本申請(qǐng)公開(kāi)了一種高速分散均質(zhì)機(jī)，包括底座、支撐桿、升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)和均質(zhì)機(jī)頭，支撐桿與底座固定連接，均質(zhì)機(jī)頭與支撐桿之間通過(guò)升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)連接，升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括升降座，均質(zhì)機(jī)頭與升降座之間沿豎直方向滑移連接，升降座設(shè)有用于阻礙均質(zhì)機(jī)頭向下滑移脫離升降座的下止件。本申請(qǐng)中當(dāng)需要將容器放置于底座或從底座取下時(shí)，可使均質(zhì)機(jī)頭向上滑移避讓移動(dòng)中的容器，當(dāng)容器移動(dòng)后再使均質(zhì)機(jī)頭復(fù)位，有利于提升均質(zhì)機(jī)頭升降的操作效率。于提升均質(zhì)機(jī)頭升降的操作效率。于提升均質(zhì)機(jī)頭升降的操作效率。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種高速分散均質(zhì)機(jī)
[0001]本申請(qǐng)涉及攪拌混合設(shè)備的領(lǐng)域，尤其是涉及一種高速分散均質(zhì)機(jī)。
技術(shù)介紹
[0002]高速分散均質(zhì)機(jī)是一種兼有攪拌、搗碎、乳化等多種功能的設(shè)備，本均質(zhì)機(jī)具有轉(zhuǎn)速高，運(yùn)轉(zhuǎn)穩(wěn)定，噪音小，分散均質(zhì)效果好等特性。高速分散均質(zhì)機(jī)廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)試驗(yàn)、化工制藥、生物制品、食品加工等領(lǐng)域。在糖果生產(chǎn)中，需要使用高速分散均質(zhì)機(jī)對(duì)添加進(jìn)糖果中的營(yíng)養(yǎng)物質(zhì)進(jìn)行分散均質(zhì)處理，使?fàn)I養(yǎng)物質(zhì)在糖果中的分布更為均勻。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中的常見(jiàn)的高速分散均質(zhì)機(jī)主要包括底座、支撐桿和均質(zhì)機(jī)頭，均質(zhì)機(jī)頭與支撐桿之間通過(guò)升降調(diào)節(jié)件連接，通過(guò)升降調(diào)節(jié)組件可控制均質(zhì)機(jī)頭升降，在將容器放置于底座或從底座取下的過(guò)程中，均需要使均質(zhì)機(jī)頭進(jìn)行升降，使均質(zhì)機(jī)頭的執(zhí)行部件避讓移動(dòng)中的容器，均質(zhì)機(jī)頭的升降過(guò)程需要一定的操作時(shí)間，對(duì)于需要連續(xù)進(jìn)行分散均質(zhì)的工作則較為影響效率。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
[0004]為了解決高速均質(zhì)分散作業(yè)過(guò)程中升降均質(zhì)機(jī)頭影響工作效率的問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N高速分散均質(zhì)機(jī)。
[0005]本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N高速分散均質(zhì)機(jī)采用如下的技術(shù)方案：
[0006]一種高速分散均質(zhì)機(jī)，包括底座、支撐桿、升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)和均質(zhì)機(jī)頭，所述支撐桿與所述底座固定連接，所述均質(zhì)機(jī)頭與所述支撐桿之間通過(guò)所述升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)連接，所述升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括升降座，所述均質(zhì)機(jī)頭與所述升降座之間沿豎直方向滑移連接，所述升降座設(shè)有用于阻礙所述均質(zhì)機(jī)頭向下滑移脫離所述升降座的下止件。
[0007]通過(guò)采用上述技術(shù)方案，均質(zhì)機(jī)頭與升降座沿豎直方向滑移連接，升降座的下止件阻礙均質(zhì)機(jī)頭向下脫離升降座，使均質(zhì)機(jī)頭與升降座之間保持一定的相對(duì)高度；當(dāng)需要將容器放置于底座或從底座取下時(shí)，可使均質(zhì)機(jī)頭向上滑移避讓移動(dòng)中的容器，當(dāng)容器移動(dòng)后再使均質(zhì)機(jī)頭復(fù)位，上述過(guò)程中，均質(zhì)機(jī)頭上下移動(dòng)的過(guò)程方便快捷，且均質(zhì)機(jī)頭的下止點(diǎn)位置受到下止件的限位作用，無(wú)需通過(guò)目視監(jiān)測(cè)均質(zhì)機(jī)頭的下端與容器內(nèi)的物料的相對(duì)位置，有利于提升均質(zhì)機(jī)頭升降的操作效率。
[0008]可選的，均質(zhì)機(jī)頭靠近所述升降座的一側(cè)設(shè)有滑塊，所述升降座設(shè)有沿豎直方向延伸的滑槽，所述滑塊與所述滑槽沿豎直方向滑移連接，所述滑槽的下端封閉設(shè)置，所述滑槽下端的側(cè)壁作為所述下止件。
[0009]通過(guò)采用上述技術(shù)方案，均質(zhì)機(jī)頭通過(guò)滑塊與升降座的滑槽滑移連接，滑槽下端的側(cè)壁作為下止件，下止件對(duì)均質(zhì)機(jī)頭的限位作用較為穩(wěn)定可靠。
[0010]可選的，所述滑塊固定連接有第一磁體，所述升降座的下表面設(shè)有第二磁體，所述第二磁體用于迫使所述第一磁體靠近所述滑槽下端的側(cè)壁。
[0011]通過(guò)采用上述技術(shù)方案，第二磁體通過(guò)磁吸力迫使第一磁體靠近滑槽下端的側(cè)
壁，使均質(zhì)機(jī)頭處于工作狀態(tài)時(shí)的位置較為穩(wěn)定。
[0012]可選的，所述第二磁體與所述升降座轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述第二磁體與所述升降座之間的旋轉(zhuǎn)中心線(xiàn)豎直設(shè)置，所述第二磁體的兩個(gè)磁極沿水平方向錯(cuò)位設(shè)置，所述第一磁體的兩個(gè)磁極沿水平方向錯(cuò)位設(shè)置。
[0013]通過(guò)采用上述技術(shù)方案，第二磁體可相對(duì)升降座轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)?shù)诙朋w轉(zhuǎn)動(dòng)至自身的兩個(gè)磁極互換方向時(shí)，第二磁體與第一磁體之間產(chǎn)生磁斥力，從而使均質(zhì)機(jī)頭較為易于向上提起。
[0014]可選的，所述均質(zhì)機(jī)頭靠近所述升降座一側(cè)的側(cè)面設(shè)為平面，所述均質(zhì)機(jī)頭的平面用于封閉所述滑槽位于所述滑塊下方的區(qū)域。
[0015]通過(guò)采用上述技術(shù)方案，均質(zhì)機(jī)頭的平面封閉滑槽位于滑塊下方的區(qū)域，當(dāng)滑塊相對(duì)滑槽滑移時(shí)，滑塊作近似活塞的運(yùn)動(dòng)，從而使滑塊的移動(dòng)受到緩沖作用，從而減少均質(zhì)機(jī)頭向下移動(dòng)復(fù)位時(shí)的沖擊力。
[0016]可選的，所述支撐桿與所述升降座沿豎直方向滑移連接，所述升降座設(shè)有蝸輪和蝸桿，所述蝸輪與所述升降座轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述蝸桿與所述升降座轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述蝸輪與所述蝸桿互相嚙合，所述蝸輪的軸線(xiàn)與支撐桿的長(zhǎng)度方向垂直，所述支撐桿設(shè)有齒條，所述齒條的長(zhǎng)度方向沿所述支撐桿的長(zhǎng)度方向，所述蝸輪與所述齒條嚙合，所述蝸桿連接有手柄。
[0017]通過(guò)采用上述技術(shù)方案，通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)手柄可帶動(dòng)蝸桿和蝸輪轉(zhuǎn)動(dòng)，蝸輪與齒條相互嚙合，使蝸輪轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)可帶動(dòng)升降座進(jìn)行升降移動(dòng)；通過(guò)使升降座移動(dòng)，使均質(zhì)機(jī)頭與底座之間的最小間距發(fā)生變化，從而使均質(zhì)機(jī)頭可適用于不同高度的容器。
[0018]可選的，所述手柄包括第一手柄桿，所述第一手柄桿與所述蝸桿垂直，所述第一手柄桿遠(yuǎn)離所述蝸桿的一端設(shè)有第二手柄桿，所述第二手柄桿與所述蝸桿平行，所述第一手柄桿設(shè)供所述第二手柄桿穿設(shè)的通孔，所述第二手柄桿靠近升降座的一端設(shè)為刀口狀，所述升降座靠近所述手柄一側(cè)的表面設(shè)有環(huán)繞所述第一手柄桿的防滑紋，所述防滑紋的紋路沿所述第一手柄桿的徑向設(shè)置，所述防滑紋供所述第二手柄桿靠近所述升降座的一端抵接。
[0019]通過(guò)采用上述技術(shù)方案，當(dāng)?shù)诙直鷹U設(shè)為刀口狀的一端抵接防滑紋時(shí)，防滑紋可阻礙第一手柄桿帶動(dòng)第二手柄桿旋轉(zhuǎn)，從而使升降座與支撐桿之間的相對(duì)位置更為穩(wěn)固。
[0020]可選的，所述第二手柄桿的表面涂覆有橡膠涂層，所述第二手柄桿與所述通孔的內(nèi)周壁之間具有摩擦阻尼。
[0021]通過(guò)采用上述技術(shù)方案，第二手柄桿與通孔內(nèi)周壁之間的摩擦阻尼，有利于使第二手柄桿保持抵接防滑紋的狀態(tài)。
[0022]綜上所述，本申請(qǐng)包括以下至少一種有益技術(shù)效果：
[0023]當(dāng)需要將容器放置于底座或從底座取下時(shí)，可使均質(zhì)機(jī)頭向上滑移避讓移動(dòng)中的容器，當(dāng)容器移動(dòng)后再使均質(zhì)機(jī)頭復(fù)位，上述過(guò)程中，均質(zhì)機(jī)頭上下移動(dòng)的過(guò)程方便快捷，且均質(zhì)機(jī)頭的下止點(diǎn)位置受到下止件的限位作用，無(wú)需通過(guò)目視監(jiān)測(cè)均質(zhì)機(jī)頭的下端與容器內(nèi)的物料的相對(duì)位置，有利于提升均質(zhì)機(jī)頭升降的操作效率；
[0024]第二磁體通過(guò)磁吸力迫使第一磁體靠近滑槽下端的側(cè)壁，使均質(zhì)機(jī)頭處于工作狀態(tài)時(shí)的位置較為穩(wěn)定。
附圖說(shuō)明
[0025]圖1是本實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖2是本實(shí)施例用于體現(xiàn)第一磁體和第二磁體的安裝位置的剖視圖。
[0027]圖3是圖2中A處的局部放大視圖。
[0028]圖4是本實(shí)施例用于體現(xiàn)升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0029]附圖標(biāo)記說(shuō)明：1、底座；2、支撐桿；3、升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)；31、升降座；311、滑槽；312、下止件；313、安裝槽；314、蓋板；315、防滑紋；32、蝸輪；33、蝸桿；4、均質(zhì)機(jī)頭；41、機(jī)頭主體；411、滑塊；42、分散執(zhí)行部；5、第一磁體；6、第二磁體；61、轉(zhuǎn)軸；611、環(huán)槽；7、定位螺絲；8、齒條；9、手柄；91、第一手柄桿；911、通孔；92、第二手柄桿。
具體實(shí)施方式
[0030]以下結(jié)合附圖1
?
4對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0031]本申請(qǐng)實(shí)施例公開(kāi)一種高速分散均質(zhì)機(jī)。參照?qǐng)D1，高速分散均質(zhì)機(jī)包括底座1、支撐桿2、升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3和均質(zhì)機(jī)頭4，支撐桿2與底座1固定連接，均質(zhì)機(jī)頭4與支撐桿2之間通過(guò)升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3連接，升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)3包括升降座本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
【技術(shù)特征摘要】
1.一種高速分散均質(zhì)機(jī)，包括底座(1)、支撐桿(2)、升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(3)和均質(zhì)機(jī)頭(4)，所述支撐桿(2)與所述底座(1)固定連接，所述均質(zhì)機(jī)頭(4)與所述支撐桿(2)之間通過(guò)所述升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(3)連接，所述升降調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)(3)包括升降座(31)，其特征在于：所述均質(zhì)機(jī)頭(4)與所述升降座(31)之間沿豎直方向滑移連接，所述升降座(31)設(shè)有用于阻礙所述均質(zhì)機(jī)頭(4)向下滑移脫離所述升降座(31)的下止件(312)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高速分散均質(zhì)機(jī)，其特征在于：均質(zhì)機(jī)頭(4)靠近所述升降座(31)的一側(cè)設(shè)有滑塊(411)，所述升降座(31)設(shè)有沿豎直方向延伸的滑槽(311)，所述滑塊(411)與所述滑槽(311)沿豎直方向滑移連接，所述滑槽(311)的下端封閉設(shè)置，所述滑槽(311)下端的側(cè)壁作為所述下止件(312)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高速分散均質(zhì)機(jī)，其特征在于：所述滑塊(411)固定連接有第一磁體(5)，所述升降座(31)的下表面設(shè)有第二磁體(6)，所述第二磁體(6)用于迫使所述第一磁體(5)靠近所述滑槽(311)下端的側(cè)壁。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種高速分散均質(zhì)機(jī)，其特征在于：所述第二磁體(6)與所述升降座(31)轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述第二磁體(6)與所述升降座(31)之間的旋轉(zhuǎn)中心線(xiàn)豎直設(shè)置，所述第二磁體(6)的兩個(gè)磁極沿水平方向錯(cuò)位設(shè)置，所述第一磁體(5)的兩個(gè)磁極沿水平方向錯(cuò)位設(shè)置。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高速分散均質(zhì)機(jī)，其特征在于：所述均質(zhì)機(jī)頭(4)靠近所述升降座(31)一側(cè)的側(cè)面設(shè)為平面，所述均質(zhì)機(jī)頭(4)的平面用于...
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：王海彬，張燦文，張培彬，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：泉州麗高食品有限公司，
類(lèi)型：新型
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