蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置、蒸鍍裝置以及有機(jī)器件的制造方法制造方法及圖紙

本公開提供蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置、蒸鍍裝置以及有機(jī)器件的制造方法。本公開的實(shí)施方式的蒸鍍掩模具備第1面、位于第1面的相反側(cè)的第2面、以及2個(gè)以上的貫通孔。貫通孔包括位于第1面的第1凹部和位于第2面的第2凹部。蒸鍍掩模具備：掩模第1區(qū)域，其具有表示第2面所殘存的面積的比率的第1面殘存率；以及掩模第2區(qū)域，其具有表示第2面所殘存的面積的比率的第2面殘存率，第2面殘存率大于第1面殘存率。第2面殘存率大于第1面殘存率。第2面殘存率大于第1面殘存率。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置、蒸鍍裝置以及有機(jī)器件的制造方法


[0001]本公開的實(shí)施方式涉及蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置、蒸鍍裝置以及有機(jī)器件的制造方法。

技術(shù)介紹

[0002]在智能手機(jī)或平板PC等電子設(shè)備中，市場要求高精細(xì)的顯示裝置。顯示裝置例如具有400ppi以上或800ppi以上等的像素密度。
[0003]作為這樣的顯示裝置，具有響應(yīng)性良好和/或較高的對比度的有機(jī)EL顯示裝置受到關(guān)注。作為形成有機(jī)EL顯示裝置的像素的方法，已知有將構(gòu)成像素的材料蒸鍍在基板上的方法。在該情況下，首先，準(zhǔn)備蒸鍍掩模裝置，該蒸鍍掩模裝置具備包含貫通孔的蒸鍍掩模和支承蒸鍍掩模的框架。接著，在蒸鍍裝置內(nèi)，在使蒸鍍掩模與基板緊密貼合的狀態(tài)下，使有機(jī)材料或無機(jī)材料等蒸鍍材料蒸鍍。由此，蒸鍍材料附著于基板而形成蒸鍍層。蒸鍍層構(gòu)成有機(jī)EL顯示裝置的顯示區(qū)域。
[0004]在使蒸鍍材料蒸鍍于基板時(shí)，蒸鍍材料的一部分能夠附著于蒸鍍掩模的貫通孔的壁面和蒸鍍掩模的與蒸鍍源對置的面。由此，蒸鍍材料向基板的附著被貫通孔的壁面以及蒸鍍掩模的與蒸鍍源對置的面阻礙。也將該現(xiàn)象稱為陰影。為了抑制陰影的產(chǎn)生，存在蒸鍍掩模的厚度變小的傾向。由此，蒸鍍掩模的機(jī)械強(qiáng)度可能降低。
[0005]日本特開2019
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060028號公報(bào)
[0006]日本特開2005
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183153號公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

[0007]本公開的實(shí)施方式的目的在于，提供能夠提高機(jī)械強(qiáng)度的蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置、蒸鍍裝置以及有機(jī)器件的制造方法。
[0008]本公開的實(shí)施方式的蒸鍍掩模具備第1面、位于第1面的相反側(cè)的第2面、以及從第1面延伸到第2面的2個(gè)以上的貫通孔。貫通孔包括：第1凹部，其位于第1面；第2凹部，其位于第2面，與第1凹部連通；以及棱線，其與第1凹部的壁面和第2凹部的壁面連接，從第1凹部的壁面和第2凹部的壁面向貫通孔的內(nèi)側(cè)突出。棱線位于比第2面靠第1面?zhèn)鹊奈恢?。蒸鍍掩模具備：掩模?區(qū)域，其具有表示第2面所殘存的面積的比率的第1面殘存率；和掩模第2區(qū)域，其具有表示第2面所殘存的面積的比率的第2面殘存率，第2面殘存率大于第1面殘存率。
[0009]本公開的實(shí)施方式的蒸鍍掩模裝置具備：框架，其包含框架開口；以及上述的蒸鍍掩模，其被固定于框架，并且包含在俯視時(shí)與框架開口重疊的貫通孔。
[0010]本公開的實(shí)施方式的蒸鍍裝置具備：蒸鍍源，其使蒸鍍材料蒸發(fā)；以及上述的蒸鍍掩模裝置，其與蒸鍍源對置。
[0011]本公開的實(shí)施方式的有機(jī)器件的制造方法包括：使上述的蒸鍍掩模裝置的蒸鍍掩模與基板緊密貼合的工序；以及通過使蒸鍍材料通過框架開口和蒸鍍掩模的貫通孔而使蒸鍍材料蒸鍍到基板上從而形成蒸鍍層的工序。
[0012]根據(jù)本公開的實(shí)施方式，能夠提高機(jī)械強(qiáng)度。
附圖說明
[0013]圖1是示出本公開的一個(gè)實(shí)施方式的有機(jī)器件的一例的俯視圖。
[0014]圖2是示出使用本公開的一個(gè)實(shí)施方式的蒸鍍掩模裝置制作出的有機(jī)器件的元件的一例的放大俯視圖。
[0015]圖3是沿著圖2所示的有機(jī)器件的A
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A線的剖視圖。
[0016]圖4是沿著圖2所示的有機(jī)器件的B
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B線的剖視圖。
[0017]圖5是示出具備本公開的一個(gè)實(shí)施方式的蒸鍍掩模裝置的蒸鍍裝置的一例的圖。
[0018]圖6是從蒸鍍掩模的第1面?zhèn)扔^察圖5所示的蒸鍍掩模裝置的俯視圖。
[0019]圖7是示出圖6所示的掩模裝置的掩模的俯視圖。
[0020]圖8是示出圖7所示的蒸鍍掩模的第2面中的掩模第1區(qū)域的部分放大俯視圖。
[0021]圖9是沿著圖8所示的C
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C線的剖視圖。
[0022]圖10是沿著圖8所示的D
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D線的剖視圖。
[0023]圖11是沿著圖8所示的E
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E線的剖視圖。
[0024]圖12是示出圖7所示的蒸鍍掩模的第2面中的掩模第2區(qū)域的部分放大俯視圖。
[0025]圖13是沿著圖12所示的F
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F線的剖視圖。
[0026]圖14是用于整體說明圖6所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例的示意圖。
[0027]圖15是用于說明圖6所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，并且是示出在長條金屬板上形成抗蝕劑層的工序的剖視圖。
[0028]圖16是用于說明圖6所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，并且是示出使曝光掩模緊密貼合于抗蝕劑層的工序的剖視圖。
[0029]圖17是用于說明圖6所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，并且是示出對抗蝕劑層進(jìn)行顯影的工序的圖。
[0030]圖18是用于說明圖6所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，并且是示出第1蝕刻工序的圖。
[0031]圖19是用于說明圖6所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，并且是示出用樹脂覆蓋第1凹部的工序的圖。
[0032]圖20是用于說明圖6所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，并且是示出第2蝕刻工序的圖。
[0033]圖21是用于說明圖6所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，并且是示出與圖13連續(xù)的第2蝕刻工序的圖。
[0034]圖22是用于說明圖6所示的蒸鍍掩模的制造方法的一例的圖，并且是示出從長條金屬板除去樹脂的工序的圖。
[0035]圖23是示出圖8的蒸鍍掩模的變形例的部分放大俯視圖。
[0036]圖24是沿著圖23的G
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G線的剖視圖。
[0037]圖25是示出圖8的蒸鍍掩模的變形例的部分放大俯視圖。
具體實(shí)施方式
[0038]在本說明書以及本附圖中，只要沒有特別的說明，“基板”、“基材”、“板”、“片”、“膜”等表示成為某結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)的物質(zhì)的用語并不是僅基于稱呼的不同來相互區(qū)別的用語。
[0039]在本說明書以及本附圖中，只要沒有特別的說明，則對于確定形狀、幾何條件以及它們的程度的例如“平行”、“正交”等用語、以及長度、角度的值等，不限于嚴(yán)格的意思，包含可以期待同樣的功能的程度的范圍來進(jìn)行解釋。
[0040]在本說明書以及本附圖中，只要沒有特別的說明，則包括如下情況：某個(gè)部件或某個(gè)區(qū)域等某個(gè)結(jié)構(gòu)處于其他部件或其他區(qū)域等其他結(jié)構(gòu)的“上”、“下”、“上側(cè)”、“下側(cè)”、或者“上方”、“下方”；或者某個(gè)結(jié)構(gòu)與其他結(jié)構(gòu)直接接觸。進(jìn)而，也包括在某結(jié)構(gòu)與其他結(jié)構(gòu)之間包含其他結(jié)構(gòu)的情況、即間接地接觸的情況。另外，只要沒有特別的說明，則“上”、“上側(cè)”、“上方”、或者“下”、“下側(cè)”、“下方”這樣的語句的上下方向可以反轉(zhuǎn)。
[0041]在本說明書以及本附圖中，只要沒有特別的說明，則對相同部分或者具有相同功能的部分標(biāo)注相同的標(biāo)號或者類似的標(biāo)號，有時(shí)省略其重復(fù)的說明。另外，為了便于說明，附圖的尺寸比率有時(shí)與實(shí)際的比率不同，有時(shí)從附圖中省略結(jié)構(gòu)的一部分。
[0042]在本說明書以及本附圖中，本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
1.一種蒸鍍掩模，其中，所述蒸鍍掩模具備：第1面；第2面，其位于與所述第1面相反的一側(cè)；以及2個(gè)以上的貫通孔，它們從所述第1面延伸到所述第2面，所述貫通孔包括：第1凹部，其位于所述第1面；第2凹部，其位于所述第2面，與所述第1凹部連通；以及棱線，其與所述第1凹部的壁面和所述第2凹部的壁面連接，從所述第1凹部的壁面和所述第2凹部的壁面向所述貫通孔的內(nèi)側(cè)突出，所述棱線位于相比于所述第2面更靠所述第1面?zhèn)鹊奈恢?，所述蒸鍍掩模具備：掩模?區(qū)域，其具有表示所述第2面所殘存的面積的比率的第1面殘存率；和掩模第2區(qū)域，其具有表示所述第2面所殘存的面積的比率的第2面殘存率，所述第2面殘存率大于所述第1面殘存率。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其中，所述掩模第1區(qū)域具有表示所述貫通孔的面積的比率的第1開口率，所述掩模第2區(qū)域具有表示所述貫通孔的面積的比率的第2開口率，所述第2開口率小于所述第1開口率。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸鍍掩模，其中，在彼此相鄰的所述第2凹部的所述壁面之間，存在包含連接所述壁面的連接面的橫梁，所述第2凹部在俯視時(shí)被所述連接面包圍，在俯視時(shí)包圍1個(gè)所述第2凹部的所述連接面包含最靠所述第2面?zhèn)鹊淖罡唿c(diǎn)，將如下這樣的截面作為定義截面：該截面通過所述連接面的任意點(diǎn)并且與所述第1面垂直，而且通過所述棱線上的在俯視時(shí)與該點(diǎn)的距離最短的點(diǎn)，在所述定義截面中，將與所述連接面和所述棱線相接的直線作為傾斜定義直線，在所述定義截面通過所述最高點(diǎn)時(shí)，所述傾斜定義直線與所述第1面所成的角度為25
°
以上且45
°
以下。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍掩模，其中，包圍1個(gè)所述第2凹部的所述連接面包含2個(gè)以上的所述最高點(diǎn)，定義了通過2個(gè)以上的所述最高點(diǎn)中的對應(yīng)的所述最高點(diǎn)的2個(gè)以上的所述定義截面，2個(gè)以上的所述定義截面中的至少1個(gè)所述定義截面中的所述傾斜定義直線與所述第1面所成的角度為25
°
以上且45
°
以下。5.根據(jù)權(quán)利...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：宮谷勛，池永知加雄，中村陽子，井上功，
申請(專利權(quán))人：大日本印刷株式會社，
類型：發(fā)明
國別省市：