蒸鍍掩模制造技術

提供能夠抑制纖維向蒸鍍掩模附著的蒸鍍掩模。本發明專利技術的蒸鍍掩模為金屬制的蒸鍍掩模(10)。具備柵格構造(10M)，該柵格構造(10M)具備表面(10F)以及背面，且具有劃分多個掩模孔(10H)的二維的網眼狀，該多個掩模孔將位于表面(10F)的大開口(HL)與位于背面的小開口連接。在表面(10F)中，彼此相鄰的大開口(HL)的邊界處的以JIS B 0601：2013為基準的算術平均粗糙度Ra為1.35μm以下，邊界處的以JIS B 0601：2013為基準的最大高度Rz為6.8μm以下。2013為基準的最大高度Rz為6.8μm以下。2013為基準的最大高度Rz為6.8μm以下。

【技術實現步驟摘要】
蒸鍍掩模


[0001]本專利技術涉及蒸鍍掩模。

技術介紹

[0002]在有機EL設備所具備的有機EL元件的形成時使用利用了蒸鍍掩模的真空蒸鍍。蒸鍍掩模由非常薄的金屬板形成。量產的蒸鍍掩模的厚度例如包括50μm以下的部分。在輸送蒸鍍掩模時，蒸鍍掩模收容于蒸鍍掩模用殼體以抑制蒸鍍掩模的變形(例如參照專利文獻1)。
[0003]現有技術文獻
[0004]專利文獻
[0005]專利文獻1：日本技術登記第3207895號

技術實現思路

[0006]專利技術所要解決的課題
[0007]然而，蒸鍍掩模以在蒸鍍掩模的厚度方向上被一對無塵紙夾住的狀態收容于蒸鍍掩模用殼體。在將蒸鍍掩模向蒸鍍掩模用殼體收容時、將蒸鍍掩模用殼體輸送時、以及將蒸鍍掩模從蒸鍍掩模用殼體中取出時，在蒸鍍掩模與無塵紙之間產生摩擦。在蒸鍍掩模與無塵紙之間產生的摩擦使被蒸鍍掩模的表面掛住的纖維作為異物附著于蒸鍍掩模。
[0008]本專利技術的目的在于提供能夠抑制纖維向蒸鍍掩模附著的蒸鍍掩模。
[0009]用于解決課題的手段
[0010]用于解決上述課題的蒸鍍掩模為金屬制的蒸鍍掩模，所述蒸鍍掩模具備柵格構造，該柵格構造具備表面以及背面，且具有劃分出多個掩模孔的二維的網眼狀，該多個掩模孔連接位于所述表面的大開口與位于所述背面的小開口，在所述表面中，彼此相鄰的大開口的邊界處的以JIS B 0601：2013為基準的算術平均粗糙度Ra為1.35μm以下，所述邊界處的以JIS B 0601：2013為基準的最大高度Rz為6.8μm以下。
[0011]用于形成蒸鍍掩模的金屬板所具有的表面粗糙度通常被設定得充分小以獲得金屬板與抗蝕劑的緊貼性。另一方面，形成有掩模孔之后的金屬板的表面粗糙度、即蒸鍍掩模的表面粗糙度以掩模孔所具有的階差的量具有較大的階差。而且，表面中的大開口之間的距離比背面中的小開口之間的距離短，因此每單位長度的表面中的階差容易比每單位長度的背面中的階差大。換言之，在掩模孔的加工前為充分平坦的金屬板的面，在柵格構造的表面中比在背面中殘留少，在柵格構造的表面中，與背面相比表面粗糙度變大作為階差的要因的掩模孔的區域拓寬的量。關于這一點，只要在表面粗糙度較大的柵格構造的表面中，算術平均粗糙度Ra為1.35μm以下，則能夠在柵格構造的表面以及背面雙方抑制纖維的附著。結果，能夠抑制纖維向蒸鍍掩模附著。
[0012]此外，粗糙度曲線的最大高度Rz為最大峰高Rp與最大谷深Rv之和。因此，最大高度Rz越大，蒸鍍掩模的表面越容易具有將形成無塵紙的纖維掛住的峰部，此外，越容易具有纖
維嵌入的谷部。關于這一點，若最大高度Rz為6.8μm以下，則可使位于蒸鍍掩模的表面的峰部具有不易掛住纖維的高度，并且谷部具有纖維不易嵌入的深度。
[0013]在上述蒸鍍掩模中也可以是，具備：凹陷，位于所述柵格構造的柵格線；以及頂部，位于所述柵格構造的柵格點、是所述凹陷彼此連接的部分，所述凹陷與所述頂部構成所述邊界。
[0014]在上述蒸鍍掩模中，所述頂部也可以為平面。根據該構成，位于大開口的對角方向的大開口之間不被蝕刻而殘留，由此頂部為平面，因此纖維更難以附著。
[0015]在上述蒸鍍掩模中也可以是，所述柵格構造具備在所述表面中線寬度較寬的第一柵格線、以及在所述表面中線寬度較窄的第二柵格線，所述第一柵格線與所述第二柵格線構成所述邊界，所述表面中的所述第一柵格線處的以JIS B 0601：2013為基準的算術平均粗糙度Ra，比所述表面中的所述第二柵格線處的以JIS B 0601：2013為基準的算術平均粗糙度Ra小。
[0016]根據上述構成，與第二柵格線相比與無塵紙的接觸面積較大的第一柵格線的算術平均粗糙度Ra，比第二柵格線的算術平均粗糙度Ra小，因此在蒸鍍掩模與無塵紙之間產生摩擦時，能夠抑制來自于無塵紙的纖維的脫離。
[0017]專利技術效果
[0018]根據本專利技術，能夠抑制纖維向蒸鍍掩模附著。
附圖說明
[0019]圖1是表示具備第一實施方式的蒸鍍掩模的掩模裝置中的構造的俯視圖。
[0020]圖2是表示第一實施方式的蒸鍍掩模中的構造的立體圖。
[0021]圖3是表示從與第一實施方式的蒸鍍掩模中的表面對置的視點觀察的構造的俯視圖。
[0022]圖4是表示從與第一實施方式的蒸鍍掩模中的背面對置的視點觀察的構造的俯視圖。
[0023]圖5是表示第一實施方式的蒸鍍掩模的構造的剖面圖。
[0024]圖6是示意地表示沿著將圖3所示的點A1與點A4連結的直線的、蒸鍍掩模的表面中的高度分布的曲線圖。
[0025]圖7是表示用于制造蒸鍍掩模用基材的軋制工序的工序圖。
[0026]圖8是表示用于制造蒸鍍掩模用基材的加熱工序的工序圖。
[0027]圖9是表示用于制造蒸鍍掩模的蝕刻工序的工序圖。
[0028]圖10是表示用于制造蒸鍍掩模的蝕刻工序的工序圖。
[0029]圖11是表示用于制造蒸鍍掩模的蝕刻工序的工序圖。
[0030]圖12是表示用于制造蒸鍍掩模的蝕刻工序的工序圖。
[0031]圖13是表示用于制造蒸鍍掩模的蝕刻工序的工序圖。
[0032]圖14是表示用于制造蒸鍍掩模的蝕刻工序的工序圖。
[0033]圖15是表示實施例以及比較例的蒸鍍掩模中的測定結果以及評價結果的表。
[0034]圖16是表示從與第二實施方式的蒸鍍掩模中的表面對置的視點觀察的構造的俯視圖。
[0035]圖17是表示從與第二實施方式的蒸鍍掩模中的背面對置的視點觀察的構造的俯視圖。
[0036]圖18是示意地表示沿著將圖16所示的點B1與點B2連結的直線的、蒸鍍掩模的表面中的高度分布的曲線圖。
[0037]圖19是示意地表示沿著將圖16所示的點C1與點C2連結的直線的、蒸鍍掩模的表面中的高度分布的曲線圖。
[0038]圖20是表示實施例以及比較例的蒸鍍掩模中的測定結果以及評價結果的表。
[0039]附圖標記說明
[0040]10
…
蒸鍍掩模
[0041]10a
…
圖案區域
[0042]10b
…
周邊區域
[0043]10F
…
表面
[0044]10H、20H
…
掩模孔
[0045]10M、20M
…
柵格構造
[0046]10R
…
背面
[0047]20M1
…
第一柵格線
[0048]20M2
…
第二柵格線
[0049]HC
…
中央開口
[0050]HL
…
大開口
[0051]HS
…
小開口。
具體實施方式
[0052][第一實施方式][0053]參照圖1至圖15對本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種蒸鍍掩模，為金屬制的蒸鍍掩模，所述蒸鍍掩模具備柵格構造，該柵格構造具備表面與背面，且具有劃分出多個掩模孔的二維的網眼狀，該多個掩模孔將位于所述表面的大開口與位于所述背面的小開口連接，在所述表面中，彼此相鄰的大開口的邊界處的以JIS B 0601：2013為基準的算術平均粗糙度Ra為1.35μm以下，所述邊界處的以JIS B 0601：2013為基準的最大高度Rz為6.8μm以下。2.如權利要求1所述的蒸鍍掩模，所述表面具備：凹陷，位于所述柵格構造的柵格線；以及頂部，位于所述柵格構...

【專利技術屬性】
技術研發人員：野本裕香，鍋谷廣美，桶屋雄太，
申請(專利權)人：凸版印刷株式會社，
類型：發明
國別省市：