掩膜支撐結構及掩膜組件制造技術

本申請實施例提供了一種掩膜支撐結構及掩膜組件。該掩膜支撐結構包括由第一磁性材料制成的第一支撐層和由第二磁性材料制成的第二支撐層，且由于第二磁性材料的磁性小于第一磁性材料的磁性，使得完整的掩膜支撐結構不會產生過大的磁場力從而降低壓傷待蒸鍍基板的風險；高精度金屬掩膜板包括多個子掩膜板，子掩膜板寬度小于相鄰第一支撐部之間的距離，也就是子掩膜板的邊緣與第一支撐部之間存儲縫隙，這更有利于高精度金屬掩膜的邊緣進行舒展，從而使得高精度金屬掩膜板邊緣的褶皺能夠展平，能夠改善顯示屏邊緣材料蒸鍍陰影過大引起混色等不良的問題，從而有利于提升蒸鍍品質。質。質。

【技術實現步驟摘要】
掩膜支撐結構及掩膜組件


[0001]本申請涉及OLED生產
，具體而言，本申請涉及一種掩膜支撐結構及掩膜組件。

技術介紹

[0002]OLED(Organic Light
?
Emitting Diode)顯示面板具有響應時間快，可視角度大，對比度高，重量輕，功耗低等優點，是當下顯示器件研究熱門領域之一，并且由于其特有的柔性，應用范圍越來越廣泛。
[0003]制備OLED顯示面板的包括多個工序，蒸鍍是其中一個重要工序，蒸鍍過程涉及使用永磁體磁板構件和相應的掩膜板。具體地，所使用的掩膜板是將支撐板F
?
Mask焊接到框架(Frame)上，再將精細金屬掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)焊接到框架上以組成掩膜板。
[0004]但由于F
?
Mask的磁性較強，受磁力作用較大，在蒸鍍過程中容易產生F
?
Mask向上凸起以及F
?
Mask引起的FMM向上凸起的情況，這會增加壓傷顯示屏的風險。

技術實現思路

[0005]本申請針對現有方式的缺點，提出一種掩膜支撐結構及掩膜組件，用以解決現有技術存在的F
?
Mask的磁性較強使得F
?
Mask向上凸起而引起的壓傷顯示屏的技術問題。
[0006]第一個方面，本申請實施例提供了一種掩膜支撐結構，該掩膜支撐結構包括：
[0007]第一支撐層，多第一磁性材料制成，包括多個沿第一方向延伸的第一支撐條和沿第二方向延伸的第二支撐條；
[0008]第二支撐層，由第二磁性材料制成且位于所述第一支撐層上，包括沿所述第一方向延伸的第三支撐條和沿所述第二方向延伸的第四支撐條，所述第三支撐條在第一支撐層上的正投影位于所述第一支撐條內，所述第四支撐條在第一支撐層上的正投影位于所述第二支撐條內；
[0009]所述第二磁性材料的磁性弱于所述第一磁性材料的磁性。
[0010]可選地，所述第三支撐條包括第一支撐部和位于所述第一支撐部兩側的第二支撐部。
[0011]可選地，所述第四支撐條包括第一支撐部和位于所述第一支撐部兩側的第二支撐部，所述第一支撐部的厚度大于所述第二支撐部的厚度。
[0012]可選地，所述第一支撐條和/或所述第二支撐條靠近所述第二支撐層的一側設置有刻蝕槽；或者所述第一支撐條和/或所述第二支撐條設置有刻蝕通孔，所述刻蝕通孔的寬度小于所述第一支撐部的寬度。
[0013]可選地，位于同一所述第三支撐條或所述第四支撐條上的所述第一支撐部與所述第二支撐部之間具有縫隙。
[0014]可選地，位于同一所述第三支撐條或所述第四支撐條上的所述第一支撐部與所述第二支撐部相連接。
[0015]可選地，所述第三支撐條包括第一支撐部和第二支撐部，所述第四支撐條僅包括第二支撐部，且所述第四支撐條所述包括第二支撐部與所述第三支撐條所包括的第二支撐部連接；或者所述第四支撐條包括第一支撐部和第二支撐部，所述第三支撐條僅包括第二支撐部，且所述第三支撐條所述包括第二支撐部與所述第四支撐條所包括的第二支撐部連接。
[0016]第二個方面，本申請實施例提供了一種掩膜組件，該掩膜組件包括：
[0017]支撐框架；
[0018]上述的掩膜支撐結構，固定在所述支撐框架上；
[0019]高精度金屬掩膜板，位于第二支撐層遠離第一支撐層的一側。
[0020]可選地，所述第一支撐部與所述第二支撐部的厚度差等于所述高精度金屬掩膜板的厚度。
[0021]可選地，所述第三支撐條包括第一支撐部和第二支撐部，所述第四支撐條僅包括第二支撐部，且所述第四支撐條所述包括第二支撐部與所述第三支撐條所包括的第二支撐部連接；或者所述第四支撐條包括第一支撐部和第二支撐部，所述第三支撐條僅包括第二支撐部，且所述第三支撐條所述包括第二支撐部與所述第四支撐條所包括的第二支撐部連接。
[0022]可選地，當所述第三支撐條包括所述第一支撐部和所述第二支撐部時，所述高精度金屬掩膜板包括多個沿第一方向延伸的子掩膜板，則沿所述第一方向延伸的相鄰所述第一支撐部之間的距離大于所述子掩膜板在與所述第一方向垂直的方向上的長度；或者
[0023]當所述第四支撐條包括所述第一支撐部和所述第二支撐部時，所述高精度金屬掩膜板包括多個沿第二方向延伸的子掩膜板，則沿所述第二方向延伸的相鄰所述第一支撐部之間的距離大于所述子掩膜板在與所述第二方向垂直的方向上的長度。
[0024]本申請實施例提供的技術方案帶來的有益技術效果包括：
[0025](1)本申請實施例提供的掩膜支撐結構及掩膜組件中，掩膜支撐結構包括由第一磁性材料制成的第一支撐層和由第二磁性材料制成的第二支撐層，且由于第二磁性材料的磁性小于第一磁性材料的磁性，使得完整的掩膜支撐結構不會產生過大的磁場力，也就是掩膜支撐結構不容易向上凸起，從而降低壓傷待蒸鍍基板的風險。
[0026](2)在使用掩膜支撐結構的過程中，需要將高精度金屬掩膜板安裝在第二支撐部上，通過將第一支撐部的厚度設計為大于第二支撐部的厚度，能夠提升包括掩膜支撐結構與高精度金屬掩膜板的掩膜組件與待蒸鍍基板的接觸面的平坦度，從而進一步防止高精度金屬掩膜板劃傷待蒸鍍基板。
[0027](3)高精度金屬掩膜板包括多個子掩膜板，子掩膜板寬度小于相鄰第一支撐部之間的距離，也就是子掩膜板的邊緣與第一支撐部之間存儲縫隙，這更有利于高精度金屬掩膜的邊緣進行舒展，從而使得高精度金屬掩膜板邊緣的褶皺能夠展平，能夠改善顯示屏邊緣材料蒸鍍陰影過大引起混色等不良的問題。從而有利于提升蒸鍍品質。
[0028]本申請附加的方面和優點將在下面的描述中部分給出，這些將從下面的描述中變得明顯，或通過本申請的實踐了解到。
附圖說明
[0029]本申請上述的和/或附加的方面和優點從下面結合附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：
[0030]圖1為現有技術中的一種支撐框架與支撐板的結構示意圖；
[0031]圖2為現有技術中的一種掩膜板的結構示意圖；
[0032]圖3為現有技術中的一種掩膜板因磁性作用而引起的向上凸起的結構示意圖；
[0033]圖4為本申請實施例提供的一種掩膜支撐結構的示意圖；
[0034]圖5為圖4中的掩膜支撐結構沿A
?
A線的一種截面結構示意圖；
[0035]圖6為圖4中的掩膜支撐結構沿A
?
A線的另一種截面結構示意圖；
[0036]圖7為圖4中的掩膜支撐結構沿A
?
A線的又一種截面結構示意圖；
[0037]圖8為圖4中的掩膜支撐結構沿A
?
A線的再一種截面結構示意圖；
[0038]圖9為圖4中的掩膜支撐結構沿A
?
A線的另又一種截面結構示意圖；
[0039]圖10為圖4中的掩膜支撐結構沿A
?...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種掩膜支撐結構，其特征在于，包括：第一支撐層，由第一磁性材料制成，包括多個沿第一方向延伸的第一支撐條和沿第二方向延伸的第二支撐條；第二支撐層，由第二磁性材料制成且位于所述第一支撐層上，包括沿所述第一方向延伸的第三支撐條和沿所述第二方向延伸的第四支撐條，所述第三支撐條在第一支撐層上的正投影位于所述第一支撐條內，所述第四支撐條在第一支撐層上的正投影位于所述第二支撐條內；所述第二磁性材料的磁性弱于所述第一磁性材料的磁性。2.根據權利要求1所述的掩膜支撐結構，其特征在于，所述第三支撐條包括第一支撐部和位于所述第一支撐部兩側的第二支撐部，或者所述第四支撐條包括第一支撐部和位于所述第一支撐部兩側的第二支撐部，所述第一支撐部的厚度大于所述第二支撐部的厚度。3.根據權利要求2所述的掩膜支撐結構，其特征在于，所述第一支撐條和/或所述第二支撐條靠近所述第二支撐層的一側設置有刻蝕槽。4.根據權利要求2所述的掩膜支撐結構，其特征在于，所述第一支撐條和/或所述第二支撐條設置有刻蝕通孔，所述刻蝕通孔的寬度小于所述第一支撐部的寬度。5.根據權利要求2所述的掩膜支撐結構，其特征在于，位于同一所述第三支撐條或所述第四支撐條上的所述第一支撐部與所述第二支撐部之間具有縫隙。6.根據權利要求2所述的掩膜支撐結構，其特征在于，位于同一所述第三支撐條或所述第四支撐條上的所述第一支撐部與...

【專利技術屬性】
技術研發人員：劉佳寧，沈闊，劉華猛，關新興，白珊珊，李彥松，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，
類型：新型
國別省市：