一種掩膜板及其制備方法、顯示面板的制備裝置制造方法及圖紙

本公開提供一種掩膜板及其制備方法、顯示面板的制備裝置，屬于顯示器件制備技術領域，其中，掩膜板包括主體部；主體部上設置有陣列排布的多個開孔；主體部具有由相鄰行開孔之間的最小間距所限定出的第一區域，以及由相鄰列開孔之間的最小間距所限定出的第二區域；在主體部沿行方向的兩側設置有與第一區域對應的第一夾持部；在主體部沿列方向的兩側設置有與第二區域對應的第二夾持部；第一夾持部的寬度不小于相鄰兩行的開孔之間的最短距離；第二夾持部的寬度不小于相鄰兩列的開孔之間的最短距離；第一區域和第二區域交叉設置限定出多個開孔區；開孔設置在開孔區，且主體部在第一區域和第二區域的厚度均大于在開孔區的厚度。域和第二區域的厚度均大于在開孔區的厚度。域和第二區域的厚度均大于在開孔區的厚度。

【技術實現步驟摘要】
一種掩膜板及其制備方法、顯示面板的制備裝置


[0001]本公開屬于顯示器件制備
，具體涉及一種掩膜板及其制備方法、顯示面板的制備裝置。

技術介紹

[0002]目前，有機電致發光器件(Organic Electroluminescence Display，OLED)顯示面板的應用領域及產品形態逐漸趨向于多元化發展，在一些顯示產品中例如包括劉海屏、水滴屏和圓形屏等異形屏幕，但異形屏幕在制備過程中存在難點。例如，在OLED顯示面板的制作過程中，需要真空蒸鍍技術形成顯示面板中的電致發光(Electro Luminescent，EL)膜層(以下簡稱EL膜層)。蒸鍍工藝使用精細金屬掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)控制紅R、綠G、藍B像素發光材料的蒸鍍位置。傳統的金屬掩膜板組件制作過程中，支撐掩膜板(F
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mask)和精細金屬掩膜板(FMM)分別進行張網工藝，拉伸后激光焊接到金屬框架(Frame)上組裝成一張完整的掩膜板。然而，異形屏存在不規則開口形狀，相應地，支撐掩膜板(F
?
mask)也要具備與異形屏對應的不規則開口形狀，那么在進行張網工藝時，支撐掩膜板(F
?
mask)的張網過程容易因應力分布不均產生褶皺變形，例如支撐掩膜板局部上翹或下垂，從而影響EL膜層蒸鍍效果。

技術實現思路

[0003]本公開旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提供一種掩膜板及其制備方法、顯示面板的制備裝置，能夠有效改善掩膜板(也即支撐掩膜板)產生褶皺變形的問題，提高EL膜層蒸鍍效果。
[0004]第一方面，為了解決本公開的技術問題提供了一種掩膜板，其包括主體部；所述主體部上設置有陣列排布的多個開孔；
[0005]所述主體部具有由相鄰行所述開孔之間的最小間距所限定出的第一區域，以及由相鄰列所述開孔之間的最小間距所限定出的第二區域；
[0006]在所述主體部沿行方向的兩側設置有與所述第一區域對應的第一夾持部；在所述主體部沿列方向的兩側設置有與所述第二區域對應的第二夾持部；
[0007]所述第一夾持部的寬度不小于相鄰兩行的所述開孔之間的最短距離；所述第二夾持部的寬度不小于相鄰兩列的所述開孔之間的最短距離；
[0008]所述第一區域和所述第二區域交叉設置限定出多個開孔區；所述開孔設置在所述開孔區，且所述主體部在所述第一區域和所述第二區域的厚度均大于在所述開孔區的厚度。
[0009]在一些實施例中，所述第一夾持部的寬度等于相鄰兩行的所述開孔之間的最短距離；所述第二夾持部的寬度等于相鄰兩列的所述開孔之間的最短距離。
[0010]在一些實施例中，所述主體部在所述第一區域和所述第二區域為雙層結構，且在所述開孔區為單層結構，且所述單層結構與所述雙層結構中的一層結構連接為一體結構。
[0011]在一些實施例中，所述主體部包括疊層設置的第一介質層和第二介質層，且所述第一介質層在所述開孔區具有第一開口，所述第二介質層的部分結構位于所述第一開口內，并限定出所述開孔。
[0012]在一些實施例中，所述主體部在所述開孔區的厚度位于0.01mm～0.1mm之間。
[0013]在一些實施例中，所述主體部、所述第一夾持部和所述第二夾持部為一體結構。
[0014]在一些實施例中，所述主體部在所述第一區域和所述第二區域的厚度相等。
[0015]在一些實施例中，所述主體部在所述第一區域和在所述第二區域的厚度均位于0.1mm～2mm之間。
[0016]在一些實施例中，所述開孔的輪廓形狀為以下至少一種：圓形、水滴形、三角形、五邊形、六邊形或八邊形。
[0017]第二方面，本公開實施例還提供了一種掩膜板的制備方法，其用于制備如上述實施例中任一項所述的掩膜板，所述掩膜板的制備方法包括：
[0018]形成主體結構；
[0019]在所述主體結構上形成陣列排布的多個開孔，得到主體部；所述主體部具有相鄰兩行的所述開孔在其最短距離之間的第一區域、以及相鄰兩列的所述開孔在其最短距離之間的第二區域、所述第一區域和所述第二區域交叉設置限定出的多個開孔區，所述開孔位于所述開孔區；所述主體部在所述第一區域和所述第二區域的厚度均大于在所述開孔區的厚度；
[0020]在所述主體部沿行方向的兩側形成與所述第一區域對應的第一夾持部；在所述主體部沿列方向的兩側形成與所述第二區域對應的第二夾持部；所述第一夾持部的寬度不小于相鄰兩行的所述開孔之間的最短距離；所述第二夾持部的寬度不小于相鄰兩列的所述開孔之間的最短距離。
[0021]在一些實施例中，所述形成主體結構，包括：
[0022]形成襯底基板，并在所述襯底基板上形成粘結結構；
[0023]在所述粘結結構背離所述襯底基板的一側形成主體結構；
[0024]所述在所述主體結構上形成陣列排布的多個開孔，得到主體部，包括：
[0025]形成貫穿所述主體結構和所述粘結結構、且陣列排布的多個第一開口；將具有所述第一開口的主體結構作為第一介質層；
[0026]在第一開口所述第一介質層背離所述襯底基板的一側、以及所述第一開口對應的部分所述襯底基板上涂覆光刻膠，并曝光顯影形成位于所述第一開口內的光刻膠圖案；
[0027]在所述第一介質層第一開口背離所述襯底基板的一側、以及所述第一開口除所述光刻膠圖案對應的部分所述襯底基板上形成第二介質層；
[0028]依次去除所述光刻膠圖案、所述襯底基板和所述粘結結構，形成所述主體部；所述主體部包括第一介質層和第二介質層，且所述第一介質層在所述開孔區具有第一開口，所述第二介質層的部分結構位于所述第一開口內，并限定出所述開孔。
[0029]在一些實施例中，所述第二介質層厚度位于0.01mm～0.1mm之間。
[0030]在一些實施例中，所述在所述主體結構上形成陣列排布的多個開孔，得到主體部，包括：
[0031]在所述主體結構的厚度方向的兩側分別涂覆光刻膠，其中一側進行曝光顯影形成
第一光刻膠圖案，另一側進行曝光顯影形成第二光刻膠圖案；
[0032]按照所述第一光刻膠圖案刻蝕所述主體結構，得到位于開孔區的主體部，所述主體部在所述第一區域和所述第二區域的厚度均大于在所述開孔區的厚度；以及，按照所述第二光刻膠圖案刻蝕所述主體結構形成開孔，得到所述主體部。
[0033]第三方面，本公開實施例還提供了一種顯示面板的制備裝置，其包括如上述實施例中任一項所述的掩膜板。
附圖說明
[0034]圖1為支撐掩膜板在張網過程的應力分布示意圖；
[0035]圖2為支撐掩膜板發生褶皺變形的示意圖；
[0036]圖3為本公開實施例提供的一種掩膜板的結構示意圖；
[0037]圖4a為本公開實施例提供的劉海屏的示意圖；
[0038]圖4b為本公開實施例提供的圓形屏的示意圖；
[0039]圖4c為本公開實施例提供的水滴屏的示意圖；
...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種掩膜板，其包括主體部；所述主體部上設置有陣列排布的多個開孔；所述主體部具有由相鄰行所述開孔之間的最小間距所限定出的第一區域，以及由相鄰列所述開孔之間的最小間距所限定出的第二區域；在所述主體部沿行方向的兩側設置有與所述第一區域對應的第一夾持部；在所述主體部沿列方向的兩側設置有與所述第二區域對應的第二夾持部；所述第一夾持部的寬度不小于相鄰兩行的所述開孔之間的最短距離；所述第二夾持部的寬度不小于相鄰兩列的所述開孔之間的最短距離；所述第一區域和所述第二區域交叉設置限定出多個開孔區；所述開孔設置在所述開孔區，且所述主體部在所述第一區域和所述第二區域的厚度均大于在所述開孔區的厚度。2.根據權利要求1所述的掩膜板，其中，所述第一夾持部的寬度等于相鄰兩行的所述開孔之間的最短距離；所述第二夾持部的寬度等于相鄰兩列的所述開孔之間的最短距離。3.根據權利要求1所述的掩膜板，其中，所述主體部在所述第一區域和所述第二區域為雙層結構，且在所述開孔區為單層結構，且所述單層結構與所述雙層結構中的一層結構連接為一體結構。4.根據權利要求1所述的掩膜板，其中，所述主體部包括疊層設置的第一介質層和第二介質層，且所述第一介質層在所述開孔區具有第一開口，所述第二介質層的部分結構位于所述第一開口內，并限定出所述開孔。5.根據權利要求1所述的掩膜板，其中，所述主體部在所述開孔區的厚度位于0.01mm～0.1mm之間。6.根據權利要求1所述的掩膜板，其中，所述主體部、所述第一夾持部和所述第二夾持部為一體結構。7.根據權利要求1所述的掩膜板，其中，所述主體部在所述第一區域和所述第二區域的厚度相等。8.根據權利要求7所述的掩膜板，其中，所述主體部在所述第一區域和在所述第二區域的厚度均位于0.1mm～2mm之間。9.根據權利要求1～8中任一項所述的掩膜板，其中，所述開孔的輪廓形狀為以下至少一種：圓形、水滴形、三角形、五邊形、六邊形或八邊形。10.一種掩膜板的制備方法，其用于制備如權利要求1～9中任一項所述的掩膜板，所述掩膜板的制備方法包括：形成主體結構；在所述主體結構上形成陣列排布的多個開孔，得到主體部；所述主體部具有相鄰兩行的所述開孔在其最短距離之間的第一區域、以及相鄰兩列的所述開孔在其最...

【專利技術屬性】
技術研發人員：畢娜，白珊珊，沈闊，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：