成膜裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術提供提高基板的吸附度的測定精度的成膜裝置。成膜裝置具備：腔室，將內部保持為真空；吸附板，設置在腔室的內部，用于吸附基板；檢測部件，在鉛垂方向上配置在吸附板的下方，檢測基板向吸附板的吸附的程度；以及移動部件，使檢測部件在沿著基板的被成膜面的第一方向上移動。方向上移動。方向上移動。

【技術實現步驟摘要】
成膜裝置


[0001]本專利技術涉及成膜裝置。

技術介紹

[0002]在有機EL顯示器等的制造中，使用掩模在基板上成膜蒸鍍物質。作為成膜的前處理，進行掩模與基板的對準，使兩者重合。在專利文獻1中公開了在使基板吸附在靜電卡盤等吸附板上的狀態下，使基板和掩模接近而進行對準的技術。另外，公開了用于檢測基板的吸附狀態的檢測部件。
[0003]在先技術文件
[0004]專利文獻
[0005]專利文獻1：日本特開2019
?
117926號公報
[0006]在現有技術中，檢測部件的配置場所是固定的。因此，有可能限制測定基板的吸附狀態的場所。其結果，有可能降低基板的吸附度的測定精度。

技術實現思路

[0007]本專利技術是鑒于上述課題而完成的，其目的在于提高基板的吸附度的測定精度。
[0008]用于解決課題的方案
[0009]本專利技術采用以下的結構。即，
[0010]一種成膜裝置，其特征在于，
[0011]該成膜裝置具備：
[0012]腔室，將內部保持為真空；
[0013]吸附板，設置在所述腔室的內部，用于吸附基板；
[0014]檢測部件，在鉛垂方向上配置在所述吸附板的下方，檢測所述基板向所述吸附板的吸附的程度；以及
[0015]移動部件，使所述檢測部件在沿著所述基板的被成膜面的第一方向上移動。
[0016]此外，本專利技術采用以下的結構。即，
[0017]一種成膜裝置，其特征在于，r/>[0018]該成膜裝置具備：
[0019]腔室，將內部保持為真空；
[0020]吸附板，設置在所述腔室的內部，用于吸附基板；
[0021]掩模支承部件，設置在所述腔室的內部，支承掩模；
[0022]對準部件，進行吸附在所述吸附板上的所述基板與所述掩模的對準；
[0023]檢測部件，配置在所述吸附板的鉛垂方向的下側，檢測所述掩模向所述基板的貼緊的程度；以及
[0024]移動部件，使所述檢測部件在沿著所述基板的被成膜面的方向上移動。
[0025]專利技術的效果
[0026]根據本專利技術，能夠提高基板的吸附度的測定精度。
附圖說明
[0027]圖1是電子器件的生產線的一部分的示意圖。
[0028]圖2是一實施方式的成膜裝置的概略圖。
[0029]圖3是基板支承單元及吸附板的說明圖。
[0030]圖4是吸附板的電氣配線的說明圖。
[0031]圖5是測量單元的說明圖。
[0032]圖6是調整單元的說明圖。
[0033]圖7是使用了吸附板的基板與掩模的重合的工藝的說明圖。
[0034]圖8是表示檢測部件的結構的概略圖。
[0035]圖9是表示基于檢測部件的檢測的情形的概略圖。
[0036]圖10是表示基于檢測部件的檢測的另一例的概略圖。
[0037]圖11是表示檢測部件的掃描的另一例的俯視圖。
[0038]圖12是表示電子器件的生產線的另一例的示意圖。
[0039]圖13是表示傳感器單元的結構的概略圖。
[0040]圖14是用于說明電子器件的制造方法的圖。
[0041]附圖標記的說明
[0042]2：對準裝置、3：真空腔室、14：控制裝置、15：吸附板、100：基板、101：掩模、204：移動機構、236：距離傳感器。
具體實施方式
[0043]以下，參照附圖詳細說明實施方式。另外，以下的實施方式并不限定權利要求書所涉及的專利技術。雖然在實施方式中記載了多個特征，但這些多個特征并不全部限定于專利技術所必需的特征，另外，也可以任意地組合多個特征。并且，在附圖中，對相同或同樣的結構標注相同的附圖標記，省略重復的說明。
[0044][電子器件的生產線][0045]圖1是表示能夠應用本專利技術的成膜裝置的電子器件的生產線的結構的一部分的示意圖。圖1的生產線例如用于制造智能手機用的有機EL顯示裝置的顯示面板，將基板100依次搬送到成膜塊301，在基板100上進行有機EL的成膜。
[0046]在成膜塊301中，在俯視下具有八邊形形狀的搬送室302的周圍配置有對基板100進行成膜處理的多個成膜室303a～303d、和收納使用前后的掩模的掩模容納室305。在搬送室302中配置有搬送基板100的搬送機器人302a。搬送機器人302a包括保持基板100的手和使手在水平方向上移動的多關節臂。換言之，成膜塊301是以包圍搬送機器人302a的周圍的方式配置有多個成膜室303a～303d的集群型的成膜單元。此外，在統稱成膜室303a～303d的情況下或者在不進行區別的情況下，標記為成膜室303。
[0047]在基板100的搬送方向(箭頭方向)上，在成膜塊301的上游側、下游側分別配置有緩沖室306、回旋室307、交接室308。在制造過程中，各室維持為真空狀態。另外，圖1中僅圖示了一個成膜塊301，但本實施方式的生產線具有多個成膜塊301，多個成膜塊301具有通過
由緩沖室306、回旋室307、交接室308構成的連結裝置連結的結構。另外，連結裝置的結構不限定于此，例如也可以僅由緩沖室306或交接室308構成。
[0048]搬送機器人302a進行從上游側的交接室308向搬送室302的基板100的搬入、成膜室303間的基板100的搬送、掩模容納室305與成膜室303之間的掩模的搬送以及從搬送室302向下游側的緩沖室306的基板100的搬出。
[0049]緩沖室306是用于根據生產線的工作狀況暫時容納基板100的室。在緩沖室306中設置有也被稱為盒體的基板收納架和升降機構。基板收納架具有能夠在保持基板100的被處理面(被成膜面)朝向重力方向下方的水平狀態的狀態下收納多張基板100的多層構造。升降機構為了使搬入或搬出基板100的層與搬送位置一致，使基板收納架升降。由此，能夠在緩沖室306中暫時收容多個基板100并使其滯留。
[0050]回旋室307具備改變基板100的朝向的裝置。在本實施方式中，回旋室307通過設置在回旋室307的搬送機器人使基板100的朝向旋轉180度。設置在回旋室307的搬送機器人在支承著在緩沖室306接收到的基板100的狀態下回旋180度并交接到交接室308，由此在緩沖室306內和交接室308調換基板的前端和后端。因此，在各成膜塊301中，將基板100搬入成膜室303時的朝向成為相同的朝向，因此，能夠在各成膜塊301中使相對于基板S的成膜的掃描方向、掩模的朝向一致。通過采用這樣的結構，能夠在各成膜塊301中使在掩模容納室305設置掩模的朝向一致，能夠使掩模的管理簡化，提高可用性。
[0051]生產線的控制系統包括作為主計算機控制整個生產線的上位裝置300和控制各結構的控制裝置14a～14d、309、310，它們能夠經由有線或無線的通信線路300a進行通信。控制裝置14a～14d與成膜室303a～303d對應設置，控制本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種成膜裝置，其特征在于，該成膜裝置具備：腔室，將內部保持為真空；吸附板，設置在所述腔室的內部，用于吸附基板；檢測部件，在鉛垂方向上配置在所述吸附板的下方，檢測所述基板向所述吸附板的吸附的程度；以及移動部件，使所述檢測部件在沿著所述基板的被成膜面的第一方向上移動。2.根據權利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，該成膜裝置還具備：掩模支承部件，設置在所述腔室的內部，支承掩模；以及對準部件，進行吸附在所述吸附板上的所述基板與掩模的對準，所述檢測部件檢測所述基板及所述掩模向所述吸附板的吸附的程度。3.一種成膜裝置，其特征在于，該成膜裝置具備：腔室，將內部保持為真空；吸附板，設置在所述腔室的內部，用于吸附基板；掩模支承部件，設置在所述腔室的內部，支承掩模；對準部件，進行吸附在所述吸附板上的所述基板與所述掩模的對準；檢測部件，配置在所述吸附板的鉛垂方向的下側，檢測所述掩模向所述基板的貼緊的程度；以及...

【專利技術屬性】
技術研發人員：河合慈，高橋宣之，富井廣樹，櫻井克榮，
申請(專利權)人：佳能特機株式會社，
類型：發明
國別省市：