掩膜板及其制作方法、掩膜組件、顯示基板的制作方法技術

本申請涉及一種掩膜板，掩膜開口區在張網拉伸前呈第一初始形狀，掩膜開口區在蒸鍍過程中呈第一目標形狀；第一初始形狀與第一目標形狀不同；其中，第一初始形狀相對第一目標形狀具有補償圖案，補償圖案具有張力變形圖案與熱變形圖案。如此，對掩膜板在不同方向張網拉伸和蒸鍍過程結中熱和力耦合導致掩膜板產生的不均勻形變進行預補償，降低掩膜板上的掩膜開口的位置與顯示基板上的相應像素開口的位置之間的偏差，改善實際蒸鍍膜層邊界與設計值的差異，能夠確保蒸鍍精度，有效改善混色不良，提高產品的良率。還提供一種掩膜板制作方法、掩膜組件，以及一種顯示基板的制作方法。以及一種顯示基板的制作方法。以及一種顯示基板的制作方法。

【技術實現步驟摘要】
掩膜板及其制作方法、掩膜組件、顯示基板的制作方法


[0001]本專利技術涉及顯示
，特別是涉及一種掩膜板及其制作方法、掩膜組件、顯示基板的制作方法。

技術介紹

[0002]有機發光二極管(Organic Light Emitting Diode，OLED)顯示技術，具有自發光、對比度高、清晰度高、視角寬、功耗低、響應速度快、以及制造成本低等優勢，被視為下一代最具有潛力的新型平板顯示技術。OLED顯示面板的有機發光材料等功能層通常利用高精度金屬掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)通過蒸鍍等方式制備，因此，FMM的精細程度決定了上述有機發光材料等功能層的制作精度。

技術實現思路

[0003]基于此，有必要提供一種掩膜板，能夠確保蒸鍍精度，有效改善混色不良，提高產品的良率。
[0004]根據本申請的一個方面，提供一種掩膜板，包括：
[0005]沿第一方向彼此相對的第一夾持區和第二夾持區；以及
[0006]位于所述第一夾持區和所述第二夾持區之間的至少一個掩膜開口區；
[0007]所述掩膜開口區在張網拉伸前呈第一初始形狀，所述掩膜開口區在蒸鍍過程中呈第一目標形狀；所述第一初始形狀與所述第一目標形狀不同；
[0008]其中，所述第一初始形狀相對所述第一目標形狀具有補償圖案，所述補償圖案具有張力變形圖案與熱變形圖案。
[0009]如此，對掩膜板在不同方向張網拉伸和蒸鍍過程結中熱和力耦合導致掩膜板產生的不均勻形變進行預補償，降低掩膜板上的掩膜開口的位置與顯示基板上的相應像素開口的位置之間的偏差，改善實際蒸鍍膜層邊界與設計值的差異，能夠確保蒸鍍精度，有效改善混色不良，提高產品的良率。
[0010]在一實施例中，所述掩膜開口區具有沿第一方向相對設置的兩條第一邊、沿第二方向相對設置并連接兩條所述第一邊的兩條第二邊，所述第一方向平行于張網拉伸方向，所述第二方向與第一方向相垂直；
[0011]所述補償圖案包括沿所述第一邊延伸設置的第一補償圖案和沿所述第二邊延伸設置的第二補償圖案。
[0012]在一實施例中，所述掩膜板具有沿第一方向經過其中心的第一中心線、沿第二方向經過其中心的第二中心線；所述掩膜開口區具有沿所述第一方向經過該掩膜開口區中心的第三中心線、沿所述第二方向經過該掩膜開口區中心的第四中心線；
[0013]所述第一補償圖案構造為朝向所述第二中心線凸起設置，所述第二補償圖案構造為背離所述第一中心線凸起設置。
[0014]在一實施例中，所述第一補償圖案、第二補償圖案均設置為呈弓形。
[0015]在一實施例中，所述第二補償圖案相對所述第三中心線對稱設置。
[0016]在一實施例中，所述掩膜開口區包括多個間隔排布的掩膜開口；
[0017]多個所述掩膜開口沿所述第一方向排布成行，沿所述第二方向排布呈列；
[0018]同一所述掩膜開口區中的所有所述掩膜開口沿所述第一方向的尺寸相等，同一行中任意相鄰的兩個所述掩膜開口之間沿所述第一方向具有相等的間距；
[0019]其中，沿所述第二方向位于所述第三中心線同一側的多行所述掩膜開口中，越靠近所述第三中心線的同一行的所述掩膜開口之間，沿所述第一方向的間距越大。
[0020]在一實施例中，所述掩膜開口區包括多個間隔排布的掩膜開口；
[0021]多個所述掩膜開口沿所述第一方向排布成行，沿所述第二方向排布呈列；
[0022]同一所述掩膜開口區中的所有所述掩膜開口沿所述第二方向的尺寸相等，同一列中任意相鄰的兩個所述掩膜開口之間沿所述第二方向具有相等的間距；
[0023]其中，沿所述第一方向位于所述第四中心線同一側的多列掩膜開口中，越靠近所述第四中心線的同一列的所述掩膜開口之間，沿所述第二方向的間距越大。
[0024]在一實施例中，所述掩膜板設置有至少兩個且沿所述第一方向依次排布的所述掩膜開口區，至少兩個所述掩膜開口區相對所述第二中心線對稱分布。
[0025]在一實施例中，所述掩膜板設置有第一類型掩膜開口區和第二類型掩膜開口區，所述第一類型掩膜開口區的面積大于所述第二類型掩膜開口區的面積。
[0026]在一實施例中，所述第二類型掩膜開口區設置有至少兩個，且至少兩個所述第二類型掩膜開口區相鄰排布形成掩膜補償區；
[0027]所述掩膜補償區在張網拉伸前的形狀相對所述掩膜補償區在蒸鍍過程中的形狀，具有沿所述掩膜補償區第一方向上的邊緣延伸設置的第三補償圖案，以及沿所述掩膜補償區第二方向上的邊緣延伸設置第四補償圖案；
[0028]所述第一方向平行于張網拉伸方向，所述第二方向與第一方向相垂直。
[0029]根據本申請的另一個方面，提供一種掩膜組件，包括掩膜框架和設置在所述掩膜框架上且如上述任一實施例中所述的掩膜板。
[0030]根據本申請的一個方面，提供一種掩膜板的制作方法，所述制作方法包括：
[0031]提供測試掩膜板；所述測試掩膜板包括至少一個掩膜開口區，所述掩膜開口區在張網拉伸前呈第一目標形狀；
[0032]獲取所述測試掩膜板的所述掩膜開口區在所述測試掩膜板張網拉伸和蒸鍍過程中的變形狀態信息；所述變形狀態信息包括所述掩膜開口區中多個位置點在所述第一方向和第二方向上的張力變形趨勢、張力位移偏差量、蒸鍍熱變形趨勢和蒸鍍熱變形量；其中，所述第一方向平行于張網拉伸方向，所述第二方向與第一方向相垂直；
[0033]根據所述變形狀態信息，獲得所述掩膜開口區的反向補償信息，并且基于所述反向補償信息獲得所述掩膜開口區的目標初始狀態信息；
[0034]根據所述目標初始狀態信息制作掩膜板，制作形成的所述掩膜板的掩膜開口區呈第一初始形狀；其中，所述第一初始形狀相對所述第一目標形狀具有補償圖案，所述補償圖案具有張力變形圖案與熱變形圖案。
[0035]在一實施例中，制作形成的所述掩膜板的掩膜開口區具有沿第一方向相對設置的兩條第一邊、沿第二方向相對設置并連接兩條所述第一邊的兩條第二邊；
[0036]所述補償圖案包括沿所述第一邊延伸設置的第一補償圖案、沿所述第二邊延伸設置的第二補償圖案。
[0037]在一實施例中，所述反向補償信息包括所述掩膜開口區在多個位置點的變形補償值或者所述掩膜開口區在所述第一方向和所述第二方向上的變形補償曲線。
[0038]在一實施例中，所述測試掩膜板具有沿第一方向經過其中心的第一中心線、沿第二方向經過其中心的第二中心線；
[0039]所述測試掩膜板設置有多個且沿所述第一方向依次排布的所述掩膜開口區，多個所述掩膜開口區相對所述第二中心線對稱分布；位于所述第二中心線同一側的多個所述掩膜開口區包括具有不同面積且朝遠離所述測試掩膜板中心相鄰排布的第一類型掩膜開口區和第二類型掩膜開口區；
[0040]其中，所述測試掩膜板的所述掩膜開口區具有沿所述第一方向相對設置的兩條第一邊、沿所述第二方向相對設置并連接兩條所述第一邊的兩條第二邊；所述第二類型掩膜開口本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種掩膜板，其特征在于，包括：沿第一方向彼此相對的第一夾持區和第二夾持區；以及位于所述第一夾持區和所述第二夾持區之間的至少一個掩膜開口區；所述掩膜開口區在張網拉伸前呈第一初始形狀，所述掩膜開口區在蒸鍍過程中呈第一目標形狀；所述第一初始形狀與所述第一目標形狀不同；其中，所述第一初始形狀相對所述第一目標形狀具有補償圖案，所述補償圖案具有張力變形圖案與熱變形圖案。2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜開口區具有沿第一方向相對設置的兩條第一邊、沿第二方向相對設置并連接兩條所述第一邊的兩條第二邊，所述第一方向平行于張網拉伸方向，所述第二方向與第一方向相垂直；所述補償圖案包括沿所述第一邊延伸設置的第一補償圖案和沿所述第二邊延伸設置的第二補償圖案。3.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板具有沿第一方向經過其中心的第一中心線、沿第二方向經過其中心的第二中心線；所述掩膜開口區具有沿所述第一方向經過該掩膜開口區中心的第三中心線、沿所述第二方向經過該掩膜開口區中心的第四中心線；所述第一補償圖案構造為朝向所述第二中心線凸起設置，所述第二補償圖案構造為背離所述第一中心線凸起設置；優選地，所述第一補償圖案、第二補償圖案均設置為呈弓形；優選地，所述第二補償圖案相對所述第三中心線對稱設置。4.根據權利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜開口區包括多個間隔排布的掩膜開口；多個所述掩膜開口沿所述第一方向排布成行，沿所述第二方向排布呈列；同一所述掩膜開口區中的所有所述掩膜開口沿所述第一方向的尺寸相等，同一行中任意相鄰的兩個所述掩膜開口之間沿所述第一方向具有相等的間距；其中，沿所述第二方向位于所述第三中心線同一側的多行所述掩膜開口中，越靠近所述第三中心線的同一行的所述掩膜開口之間，沿所述第一方向的間距越大。5.根據權利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜開口區包括多個間隔排布的掩膜開口；多個所述掩膜開口沿所述第一方向排布成行，沿所述第二方向排布呈列；同一所述掩膜開口區中的所有所述掩膜開口沿所述第二方向的尺寸相等，同一列中任意相鄰的兩個所述掩膜開口之間沿所述第二方向具有相等的間距；其中，沿所述第一方向位于所述第四中心線同一側的多列掩膜開口中，越靠近所述第四中心線的同一列的所述掩膜開口之間，沿所述第二方向的間距越大。6.根據權利要求1
?
5任一項所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板設置有至少兩個且沿所述第一方向依次排布的所述掩膜開口區，至少兩個所述掩膜開口區相對所述第二中心線對稱分布。7.根據權利要求1
?
5任一項所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板設置有第一類型掩膜開口區和第二類型掩膜開口區，所述第一類型掩膜開口區的面積大于所述第二類型掩膜
開口區的面積；優選地，所述第二類型掩膜開口區設置有至少兩個，且至少兩個所述第二類型掩膜開口區相鄰排布形成掩膜補償區；所述掩膜補償區在張網拉伸前的形狀相對所述掩膜補償區在蒸鍍過程中的形狀，具有沿所述掩膜補償區第一方向上的邊緣延伸設置的第三補償圖案，以及沿所述掩膜補償區第二方向上的邊緣延伸設置第四補償圖案；所述第一方向平行于張網拉伸方向，所述第二方向與第一方向相垂直。8.一種掩膜組件，其特征在于，包括掩膜框架和設置在所述掩膜框架上且如權利要求1～7任一項所述的掩膜板。9.一種掩膜板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：提供測試掩膜板；所述測試掩膜板包括至少一個掩膜開口區，所述掩膜開口區在張網拉伸前呈第一目標形狀；獲取所述測試掩膜板的所述掩膜開口區在所述測試掩膜板張網拉伸和蒸鍍過程中的變形狀態信息；所述變形狀態信息包括所述掩膜開口區中多個位置點在所述第一方向和第二方向上的張力變形趨勢、張力位移偏差量、蒸鍍熱變形趨勢和蒸鍍熱變形量；其中，所述第一方向平行于張網拉伸方向，所述第二方向與第一方向相垂直；根據所述變形狀態信息，獲得所述掩膜開口區的反向補償信息，并且基于所述反向補償信息獲得所述掩膜開口區的目標初始狀態信息；根據所述目標初始狀態信息制作掩膜板，制作形成的所述掩膜板的掩膜開口區呈第一初始形狀；其中，所述第一初始形狀相對所述第一目標形狀具有補償圖案，所述補償圖案具有張力變形圖案與熱變形圖案。10.根據權利要求9所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，制作形成的所述掩膜板的掩膜開口區具有沿第一方向相對設置的兩條第一邊、沿第二方向相對設置并連接兩條所述第一邊的兩條第二邊；所述補償圖案包括沿所述第一邊延伸設置的第一補償圖案、沿所述第二邊延伸設置的第二補償圖案。11.根據權利要求9所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述反向補償信息包括所述掩膜開口區在多個位置點的變形補償值或者所述掩膜開口區在所述第一方向和所述第二方向上的變形補償曲線。12.根據權利要求9所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述測試掩膜板具有沿第一方向經過其中心的第一中心線、沿第二方向經過其中心的第二中心線；所述測試掩膜板設置有多個且沿所述第一方向依次排布的所述掩膜開口區，多個所述掩膜開口區相對所述第二中心線對稱分布；位于所述第二中心線同一側的多個所述掩膜開口區包括具有不同面積且朝遠離所述測試掩膜板中心相鄰排布的第一類型掩膜開口區和第二類型掩膜開口區；其中，所述測試掩膜板的所述掩膜開口區具有沿所述第一方向相對設置的兩條第一邊、沿所述第二方向相對設置并連接兩條所述第一邊的兩條第二邊；所述第二類型掩膜開口區中非所述第一邊上的任意位置點沿所述第一方向的張力位移偏差量通過以下方式獲得：
Δf＝Y
A
’
?
Y
A
；Y
A
’

【專利技術屬性】
技術研發人員：李偉麗，李文星，臧公正，韓冰，張繼帥，陳牡丹，
申請(專利權)人：昆山國顯光電有限公司，
類型：發明
國別省市：