蒸鍍掩模、帶框架的蒸鍍掩模、有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法及有機(jī)EL顯示器的制造方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)的蒸鍍掩模將具有與蒸鍍制作的彎曲對(duì)應(yīng)的多個(gè)樹(shù)脂掩模開(kāi)口部的樹(shù)脂掩模和具有金屬掩模開(kāi)口部的金屬掩模以樹(shù)脂掩模開(kāi)口部與金屬掩模開(kāi)口部重合的方式層疊而成，金屬掩模在樹(shù)脂掩模的不與樹(shù)脂掩模開(kāi)口部重合的位置具有部分降低金屬掩模的剛性的1個(gè)或多個(gè)剛性調(diào)整部。剛性調(diào)整部。剛性調(diào)整部。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
蒸鍍掩模、帶框架的蒸鍍掩模、有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法及有機(jī)EL顯示器的制造方法
[0001]本申請(qǐng)是申請(qǐng)日為2017年5月23日、申請(qǐng)?zhí)枮?01780030895.5的中國(guó) 專利技術(shù)申請(qǐng)“蒸鍍掩模、帶框架的蒸鍍掩模、有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法、及有 機(jī)EL顯示器的制造方法”的分案申請(qǐng)。


[0002]本公開(kāi)的實(shí)施方式涉及蒸鍍掩模、帶框架的蒸鍍掩模、有機(jī)半導(dǎo)體元件 的制造方法、及有機(jī)EL顯示器的制造方法。

技術(shù)介紹

[0003]使用了蒸鍍掩模的蒸鍍圖案的形成通常通過(guò)下述方法進(jìn)行：將設(shè)置有與 待蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口部的蒸鍍掩模和蒸鍍對(duì)象物密合，使從蒸鍍 源放出的蒸鍍材料通過(guò)開(kāi)口部，使其附著于蒸鍍對(duì)象物而進(jìn)行。
[0004]作為在上述蒸鍍圖案的形成中使用的蒸鍍掩模，已知有例如：將具有與 待蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的樹(shù)脂掩模開(kāi)口部的樹(shù)脂掩模和具有金屬掩模開(kāi)口 部(有時(shí)也稱為縫隙)的金屬掩模層疊而成的蒸鍍掩模(例如，專利文獻(xiàn)1)等。
[0005]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)1：日本專利第5288072號(hào)公報(bào)
[0008]專利文獻(xiàn)2：日本特開(kāi)2014
?
125671號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

[0009]專利技術(shù)所要解決的問(wèn)題
[0010]本公開(kāi)的實(shí)施方式的主要課題在于，提供一種在將樹(shù)脂掩模和金屬掩模 層疊而成的蒸鍍掩模、將該蒸鍍掩模固定于框架而成的帶框架的蒸鍍掩模中， 能形成更為高精細(xì)的蒸鍍圖案的蒸鍍掩模、帶框架的蒸鍍掩模，另外，提供 一種能以高精度制造有機(jī)半導(dǎo)體元件的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法、能以高 精度制造有機(jī)EL顯示器的有機(jī)EL顯示器的制造方法。
[0011]解決問(wèn)題的方法
[0012]本公開(kāi)的一實(shí)施方式的蒸鍍掩模將具有與待蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的 多個(gè)樹(shù)脂掩模開(kāi)口部的樹(shù)脂掩模和具有金屬掩模開(kāi)口部的金屬掩模以上述樹(shù) 脂掩模開(kāi)口部與上述金屬掩模開(kāi)口部重合的方式層疊而成，上述金屬掩模在 上述樹(shù)脂掩模的不與上述樹(shù)脂掩模開(kāi)口部重合的位置上具有部分降低上述金 屬掩模的剛性的1個(gè)或多個(gè)剛性調(diào)整部。
[0013]另外，上述剛性調(diào)整部可以是貫通上述金屬掩模的貫通孔、或設(shè)置于金 屬掩模的凹部。
[0014]另外，將從該金屬掩模側(cè)俯視假設(shè)不具有上述剛性調(diào)整部的上述金屬掩 模時(shí)金
屬掩模有效區(qū)域的面積設(shè)為100％時(shí)，從上述金屬掩模側(cè)俯視上述蒸 鍍掩模時(shí)上述剛性調(diào)整部的開(kāi)口區(qū)域的面積的總和可以為3％以上。
[0015]另外，1個(gè)上述剛性調(diào)整部的開(kāi)口面積可以設(shè)為小于1個(gè)上述金屬掩模 開(kāi)口部的開(kāi)口面積。另外，1個(gè)上述剛性調(diào)整部的開(kāi)口寬度可以設(shè)為小于1 個(gè)上述金屬掩模開(kāi)口部的開(kāi)口寬度。
[0016]另外，從上述金屬掩模側(cè)俯視上述蒸鍍掩模時(shí)，上述剛性調(diào)整部可以位 于包圍上述金屬掩模開(kāi)口部的位置。
[0017]另外，上述金屬掩模開(kāi)口部存在多個(gè)，從上述金屬掩模側(cè)俯視上述蒸鍍 掩模時(shí)，上述剛性調(diào)整部可以位于鄰接的上述金屬掩模開(kāi)口部間任意位置。
[0018]另外，上述金屬掩模的厚度可以為5μm以上且35μm以下的范圍內(nèi)。另 外，上述金屬掩模的截面形狀可以為向蒸鍍?cè)磦?cè)擴(kuò)大的形狀。
[0019]另外，上述樹(shù)脂掩模的厚度可以為3μm以上且小于10μm的范圍內(nèi)。另 外，上述樹(shù)脂掩模的截面形狀可以為向蒸鍍?cè)磦?cè)擴(kuò)大的形狀。另外，上述樹(shù) 脂掩模的截面形狀可以為向外凸的彎曲形狀。
[0020]另外，上述金屬掩模開(kāi)口部的開(kāi)口空間可以通過(guò)橋分區(qū)。
[0021]另外，本公開(kāi)的一實(shí)施方式的蒸鍍掩模將具有與待蒸鍍制作的圖案相對(duì) 應(yīng)的多個(gè)樹(shù)脂掩模開(kāi)口部的樹(shù)脂掩模和具有金屬掩模開(kāi)口部的金屬掩模以上 述樹(shù)脂掩模開(kāi)口部與上述金屬掩模開(kāi)口部重合的方式層疊而成，上述金屬掩 模在上述樹(shù)脂掩模的不與上述樹(shù)脂掩模開(kāi)口部重合的位置具有部分提高上述 金屬掩模的剛性的1個(gè)或多個(gè)剛性調(diào)整部，上述剛性調(diào)整部是設(shè)置于上述金 屬掩模的不與上述樹(shù)脂掩模相接側(cè)的面上的金屬加強(qiáng)物。
[0022]另外，本公開(kāi)的一實(shí)施方式的帶框架的蒸鍍掩模在框架上固定有上述的 蒸鍍掩模而成。另外，也可以在上述框架上固定多個(gè)上述蒸鍍掩模。
[0023]另外，本公開(kāi)的一實(shí)施方式的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法包括使用蒸鍍 掩模在蒸鍍對(duì)象物上形成蒸鍍圖案的蒸鍍圖案形成工序，在上述蒸鍍圖案形 成工序中使用的上述蒸鍍掩模為上述的蒸鍍掩模。
[0024]另外，本公開(kāi)的一實(shí)施方式的有機(jī)EL顯示器的制造方法使用通過(guò)上述 的制造方法制造的有機(jī)半導(dǎo)體元件。
[0025]專利技術(shù)的效果
[0026]根據(jù)本公開(kāi)的蒸鍍掩模、帶框架的蒸鍍掩模，可以形成高精細(xì)的蒸鍍圖 案。另外，根據(jù)本公開(kāi)的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，能以高精度制造有機(jī) 半導(dǎo)體元件。另外，根據(jù)本公開(kāi)的有機(jī)EL顯示器的制造方法，能以高精度 制造有機(jī)EL顯示器。
附圖說(shuō)明
[0027]圖1(a)是示出本公開(kāi)的實(shí)施方式的蒸鍍掩模的一例的概要剖面圖，(b)是 示出從金屬掩模側(cè)俯視本公開(kāi)的實(shí)施方式的蒸鍍掩模時(shí)的一例的正面圖。
[0028]圖2是示出從金屬掩模側(cè)俯視本公開(kāi)的實(shí)施方式的蒸鍍掩模時(shí)的一例的 正面圖。
[0029]圖3是示出從金屬掩模側(cè)俯視本公開(kāi)的實(shí)施方式的蒸鍍掩模時(shí)的一例的 正面圖。
[0030]圖4是示出從金屬掩模側(cè)俯視本公開(kāi)的實(shí)施方式的蒸鍍掩模時(shí)的一例的 正面圖。
[0031]圖5是示出圖1(b)的符號(hào)X所示的區(qū)域的一例的放大正面圖。
[0032]圖6是圖5(a)的A
?
A概要剖面圖的一例。
[0033]圖7是圖5(b)的A
?
A概要剖面圖的一例。
[0034]圖8是圖5(c)的A
?
A概要剖面圖的一例。
[0035]圖9是示出圖1(b)的符號(hào)X所示的區(qū)域的一例的放大正面圖。
[0036]圖10是示出從金屬掩模側(cè)俯視本公開(kāi)的實(shí)施方式的蒸鍍掩模時(shí)的一例 的正面圖。
[0037]圖11是示出從金屬掩模側(cè)俯視本公開(kāi)的實(shí)施方式的蒸鍍掩模時(shí)的一例 的正面圖。
[0038]圖12是示出從金屬掩模側(cè)俯視本公開(kāi)的實(shí)施方式的蒸鍍掩模時(shí)的一例 的正面圖。
[0039]圖13是示出從金屬掩模側(cè)俯視本公開(kāi)的實(shí)施方式的蒸鍍掩模時(shí)的一例 的正面圖。
[0040]圖14是示出本公開(kāi)的其它實(shí)施方式(i)的構(gòu)成蒸鍍掩模的金屬掩模的一 例的概要剖面圖。
[0041]圖15是示出本公開(kāi)的其它實(shí)施方式(ii)的構(gòu)成蒸鍍掩模的金屬掩模的一 例的概要剖面圖。
[0042]圖16是示出對(duì)間隙的大小進(jìn)行級(jí)別劃分的狀態(tài)的圖。
[0043]圖17是示出從金屬掩模側(cè)俯視實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模時(shí)的一例的正面 圖。
[0044]圖18是示出從金屬掩模側(cè)俯視實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模時(shí)的一例的正面 圖。
[0045]圖19是示出從金屬掩模側(cè)俯視實(shí)施方式(A)的蒸本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
1.一種蒸鍍掩模，其固定于框架而使用，所述蒸鍍掩模將具有與待蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的多個(gè)樹(shù)脂掩模開(kāi)口部的樹(shù)脂掩模和具有金屬掩模開(kāi)口部的金屬掩模以所述樹(shù)脂掩模開(kāi)口部與所述金屬掩模開(kāi)口部重合的方式層疊而成，所述金屬掩模在所述樹(shù)脂掩模的不與所述樹(shù)脂掩模開(kāi)口部重合的位置具有部分降低所述金屬掩模的剛性的1個(gè)或多個(gè)剛性調(diào)整部，所述剛性調(diào)整部是貫通所述金屬掩模的貫通孔、或設(shè)置于金屬掩模的凹部。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其中，將從該金屬掩模側(cè)俯視假設(shè)不具有所述剛性調(diào)整部的所述金屬掩模時(shí)的金屬掩模有效區(qū)域的面積設(shè)為100％時(shí)，從所述金屬掩模側(cè)俯視所述蒸鍍掩模時(shí)所述剛性調(diào)整部的開(kāi)口區(qū)域的面積的總和為3％以上。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍掩模，其中，1個(gè)所述剛性調(diào)整部的開(kāi)口面積小于1個(gè)所述金屬掩模開(kāi)口部的開(kāi)口面積。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模，其中，1個(gè)所述剛性調(diào)整部的開(kāi)口寬度小于1個(gè)所述金屬掩模開(kāi)口部的開(kāi)口寬度。5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模，其中，從所述金屬掩模側(cè)俯視所述蒸鍍掩模時(shí)，所述剛性調(diào)整部位于包圍所述金屬掩模開(kāi)口部的位置。6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模，其中，存在多個(gè)所述金屬掩模開(kāi)口部，從所述金屬掩模側(cè)俯視所述蒸鍍掩模時(shí)，所述剛性調(diào)整部位于鄰接的所述金屬掩模開(kāi)口部間的任意位置。7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的蒸鍍掩模，...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：川崎博司，武田利彥，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：大日本印刷株式會(huì)社，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：