掩模板框架及掩模板組件制造技術

本申請提供一種掩模板框架及掩模板組件，該掩模板框架用于使掩模板張網于掩模板框架上，掩模板相對兩端具有焊接部；其中，掩模板框架具有鏤空部，掩模板框架用于與掩模板接觸的表面包括焊接區和支撐區，支撐區位于焊接區靠近鏤空部的一側，且支撐區具有凹凸結構，以向焊接部提供阻止褶皺生成的作用力。該掩模板框架可有效防止掩模板因焊接而產生褶皺和/或褶皺向掩模板的有效蒸鍍區延伸，蒸鍍精度較高。蒸鍍精度較高。蒸鍍精度較高。

【技術實現步驟摘要】
掩模板框架及掩模板組件


[0001]本專利技術涉及顯示器制造
，尤其涉及一種掩模板及掩模板組件。

技術介紹

[0002]OLED(Organic Light
?
Emitting Diode，有機發光二級管)因其響應時間快、可視角度大、對比度高、重量輕、功耗低等優勢，成為最具發展潛力的顯示器件。
[0003]OLED材料的形成是通過掩模板蒸鍍工藝形成的。掩模板的載體是開口的框架。目前，產線使用的框架，其上表面具有一較寬的平面，焊接上掩模板后，此平面會和掩模板表面緊密接觸。
[0004]然而，在將掩模板焊接于掩模板框架上時，由于當前的焊接方式，會導致焊點附近的部分掩模板褶皺延伸至有效蒸鍍區，造成掩模板有效蒸鍍區與產品基板的待蒸鍍區對位偏差較大，蒸鍍精度較差，引起顯示面板的顯示不良問題，導致產品良率下降。

技術實現思路

[0005]本申請實施例提供的掩模板框架及掩模板組件，旨在解掩模板因焊接導致焊點附近的部分掩模板褶皺延伸至有效蒸鍍區，造成掩模板有效蒸鍍區與產品基板的待蒸鍍區對位偏差較大，蒸鍍精度較差，引起顯示面板的顯示不良的問題。
[0006]為解決上述技術問題，本申請采用的一個技術方案是：提供一種掩模板框架。該掩模板框架用于使掩模板張網于所述掩模板框架上，所述掩模板的相對兩端具有焊接部；其中，所述掩模板框架具有鏤空部，所述掩模板框架用于與所述掩模板接觸的表面包括焊接區和支撐區，所述支撐區位于所述焊接區靠近所述鏤空部的一側，且所述支撐區具有凹凸結構，以向所述焊接部提供阻止褶皺生成的作用力。
[0007]其中，所述支撐區具有波浪形表面，以形成所述凹凸結構；所述波浪形表面的形狀與所述焊接部的仿真焊接生成的褶皺形狀呈鏡像，用于向所述焊接部提供阻止褶皺生成的作用力；
[0008]可選地，所述波浪形表面的峰值點所在的高度，不高于所述焊接區所在的高度。
[0009]其中，所述掩模板框架包括一體成型的框架主體，所述框架主體包括相對的兩個第一側邊框，且兩個所述第一側邊框間隔設置，所述第一側邊框朝向所述焊接部的表面包括所述焊接區和所述支撐區。
[0010]其中，所述掩模板框架包括：
[0011]框架主體，所述框架主體包括相對的兩個第一側邊框，且兩個所述第一側邊框間隔設置，所述第一側邊框朝向所述焊接部的表面為所述焊接區；
[0012]承載單元，可拆卸設置于所述第一側邊框靠近所述鏤空部的一側；其中，所述承載單元朝向所述焊接部的表面為所述支撐區；
[0013]可選地，所述承載單元的材質為金屬材質或硅膠材質。
[0014]其中，所述第一側邊框靠近所述鏤空部的表面為平面，所述承載單元固定連接于
所述第一側邊框靠近所述鏤空部的表面；或
[0015]所述第一側邊框靠近鏤空部的一側形成臺階結構，所述臺階結構具有上臺階面和下臺階面，所述上臺階面具有所述焊接區，所述承載單元設置于所述下臺界面上。
[0016]其中，所述承載單元整個設置于所述下臺階面上；或，所述承載單元部分設置于所述下臺階面上，部分延伸出所述下臺階面懸空設置。
[0017]其中，所述掩模板框架具有多個陣列排布的子鏤空部，一個所述掩模板對應同一列所述子鏤空部設置；沿著列方向，同一列所述子鏤空部的兩側分別設置一個所述承載單元。
[0018]其中，所述框架主體的外表面具有環形凸緣。
[0019]為解決上述技術問題，本申請采用的另一個技術方案是：提供一種掩模板組件。該掩模板組件包括：掩模板框架和掩模板；其中，所述掩模板框架為上述所涉及的掩模板框架；掩模板設置于所述掩模板框架上；所述掩模板的相對兩端具有焊接部，所述焊接部焊接固定于所述焊接區且被所述凹凸結構支撐。
[0020]其中，所述掩模板框架為上述所涉及的掩模板框架，其包括所述框架主體和所述承載單元；多個所述掩模板并排設置于所述掩模板框架上；所述掩模板的相對兩端的所述焊接部之間具有有效蒸鍍區，所述承載單元與所述有效蒸鍍區間隔設置。
[0021]本申請實施例提供的掩模板框架及掩模板組件，該掩模板框架具有鏤空部，使得掩模板張網于掩模板框架上時，掩模板的有效蒸鍍區可對位于鏤空部，從而與顯示基板的待蒸鍍區精確對位，實現對顯示基板的待蒸鍍區的有效蒸鍍；同時，通過使該掩模板框架用于與掩模板接觸的表面包括焊接區和支撐區，使支撐區位于焊接區靠近鏤空部的一側，且使支撐區具有凹凸結構，使得該凹凸結構的多個凸起對掩模板的相對兩端的焊接部具有多個支撐點，支撐點對焊接部具有較為集中的支持力和壓強，從而可有效避免因焊接而產生褶皺和/或褶皺向掩模板的有效蒸鍍區延伸；并且，該凹凸結構的凸起可對褶皺的凹陷具有向上的支持力，以使褶皺的凹陷舒展，凹凸結構的相鄰凸起之間的凹陷可使褶皺的凸起懸空，使得褶皺的凸起因重力作用下沉，從而使得已生成的褶皺可被舒展開，進一步阻止了因焊接導致焊點附近的部分掩模板褶產生的皺延伸至有效蒸鍍區，避免因褶皺造成掩模板有效蒸鍍區與顯示基板的待蒸鍍區對位偏差較大，蒸鍍精度變差，從而引起顯示面板的顯示不良的問題。
附圖說明
[0022]圖1為本申請一實施例提供的掩模板組件的俯視結構示意圖；
[0023]圖2為圖1中掩模板組件的A
?
A向截面示意圖；
[0024]圖3a為本申請一實施例中掩模板焊接部褶皺的受力狀態示意圖；
[0025]圖3b為圖3a中掩模板焊接部的褶皺被凹凸結構舒展后的狀態示意圖；
[0026]圖4為本申請第二實施例提供的掩模板框架的截面示意圖；
[0027]圖5為本申請第三實施例提供的掩模板框架的截面示意圖；
[0028]圖6為本申請第四實施例提供的掩模板框架的截面示意圖；
[0029]圖7為本申請另一實施例提供的掩膜版組件的俯視結構示意圖；
[0030]圖8為圖7中實施例提供的掩模板框架的俯視結構示意圖；
[0031]圖9為圖7中掩模板組件的B
?
B向截面示意圖。
具體實施方式
[0032]下面將結合本申請實施例中的附圖，對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本申請的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本申請中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本申請保護的范圍。
[0033]本申請中的術語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。本申請的描述中，“多個”的含義是至少兩個，例如兩個，三個等，除非另有明確具體的限定。本申請實施例中所有方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后
……
)僅用于解釋在某一特定姿態(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關系、運動情況等，如果該特定姿態發生改變時，則該方向性指示也相應地本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種掩模板框架，用于使掩模板張網于所述掩模板框架上，所述掩模板的相對兩端具有焊接部；其特征在于，所述掩模板框架具有鏤空部，所述掩模板框架用于與所述掩模板接觸的表面包括焊接區和支撐區，所述支撐區位于所述焊接區靠近所述鏤空部的一側，且所述支撐區具有凹凸結構，以向所述焊接部提供阻止褶皺生成的作用力。2.根據權利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，所述支撐區具有波浪形表面，以形成所述凹凸結構；所述波浪形表面的形狀與所述焊接部的仿真焊接生成的褶皺形狀呈鏡像，用于向所述焊接部提供阻止褶皺生成的作用力；可選地，所述波浪形表面的峰值點所在的高度不高于所述焊接區所在的高度。3.根據權利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，所述掩模板框架包括一體成型的框架主體，所述框架主體包括相對的兩個第一側邊框，且兩個所述第一側邊框間隔設置，所述第一側邊框朝向所述焊接部的表面包括所述焊接區和所述支撐區。4.根據權利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，所述掩模板框架包括：框架主體，所述框架主體包括相對的兩個第一側邊框，且兩個所述第一側邊框間隔設置，所述第一側邊框朝向所述焊接部的表面為所述焊接區；承載單元，可拆卸設置于所述第一側邊框靠近所述鏤空部的一側；其中，所述承載單元朝向所述焊接部的表面為所述支撐區；可選地，所述承載單元的材質為金屬材質或硅膠材質。5.根據權利要求4所述的掩模板框架，其特征在于，所述第...

【專利技術屬性】
技術研發人員：趙瑩，張磊，王盼盼，李慧，朱修劍，
申請(專利權)人：昆山國顯光電有限公司，
類型：發明
國別省市：