本申請涉及用于制造顯示裝置的裝置和方法以及掩模組件。用于制造顯示裝置的裝置包括：掩模組件；以及第一磁體和第二磁體，面向掩模組件，掩模組件包括：掩模框架，包括開口；以及掩模片，設置在掩模框架上，掩模片包括：第一主體部分，包括第一開口；以及第二主體部分，連接到第一主體部分并且包括第二開口，并且第二主體部分與第一磁體和第二磁體中的每一個的至少一部分重疊。至少一部分重疊。至少一部分重疊。
【技術實現步驟摘要】
掩模組件以及制造顯示裝置的裝置和方法
[0001]相關申請的交叉引用
[0002]本申請要求于2021年4月21日在韓國知識產權局提交的第10
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2021
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0051828號韓國專利申請的優先權和權益，所述韓國專利申請的全部內容通過引用并入本文中。
[0003]一個或多個實施方式涉及裝置和方法，并且涉及掩模組件以及制造顯示裝置的裝置和方法。
技術介紹
[0004]移動電子裝置被廣泛使用。除了諸如移動電話的小型化電子裝置之外，作為移動電子裝置的平板個人計算機(PC)近來已經被廣泛使用。
[0005]為了支持各種功能，移動電子裝置包括向用戶提供諸如圖像的可視信息的顯示裝置。近來，因為驅動顯示裝置的部件被小型化，所以電子裝置中的顯示裝置的比例逐漸增加，并且還正在研發可從平坦狀態彎曲成一定角度的結構。
[0006]應當理解，該
技術介紹
部分旨在部分地為理解該技術提供有用的背景。然而，該
技術介紹
部分還可以包括在本文中所公開的主題的相應有效申請日之前不是相關領域的技術人員已知或理解的部分的思想、構思或認識。
技術實現思路
[0007]通常，為了在制造顯示裝置的同時沉積精確的圖案，例如，可以通過使用磁體將顯示襯底緊密附接到包括掩模片的掩模組件。由于在掩模片內存在有效體積差，可以由于磁力而產生排斥力，并且可以由于排斥力而降低沉積精度。
[0008]因此，一個或多個實施方式包括具有改善的制造裝置的沉積精度的掩模組件以及制造具有精確圖案的顯示裝置的方法以及制造顯示裝置的裝置和方法。然而，這種技術問題是示例，并且本公開不限于此。
[0009]另外的方面將部分地在隨后的描述中闡述，并且部分地將從描述中顯而易見，或者可以通過實施本公開來習得。
[0010]根據一個或多個實施方式，用于制造顯示裝置的裝置可以包括：掩模組件；以及第一磁體和第二磁體，面向掩模組件，其中掩模組件可以包括：掩模框架，包括開口；以及掩模片，設置在掩模框架上，掩模片可以包括：第一主體部分，包括第一開口；以及第二主體部分，連接到第一主體部分并且包括第二開口，并且第二主體部分與第一磁體和第二磁體中的每一個的至少一部分重疊。
[0011]第一磁體可以在掩模片的長度方向上與第二磁體間隔開。
[0012]掩模組件可以包括在與掩模片的長度方向相交的方向上延伸并且支承掩模片的支承框架。
[0013]在平面圖中，第二主體部分可以與支承框架的至少一部分重疊。
[0014]平面圖中，第一開口的面積可以與第二開口的面積不同。
[0015]第一主體部分的上表面的每單位面積的第一主體部分的第一開口的數量可以大于第二主體部分的上表面的每單位面積的第二主體部分的第二開口的數量。
[0016]掩模片可以包括連接到第一主體部分并且包括第三開口的第三主體部分。
[0017]第三主體部分可以不與支承框架重疊。
[0018]第三主體部分的上表面的每單位面積的第三主體部分的第三開口的數量可以等于第二主體部分的上表面的每單位面積的第二主體部分的第二開口的數量。
[0019]第二主體部分和第三主體部分可以設置在直線上。
[0020]第二主體部分可以在掩模片的長度方向上具有第一寬度，并且第三主體部分可以在掩模片的長度方向上具有小于第二主體部分的第一寬度的第二寬度。
[0021]根據一個或多個實施方式，掩模組件可以包括：掩模框架，包括開口；掩模片，設置在掩模框架上；以及支承框架，在與掩模片的長度方向相交的方向上延伸，支承框架支承掩模片，其中，掩模片可以包括：第一主體部分，包括第一開口；以及第二主體部分，連接到第一主體部分并且包括第二開口，并且在平面圖中，第二主體部分與支承框架的至少一部分重疊。
[0022]在平面圖中，第一開口的面積可以與第二開口的面積不同。
[0023]第一主體部分的上表面的每單位面積的第一主體部分的第一開口的數量可以大于第二主體部分的上表面的每單位面積的第二主體部分的第二開口的數量。
[0024]掩模片可以包括連接到第一主體部分并且包括第三開口的第三主體部分。
[0025]在平面圖中，第三主體部分可以不與支承框架重疊。
[0026]第二主體部分可以在掩模片的長度方向上具有第一寬度，并且第三主體部分可以在掩模片的長度方向上具有小于第二主體部分的第一寬度的第二寬度。
[0027]根據一個或多個實施方式，制造顯示裝置的方法可以包括：將顯示襯底和掩模組件設置在室內；以及通過掩模組件將沉積材料沉積在顯示襯底上，其中，掩模組件可以包括：掩模框架，包括開口；掩模片，設置在掩模框架上；以及支承框架，在與掩模片的長度方向相交的方向上延伸并支承掩模片，掩模片可以包括：第一主體部分，包括第一開口；以及第二主體部分，連接到第一主體部分并且包括第二開口，并且在平面圖中，第二主體部分與支承框架的至少一部分重疊。
[0028]掩模片可以包括連接到第一主體部分并且包括第三開口的第三主體部分。
[0029]第二主體部分可以在掩模片的長度方向上具有第一寬度，并且第三主體部分可以在掩模片的長度方向上具有小于第二主體部分的第一寬度的第二寬度。
[0030]根據實施方式的以下描述、附圖和權利要求，這些和/或其它方面將變得顯而易見并且更容易理解。
附圖說明
[0031]從以下結合附圖的描述中，本公開的實施方式的以上和其它方面、特征和優點將變得更加明顯，在附圖中：
[0032]圖1是根據實施方式的顯示裝置的示意性立體圖；
[0033]圖2是沿著圖1的線I
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I'截取的根據實施方式的顯示裝置的示意性剖視圖；
[0034]圖3是根據實施方式的布置或設置在顯示裝置的第一顯示區域和第二顯示區域中的子像素和透射區域的配置的示意性平面圖；
[0035]圖4是沿著圖3的線II
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II'和線III
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III'截取的根據實施方式的顯示裝置的示意性剖視圖；
[0036]圖5是根據實施方式的用于制造顯示裝置的裝置的示意性剖視圖；
[0037]圖6是圖5中所示的掩模組件的示意性立體圖；
[0038]圖7是圖6中所示的掩模片的示意性平面圖；
[0039]圖8是與圖7的區域A對應的根據實施方式的用于制造顯示裝置的裝置的掩模片的一部分的放大圖；
[0040]圖9是與圖7的區域B對應的根據實施方式的用于制造顯示裝置的裝置的掩模片的一部分的放大圖；
[0041]圖10是與圖7的區域C對應的根據實施方式的用于制造顯示裝置的裝置的掩模片的一部分的放大圖；以及
[0042]圖11是根據實施方式的用于制造顯示裝置的裝置的示意性平面圖。
具體實施方式
[0043]現在將詳細參考實施方式，附圖中示出了實施方式的示例，其中，相同的附圖標記始終表示相同的元件。在這一點上，實施方式可以具有不同的形式本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.用于制造顯示裝置的裝置，所述裝置包括：掩模組件；以及第一磁體和第二磁體，面向所述掩模組件，其中，所述掩模組件包括：掩模框架，包括開口；以及掩模片，設置在所述掩模框架上，所述掩模片包括：第一主體部分，包括第一開口；以及第二主體部分，連接到所述第一主體部分并且包括第二開口，以及所述第二主體部分與所述第一磁體和所述第二磁體中的每一個的至少一部分重疊。2.根據權利要求1所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，所述第一磁體在所述掩模片的長度方向上與所述第二磁體間隔開。3.根據權利要求2所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，所述掩模組件包括在與所述掩模片的所述長度方向相交的方向上延伸的支承框架，所述支承框架支承所述掩模片。4.根據權利要求3所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，在平面圖中，所述第二主體部分與所述支承框架的至少一部分重疊。5.根據權利要求4所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，在平面圖中，所述第一開口的面積與所述第二開口的面積不同。6.根據權利要求5所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，所述第一主體部分的上表面的每單位面積的所述第一主體部分的所述第一開口的數量大于所述第二主體部分的上表面的每單位面積的所述第二主體部分的所述第二開口的數量。7.根據權利要求4所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，所述掩模片包括連接到所述第一主體部分并且包括第三開口的第三主體部分。8.根據權利要求7所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，所述第三主體部分不與所述支承框架重疊。9.根據權利要求7所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，所述第三主體部分的上表面的每單位面積的所述第三主體部分的所述第三開口的數量等于所述第二主體部分的上表面的每單位面積的所述第二主體部分的所述第二開口的數量。10.根據權利要求7所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，所述第二主體部分和所述第三主體部分設置在直線上。11.根據權利要求7所述的用于制造顯示裝置的裝置，其中，所述第二主體部分在所述掩模片的所述長度方向上具有第一寬度，以及所述第三主體部分在所述掩模片的所述長度方向上具有小于所述第二主體部分的所述第一寬度的第二寬度。12....
【專利技術屬性】
技術研發人員：李丞賑，金相勳，文在晳，樸鐘圣，安鼎鉉，
申請(專利權)人：三星顯示有限公司，
類型：發明
國別省市：
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