主視圖及側截面圖。
[0034]圖3是根據本專利技術一實施例的掩模的示意圖。
[0035]圖4是根據本專利技術一實施例的模板上粘合有掩模的掩模支撐模板的示意圖。
[0036]圖5是根據本專利技術的一實施例的將模板裝載到框架上并將掩模對應到框架的單元區域的狀態的示意圖。
[0037]圖6是根據本專利技術的一實施例的將掩模附著到框架上之后使掩模和模板分離的過程的示意圖。
[0038]圖7是根據本專利技術一實施例的將掩模附著到框架的單元區域的狀態的示意圖。
[0039]圖8和圖9是根據比較例的在框架上附著掩模的過程的示意圖。
[0040]圖10和圖11是根據本專利技術一實施例的在框架上附著掩模的過程的示意本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種框架一體型掩模的制造方法，該框架一體型掩模由至少一個掩模及用于支撐掩模的框架一體形成，該方法包括以下步驟：(a)準備模板上粘合有掩模的掩模支撐模板；(b)在設置有至少一個掩模單元區域的框架上承載模板，以使掩模對應至框架的掩模單元區域；以及(c)將掩模附著到框架上，在步驟(b)中，在框架的至少兩側向內側方向施加反作用力。2.如權利要求1所述的框架一體型掩模的制造方法，其特征在于，框架具有沿著第一方向及垂直于第一方向的第二方向設置的多個掩模單元區域。3.如權利要求1所述的框架一體型掩模的制造方法，其特征在于，框架具有邊緣框架部及掩模單元片材部，所述邊緣框架部包括中空區域，所述掩模單元片材部具有多個掩模單元區域且與邊緣框架部連接，掩模單元片材部包括：邊緣片材部；至少一個第一柵格片材部，其沿著第一方向延伸形成，兩端連接于邊緣片材部；以及至少一個第二柵格片材部，其沿著垂直于第一方向的第二方向延伸形成且與第一柵格片材部交叉，兩端連接于邊緣片材部。4.如權利要求2所述的框架一體型掩模的制造方法，其特征在于，通過反復執行步驟(b)至步驟(c)，在各掩模單元區域上分別附著掩模，并施加反作用力直至所有掩模附著到掩模單元區域為止。5.如權利要求4所述的框架一體型掩模的制造方法，其特征在于，反作用力保持相同的強度。6.如權利要求4所述的框架一體型掩模的制造方法，其特征在于，首先在以第一方向或者第二方向為基準的中間掩模單元區域線上附著掩模，然后在與中間掩模單元區域線相鄰的掩模單元區域線上附著掩模。7.如權利要求1所述的框架一體型掩模的制造方法，其特征在于，在步驟(a)中，掩模支撐模板包括：模板；臨時粘合部，其形成于模板上；以及掩模，其形成有掩模圖案且通過中間夾設臨時粘合部使所述掩膜粘合到模板上。8.如權利要求7所述的框架一體型掩模的制造方法，其特...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李炳一，
申請(專利權)人：悟勞茂材料公司，
類型：發明
國別省市：