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    OLED金屬掩模及其制造方法技術

    技術編號:35133819 閱讀:22 留言:0更新日期:2022-10-05 10:07
    提供了一種OLED蒸鍍用金屬掩模的制造方法,該方法可以將OLED蒸鍍金屬掩模的制備過程中的變形或彎曲概率降到最低,隨著材料蒸鍍時材料的均勻蒸鍍而便于進行尺寸管理,可靠性提高。此外,提供了一種OLED蒸鍍用金屬掩模的制造方法,該方法在制造OLED蒸鍍金屬掩模時,可以使內飾線的凸起部分最小化,從而顯著減少基板上產生劃痕的概率,從而減少基板損傷造成的工藝不良,提高工藝收率。提高工藝收率。提高工藝收率。

    【技術實現步驟摘要】
    OLED金屬掩模及其制造方法


    [0001]這個專利技術涉及顯示領域,更詳細地說,涉及一種有機電致發光器件蒸鍍用金屬掩模,即 顯示的一種。

    技術介紹

    [0002]到目前為止,液晶顯示屏占據了平板顯示屏的大部分,但開發更經濟、性能更好、與液 晶顯示屏有差異化的新型平板顯示屏也在全球范圍內如火如荼進行著。有機電致發光器件(以 下簡稱OLED)是近年來備受矚目的新一代平板顯示器,并將位置精度定為數微米(μm)以 內。
    [0003]OLED的發光層是由有機化合物組成的薄膜發光二極管。OLED的結構由基板、陽極、 陽極接受空穴的空穴注入層、輸送空穴的空穴輸送層、阻止電子從發光層進入空穴輸送層的 電子阻擋層、空穴和電子結合發光的發光層、阻止從發光層進入電子輸送層的空穴阻擋層、 從陰極接收電子并輸送發光層的電子輸送層、從陰極接收電子的電子注入層及陰極構成。根 據情況,也可以在電子輸運層或空穴輸運層中摻雜少量的熒光或磷光染料,而無需單獨的發 光層來構成發光層。在制造OLED時,需要將這些多數薄膜層疊起來并進行圖案化的薄膜工 藝。薄膜工藝使用具有各自相應圖案的掩膜組件,包含化學氣相蒸鍍(CVD,Chemical vapordeposition)、濺射(sputtering)、離子鍍(ion plating)和真空蒸鍍(evaporation)等。
    [0004]一般來說,真空蒸鍍工藝是一種廣泛應用于半導體元件制造或平板顯示元件制造的工藝, 在真空室中,通過對含有有機物質的蒸鍍單元進行加熱,使有機物質汽化并蒸鍍在位于上部 的玻璃基板上的方法。
    [0005]這個時候,為了讓有機物質蒸鍍在玻璃基板中的期望位置,我們將利用蔭罩(掩膜圖案), 在這些蔭罩(掩膜圖案)中形成目標圖案單元,只蒸鍍該部分。
    [0006]另一方面,加載圖案形成的掩模和框架,用多個夾具夾緊掩模后,通過調節拉伸電機的 驅動值,向外拉伸,并通過位于上部的CCD攝像機確認實際圖案值與拉伸后的掩模的圖案值 是否相匹配。然后通過位于下部的上下臺使框架上升,并將其置于對等臺上。
    [0007]通過將拉伸掩膜和框架分別形成的對準標記進行對準,并將位置程度對準在幾微米μm 以內。
    [0008]這樣將對齊的掩模與框架貼緊,使框架的焊接突起區域隨著位于上部的激光移動焊接成 一體化。
    [0009]實際上,在有機EL薄膜工藝中,要制造全彩色設備,圖案的精密度和圖案位置的準確 度都要在數微米以內,而且根據制造商技術水平的不同,掩模的制造單價也有差異。
    [0010]在真空涂層室中,將準備好的掩模與玻璃基板對齊,當蒸鍍單元的狀態符合蒸鍍工藝的 條件時,打開主卷簾,將有機蒸氣蒸鍍在對準的基板上。
    [0011]此時,暴露的蒸鍍源的輻射熱使掩模溫度上升,使掩模因熱膨脹而拉長,長時間使用時, 由于溫度升高,導致掩模片熱膨脹,對圖案的準確度和圖案位置的準確性產生了相
    當大的影 響,成為面板不良的原因。
    [0012]相關的先行文獻規定,在用于加工掩模片的圖案單元開口的蝕刻工藝中,在貫穿 開口槽之前,在上半部分預先以半加工形式蝕刻半槽(采用雙步蝕刻方式),上述半 槽根據設定值與開口槽比具有小幅度的寬度間隔和一定的階梯深度差距。對圖案單元 的規格精細化要求提高蝕刻加工性,這種階梯式半槽是通過開口槽防止有機物蒸鍍時 對玻璃基板產生異物化現象(圖案掩模片或玻璃基板本身和室的內壁上也可能發生), 防止在蝕刻工藝中產生的玻璃基板和掩模片之間的燃燒現象(由于熱源而燃燒)。這 是韓國注冊的專利第101984112號,其目的是顯著減少產品不良,改善有機物蒸鍍性, 大幅提高了最終顯示器產品的性能。
    [0013]另外,韓國注冊專利第10
    ?
    230000號,其目的是提供OLED掩模制造裝置和方法。 在制造OLED掩模時,對安裝在掩模框架上的掩模進行線條掃描,將獲得的掃描影像 與設計圖紙數據進行比較,確定誤差后,利用此方法生成的加工數據加工掩模,這樣 即使在拉伸工藝中OLED的掩模發生變形,也能解決OLED掩模的誤差。
    [0014]另外,韓國注冊專利第10
    ?
    2269904號,是通過對應鋼薄板的精密尺寸測量進行 尺寸管理后,完成第一次光化學全過程蝕刻和第二光化學全過程后,進行張力拉伸, 然后用激光焊接固定在掩模框架上,制作掩模框架組件。
    [0015]另外,韓國注冊專利第10
    ?
    2186447號是在掩模片上成形多個開口時,在開口的 內側形成與地基部及開口的內側連接的連接部后,拉伸掩模片并接合到掩模框架上, 通過從連接到掩模框架的掩模片上切斷連接至開口內側的連接部,從而在掩模片上形 成開口,減少因形成開口時應力而使開口變形的技術。
    [0016]另外,韓國注冊專利第10
    ?
    2188656號,是在掩模片的四面外側端以指狀的形式 分割,將突出的多個拉伸口延長,在上述每個拉伸口上,分別對應結合單獨的夾具, 并賦予其拉力。這將使掩模片中彼此相鄰的直角端沿垂直(直角)方向產生的拉力分
    [0017]但是,這種傳統的蒸鍍掩模在掩模框架上焊接,然后沿著內飾線切割的話,由于金屬掩 模的厚度太薄且面積大,因此金屬掩模可能會因負荷而下垂或變形。此時,如果傳統的金屬 掩模因自身載荷而發生彎曲時,那么存在于虛擬區域的內飾線中的尖銳突出部分與基板接觸 的可能性增大。
    [0018]另外,暴露的蒸鍍源的輻射熱使掩模的溫度上升,使掩模片因受熱膨脹而拉伸,長時間 使用時,由于溫度上升導致掩模片的熱膨脹,內飾線中存在的尖銳突出部分對基板造成劃痕, 從而導致產出率下降。

    技術實現思路

    [0019]【要解決的技術問題】
    [0020]本專利技術是為了解決傳統的上述問題而提出的。
    [0021]這是為了在制造OLED蒸鍍用金屬掩模時,將變形或彎曲最小化,在蒸鍍時均勻蒸鍍, 從而提供便于尺寸管理、提高信賴性的OLED蒸鍍用金屬掩模制造方法及由此制造的OLED 蒸鍍用金屬掩模。
    [0022]本專利技術的另一目的是,在制造OLED蒸鍍用金屬掩模時,可使內飾線的突出部分最小化, 從而顯著減少在基板上產生劃痕的概率,減少因基板損傷造成的工藝不良,從而提
    供提高工 藝收率的OLED蒸鍍金屬掩模制造方法及由此制造的OLED蒸鍍金屬掩模。
    [0023]【技術問題的解決手段】
    [0024]為了實現上述目的,根據本專利技術的實施例,使內飾線的突出部分最小化的OLED蒸鍍用 金屬掩模包含正面和背面,具有布置有多個掩模圖案的掩模單元區域,以及上述掩模單元區 域外側的虛擬區域的掩模片;以及布置在上述虛擬區域,包括包圍上述掩模單元區域外側的 內飾線。上述的內飾線,是從上述掩模片的正面向背面方向去除了部分厚度的第一條內飾線 和從上述掩模片的背面向正面方向去除了部分厚度第一條內飾線,具有去掉或貫通的n個第 二條內飾線的特點。
    [0025]上述掩模片包括布置在上述虛擬區域,有板狀的虛擬部;布置在上述掩模本文檔來自技高網
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    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    1.一種OLED金屬掩模,其具有OLED蒸鍍用金屬板的正面及與所述正面相反的背面,放置有多個掩模圖案的掩模單元區域,以及放置在所述掩模單元區域外側的虛擬區域的掩模片;放置在所述虛擬區域中,包圍所述掩模單元區域的外側,包括關于正面的前側內飾線和背面的n條后側內飾線。其中n是1到5的整數。所述掩模片包含:放置在所述虛擬區域,具有板型形態的虛擬部,放置所述掩模單元區域,排列成包圍所述多個掩模圖案的網格結構的具有多個加強肋的支撐部,和放置在所述掩模單元區域,貫通所述掩模片的正面和背面的所述多個掩模圖案。所述內飾線,具有從所述掩模片的正面向背面方向去除部分厚度的前側內飾線,以及從所述掩模片的第背面向正面方向去除部分厚度或穿透的n條的后側內飾線;所述前側內飾線和后側內飾線被放置在所述虛擬區域中,并以一定的間隔隔離放置以包圍所述掩模單元區域的外側;所述前側內飾線和后側內飾線分別獨立的以0.5~5mm的橫向長度配置為特征的OLED蒸鍍金屬掩模制造方法。2.根據權利要求1所述的O...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:金振禹
    申請(專利權)人:江蘇精潤鴻測控技術有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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